高压屏蔽装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102687231A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102687231A(43)申请公布日2012.09.19(21)申请号201080055147.0(51)Int.Cl.(22)申请日2010.10.05H01J37/317(2006.01)(30)优先权数据61/250,3382009.10.09US(85)PCT申请进入国家阶段日2012.06.04(86)PCT申请的申请数据PCT/NL2010/0506492010.10.05(87)PCT申请的公布数据WO2011/043657EN2011.04.14(71)申请人迈普尔平版印刷IP有限公司地址荷兰代尔夫特(72)发明人J·J·科宁S·W·H·K·施藤布里克N·H·R·巴斯B·席佩尔(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人曹瑾权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书55页页附图附图33页按照条约第19条修改的权利要求书按照条约第19条修改的权利要求书11页页(54)发明名称高压屏蔽装置(57)摘要本发明涉及一种高压屏蔽装置，该装置包括：第一金属部件和邻近于所述第一金属部件定位的第二金属部件。包括在所述装置中的所述第二金属部件的被设定在比第一金属部件的电位低的电位上。所述第二金属部件包括一个或多个边缘以及一个绝缘体。该第二金属部件至少部分地被面对着第一金属部件的该绝缘体封装。CN1026873ACN102687231A权利要求书1/1页1.一种用于在带电粒子系统中使用的高压屏蔽装置，包括：第一金属部件，包括在所述装置中以被设定为第一电位；实质上薄的第二金属部件，例如涂层；所述第二金属部件被包括在所述装置中以被设定在第二电位上，导致了关于第一金属部件相对带负电；所述第二金属部件被定位在距所述第一金属部件一定距离处；所述第一和第二金属部件之间的所述距离限定了其中存在电场的放电区域；所述第二金属部件包括一个或多个边缘部件；以及所述装置进一步包括绝缘体，其特征在于：面对放电区域的所述一个或多个边缘部件被该绝缘体至少部分地封装，并且该第二金属部件被包括作为导电涂层。2.如权利要求1所述的屏蔽装置，所述屏蔽装置被包括在用于在目标上投影图像的投影装置设备中。3.如权利要求1或2所述的屏蔽装置，所述屏蔽装置被包括在带电粒子光刻系统的投影透镜中。4.如权利要求1，2或3所述的屏蔽装置，所述屏蔽装置被包括在投影透镜中以屏蔽高压投影光学器件和该投影透镜的外壁。5.如权利要求1，2，3或4所述的屏蔽装置，其中，第一金属部件作为导电涂层而被包括在环状的绝缘载体的外部边缘上，并与投影透镜的外壁相接触，第二金属部件作为环状的导电涂层而被包括在环状的绝缘载体的中央部件上，并且绝缘体作为放置在第二金属涂层的边缘上并全部覆盖第二金属涂层的边缘的环而被包括。6.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，第一和第二金属部件之间的相对电位差在1kV至10kV的范围内。7.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，放电区中的电场强度在10kV/mm至30kV/mm的范围内。8.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，该屏蔽装置防止电击穿和/或电子蠕变。9.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，第一金属部件被设定在地电位。10.一种包括根据前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置的带电粒子光刻机。2CN102687231A说明书1/5页高压屏蔽装置技术领域[0001]本发明涉及一种根据权利要求1的前序所定义的高压屏蔽设计，具体源自于在现代带电粒子光刻系统中应用已知的高压技术的愿望和需求。[0002]主要在高压工程领域遇到这些屏蔽设计。在已知的结构中，通常通过以特定的和相当大的距离间隔设置电路的正极和负极以防止电击穿。在其它的方案中，放电路径被延长了，例如，通过在所述路径中提供波动或其它类型的不平整。[0003]实践中已知类型的解决方案导致庞大的结构和/或复杂的结构。这在技术密集型领域尤其突出，并因此产生了非常不希望的光刻的成本和资本密集型环境。因此，本发明的一个目的是实现相当小的空间消耗和/或相对简单的屏蔽设计，特别是使高压部件能够在光刻环境中应用，更具体地在带电粒子光刻机器内部应用。背景技术[0004]这样的屏蔽设计特别适于(但不限于)用在带电粒子束投影系统中用以无掩模光刻。该系统一般是已知的，并由于缺少使用、改变和安装掩模的的必要性而具有按需制造和可能较低的工具成本的优点。该系统的一个例子，被公开在WO2007/013802中，包括在真空室中操作的带电粒子柱以及带电粒子源，所述带电粒子源包括带电粒子提取装置，用于从所述所提取的带电粒子创建多个平行小射束的装置，包括电极和多个静电透镜结构。该静电透镜用于聚焦和消除小射