气体传感器设备及制造该气体传感器设备的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112649386A(43)申请公布日2021.04.13(21)申请号202011073302.3(22)申请日2020.10.09(30)优先权数据19202863.72019.10.11EP(71)申请人迈来芯科技有限公司地址比利时特森德洛(72)发明人W·勒屯J·罗尔斯贾晓宁R·贝茨G·罗尔肯斯(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100代理人黄嵩泉张鑫(51)Int.Cl.G01N21/3504(2014.01)G01N21/01(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图4页(54)发明名称气体传感器设备及制造该气体传感器设备的方法(57)摘要一种气体传感器设备，该气体传感器设备被配置成测量预定的感兴趣的气体并且包括外壳，该外壳包括半导体基板并限定第一腔、透光的第二闭合腔和第三腔。第二腔介于第一腔和第三腔之间。第一腔包括用于接收被测气体的入口端口、用于排出被测气体的出口端口。第一腔还包括光源和测量传感器。第二腔被配置成作为包括密封地设置在第二腔中的一定体积的感兴趣的气体的气体滤光器，并且第三腔包括设置在其中的参考测量传感器。CN112649386ACN112649386A权利要求书1/2页1.一种被配置成测量预定的感兴趣的气体的气体传感器设备，所述设备包括：外壳，所述外壳包括半导体基板并限定第一腔、透光的第二闭合腔和第三腔，所述第二腔介于所述第一腔和所述第三腔之间；其中所述第一腔包括用于接收被测气体的入口端口、用于排出所述被测气体的出口端口、光源和测量传感器；所述第二腔被配置成作为包括密封地设置在所述第二腔中的一定体积的所述感兴趣的气体的气体滤光器；并且所述第三腔包括设置在其中的参考测量传感器。2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二腔包括界定所述第一腔和所述第三腔的透光孔。3.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一腔是基本上圆柱形的。4.如权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的设备，其特征在于，所述第二腔被设置成与所述第一腔相邻。5.如权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的设备，其特征在于，所述第三腔被设置成与所述第二腔相邻并且在所述第一腔外部。6.如权利要求1或权利要求2所述的设备，其特征在于，所述外壳进一步包括盖，所述盖被配置成与所述基板协作以限定所述第一腔、所述第二腔和所述第三腔。7.如权利要求6所述的设备，进一步包括：远离所述盖延伸的壁；其中所述壁与所述基板协作以限定所述第一腔、所述第二腔和所述第三腔。8.如权利要求7所述的设备，其特征在于，所述壁与所述盖一体形成。9.如权利要求6所述的设备，进一步包括：远离所述基板延伸的壁；其中所述壁与所述盖协作以限定所述第一腔、所述第二腔和所述第三腔。10.如权利要求1或权利要求2所述的设备，其特征在于，所述外壳包括反射内表面。11.如权利要求1或权利要求2所述的设备，其特征在于，所述基板包括相对于所述第一腔的第一沟槽和第二沟槽，所述光源被设置在所述第一沟槽中并且所述测量传感器被设置在所述第二沟槽中。12.如权利要求1或权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第三腔包括吸气剂。13.一种制造气体传感器设备的方法，所述方法包括：提供包括第一区域、第二区域和第三区域的基板；提供盖；在所述基板的所述第一区域内提供光源和测量传感器；在所述基板的所述第三区域内提供参考传感器；配置所述盖；以及将所述盖粘附到所述基板，所述基板和盖协作以限定界定所述第一区域的第一腔、界定所述第二区域的第二腔以及界定所述第三区域的第三腔；以及在所述第二腔中提供一定体积的感兴趣的气体；其中所述盖与所述基板协作，使得所述第一腔包括用于接收被测气体的入口和用于排出所2CN112649386A权利要求书2/2页述被测气体的出口端口。14.如权利要求13所述的方法，其特征在于：所述盖包括内壁；并且所述方法进一步包括：分别将屏蔽件粘附到所述内壁的暴露端；将所述盖相对于纵轴以非垂直角度定向；围绕所述纵轴旋转所述盖；以及在平行于纵轴的方向上施加反射材料层，所述屏蔽件基本上防止所述反射材料施加到所述内壁。15.如权利要求13或权利要求14所述的方法，进一步包括：在所述感兴趣的气体的气氛中将所述盖粘附到所述基板。3CN112649386A说明书1/5页气体传感器设备及制造该气体传感器设备的方法技术领域[0001]本发明涉及气体传感器设备，该气体传感器设备是例如包括光源、测量传感器和参考传感器、被配置成测量由被测气体对由光源发射的电磁辐射的吸收的类型。本发明还涉及制造气体传感器设备的方法，该方法是例如以允许测量由被测气体对由光源发射的电磁辐射的吸收的方式提供光源、测量传感器和参考传感器的类型。背景技术[0002]在气