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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102719434A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102719434A(43)申请公布日2012.10.10(21)申请号201110078975.2(22)申请日2011.03.31(71)申请人百奥迈科生物技术有限公司地址226016江苏省南通市经济技术开发区常兴路76号(72)发明人杜权梁子才(74)专利代理机构上海申汇专利代理有限公司31001代理人翁若莹(51)Int.Cl.C12N15/113(2010.01)C12N15/10(2006.01)A61K48/00(2006.01)权利要求书权利要求书11页页说明书说明书3737页页序列表序列表2727页页(54)发明名称抑制RNA干扰脱靶效应的特异性修饰(57)摘要本发明提供了一种化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子及其制备和应用方法。通过在siRNA分子正义链从5’端起第14位点或/和第16位点引入化学修饰的核苷酸,从而降低修饰的siRNA分子正义链引起的脱靶效应,增强修饰的siRNA分子对靶基因表达沉默的特异性。CN1027943ACN102719434A权利要求书1/1页1.分离的化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子,包含正义链(过客链)和反义链(引导链),其特征在于所述修饰的siRNA分子的正义链自5’端起第14位点的核苷酸为化学修饰的核苷酸。2.分离的化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子,包含正义链(过客链)和反义链(引导链),其特征在于所述修饰的siRNA分子的正义链自5’端起第16位点的核苷酸为化学修饰的核苷酸。3.分离的化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子,包含正义链(过客链)和反义链(引导链),其特征在于所述修饰的siRNA分子的正义链自5’端起第14位点和第16位点的核苷酸为化学修饰的核苷酸。4.根据权利要求1-3任一项所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述化学修饰选自以下修饰方式中的一种或几种:(1)对核苷酸中核糖的化学修饰;(2)对核苷酸中碱基的化学修饰;(3)对核苷酸之间磷酸二酯键的化学修饰。5.根据权利要求4所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述化学修饰为对核苷酸中核糖2’-OH的修饰。6.根据权利要求5所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述化学修饰为核苷酸中核糖2’-OH被甲氧基或氟取代。7.根据权利要求4所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述化学修饰为核苷酸之间的磷酸二酯键被硫代磷酸酯键取代。8.根据权利要求4所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述化学修饰为核苷酸的碱基被非RNA碱基取代。9.根据权利要求8所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述非RNA碱基选自胸腺嘧啶(thymine)、5-甲基胞嘧啶(5-methylcytosine)、异胞嘧啶(isocytosine)、假异胞嘧啶(pseudoisocytosine)、5-溴尿嘧啶(5-bromouracil)、5-丙炔基尿嘧啶(5-propynyluracil)、5-丙炔基-6-氟代尿嘧啶(5-propyny-6-fluoroluracil)、5-甲基噻唑尿嘧啶(5-methylthiazoleuracil)、6-氨基嘌呤(6-aminopurine)、2-氨基嘌呤(2-aminopurine)、肌苷(inosine)、2,6-二氨基嘌呤(2,6-diaminopurine)、7-丙炔基-7-脱氮腺嘌呤(7-propyne-7-deazaadenine)、7-丙炔基-7-脱氮鸟嘌呤(7-propyne-7-deazaguanine)、2-氯-6-氨基嘌呤(2-chloro-6-aminopurine)。10.根据权利要求8所述的化学修饰的siRNA分子,其特征在于所述化学修饰为核苷酸的碱基被DNA碱基取代。2CN102719434A说明书1/37页抑制RNA干扰脱靶效应的特异性修饰技术领域[0001]本发明涉及核酸技术领域,具体涉及一种具有降低正义链脱靶效应的化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子及其制备方法,以及该种修饰的siRNA分子在制备药物组合物中的应用。背景技术[0002]RNA干扰(RNAinterference,RNAi)是由双链RNA分子(double-strandedRNA,dsRNA)在mRNA水平降低同源基因表达的现象。RNA干扰技术又被形象地称为基因敲低(knock-down)或基因沉默(genesilencing),是一种转录后基因表达调控方法,因此又被称为转录后基因沉默(post-transcriptionalgenesilencing,PTGS)。最早有关RNA干扰的报道出现在1990年左右,由两个不同的研究