BN团簇薄膜的制备及其场发射性质的研究的开题报告.docx

优秀毕业论文开题报告BN团簇薄膜的制备及其场发射性质的研究的开题报告一、研究背景及意义近年来，随着纳米技术的快速发展，纳米材料的制备和应用备受关注。其中，BN（氮化硼）团簇薄膜作为一种新型的纳米材料，具有许多独特的物理和化学性质，如高硬度、高热导率、高耐腐蚀性等，因此在微电子、光电子、纳米电子等领域有着广泛的应用前景。场发射作为一种重要的电子发射方式，其在电子器件和光学器件中具有广泛的应用。因此，研究BN团簇薄膜的场发射性质，对于深入了解其电子输运机制和探索其在电子器件中的应用具有重要意义。二、研究内容和方法本课题拟采用化学气相沉积（CVD）方法制备BN团簇薄膜，并通过场发射测试系统研究其场发射性质。具体研究内容包括：1.BN团簇薄膜的制备：采用CVD方法，在高温、高压下通过化学反应制备BN团簇薄膜。2.BN团簇薄膜的结构和性质表征：采用扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、X射线衍射（XRD）等表征手段，对BN团簇薄膜的结构和性质进行表征。3.BN团簇薄膜的场发射性质研究：采用场发射测试系统，研究BN团簇薄膜的场发射性质，包括场发射电流密度、场发射寿命等。三、预期成果及意义本研究拟制备出高质量的BN团簇薄膜，并研究其场发射性质。预期成果包括：1.成功制备出高质量的BN团簇薄膜，并对其进行结构和性质表征。2.研究BN团簇薄膜的场发射性质，探索其在电子器件中的应用前景。3.对BN团簇薄膜的制备和场发射性质进行深入探讨，为相关领域的研究提供参考和借鉴。四、研究计划及进度安排1.第一阶段（1-3个月）：文献调研，了解BN团簇薄膜的制备和场发射性质研究现状。2.第二阶段（4-6个月）：采用CVD方法制备BN团簇薄膜，并进行结构和性质表征。3.第三阶段（7-9个月）：采用场发射测试系统研究BN团簇薄膜的场发射性质。4.第四阶段（10-12个月）：分析实验结果，撰写论文，准备答辩。五、参考文献1.Zhang,B.,etal.(2019)."SynthesisandFieldEmissionPropertiesofBoronNitrideNanotubes."JournalofElectronicMaterials48(8):4784-4789.2.Liu,C.,etal.(2019)."Enhancedfieldemissionpropertiesofboronnitridenanosheetsbyoxygenplasmatreatment."JournalofAppliedPhysics126(21):215304.3.Li,X.,etal.(2018)."Fieldemissionpropertiesofboronnitridenanotubesascathodematerial."AppliedPhysicsA124(6):437.