铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法.pdf
淑然****by
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相关资料
铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法.pdf
本发明涉及一种铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法。铝钕合金旋转溅射靶材包括本体,本体的最外层为氧化层,本体包括溅射端和分别位于溅射端两边的安装端,溅射端与安装端为一体成型。上述铝钕合金旋转溅射靶材中,一方面,溅射端与安装端为一体成型,这样能够避免焊接质量不良影响溅射效果;另一方面,本体的最外层为氧化层,保证了本体具有足够的硬度,从而不易损坏。上述整体使得本发明的铝钕合金旋转溅射靶材有利于应用。
一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法.pdf
本发明公开了一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法,属于高性能铝钪合金靶材技术领域。该铝钪合金靶材中,钪元素的含量为5at%‑50at%,其余为铝元素。其制备方法包括:步骤一备料、步骤二熔炼铸锭、步骤三煅打或轧制、步骤四取样检测、步骤五铣磨清洗、步骤六真空包装。本发明采用真空磁悬浮熔炼炉和快速铸造快速冷凝工艺,制备铝钪合金靶材的厚度:2‑35mm,致密度99.9%,钪元素的含量为5at%‑50at%,其余为铝元素。实现制备方法操作简单、合金均匀,昂贵的金属钪利用率高、有利于产业化应用。成分均匀性好且后续可加工性
金锗合金溅射靶材及其制备方法.pdf
一种金锗合金溅射靶材及其制备方法,该方法包括如下步骤:1.以金、锗金属为原料,利用真空感应熔炼和真空铸造获得共晶或亚共晶成分的金锗合金铸锭;其中,合金铸锭中锗含量为2wt.%~12.5wt.%,余量为金;2.利用加热炉对步骤1获得的合金铸锭进行均匀化热处理;均匀化热处理温度为270~340℃,时间为50~65min;3.利用塑性加工设备将铸锭沿厚度方向进行热塑性加工;4.每完成1~2道次加工将坯料于加热炉进行回火热处理,温度为270~340℃,时间为10~30min;5.重复3、4步骤,直到所需的靶坯尺寸
锌铝钕合金及其熔盐电解制备方法.pdf
本发明提供的是一种锌铝钕合金及其熔盐电解制备方法。在电解炉内,将质量配比为LiCl∶KCl∶AlF3=45%∶45%∶10%的熔盐体系,加热至450℃熔融后加入质量比为1∶5的Nd2O3与ZnCl2混合物,以金属钼为阴极,石墨为阳极,采取下沉阴极法,极距为5cm,电解温度450~480℃下,阴极电流密度为6.4A/cm2~12.7A/cm2,阳极电流密度0.5A/cm2,槽电压6.4~10.2V,经120分钟的电解沉积后,于800℃下保温2h,在熔盐电解槽中阴极附近得到液态Zn-Al-Nd合金,凝固后,得
一种高纯铝硅合金溅射靶材坯料及其制备方法.pdf
本发明为一种高纯铝硅合金溅射靶材坯料及其制备方法。一种高纯铝硅合金溅射靶材坯料的制备方法,包括:(1)将超纯铝与高纯硅真空熔融,配置成硅含量为7‑13wt%的中间合金熔体;(2)将中间合金熔体铸造成中间合金;(3)将超纯铝与中间合金真空熔融,配置成硅含量为0.9‑1.1wt%的高纯铝硅合金熔体;(4)将高纯铝硅合金熔体在线精炼,得精炼后的高纯铝硅合金熔体;(5)将精炼后的高纯铝硅合金熔体在线过滤,得铝液;(6)将铝液进行棒材坯料铸造,得所述的高纯铝硅合金溅射靶材坯料。本发明所述的一种高纯铝硅合金溅射靶材坯