镀膜工艺.ppt
书生****35
亲,该文档总共41页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~
相关资料
镀膜工艺.ppt
真空鍍膜工藝介紹電鍍(Electroplating)電鍍的目的電鍍的基本構成元素電鍍前處理流程電鍍處理流程(一)真空鍍膜真空鍍膜真空鍍膜真空鍍膜真空鍍膜真空賤鍍真空賤鍍真空賤鍍粒子碰撞原理:主要工艺流程:PVD主要生產設備21PVD鍍膜(鍍鈦)顏色系列23真空镀膜的优缺点真空镀膜的优缺点PAGE01NCVMProcessFlowNCVMNcvmQualityControlFuturePlanFuture相關問題相關問題相關問題相關問題硬化處理(Hardcoating)AG處理AF處
镀膜工艺简介.pptx
PVD镀膜工艺简介1234567891011121314151617181920212223242526
镀膜工艺介绍.pptx
镀膜工艺介绍内容1、溅射原理2、镀膜工艺过程溅射室内部结构3、产量和产能8点开始调试CEF16-50,走片速度为4m/min,调片3次,装载率为60%,生产完4000平米要到几点?生产用时为:任务单量/每小时产能=4000/(4×2.44×0.6×60)=11hours调试时间为:单次调片时间×调片次数+试镀时间+出片时间=(12×3+12+17)/60=1.1hours总生产时间:生产用时+调试时间=11+1.1=12.1hours答案:晚上8点可以生产完毕单次产量与设备利用率的关系4、镀膜生产组织5、
镀膜工艺00.pptx
2015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r0真空鍍膜真空鍍膜真空鍍膜真空鍍膜真空鍍膜真空賤鍍真空賤鍍真空賤鍍2015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r0真空镀膜的优缺点真空镀膜的优缺点2015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v1r02015.01.13v
多层镀膜工艺.pdf
多层镀膜工艺,包括以下步骤:对硅片表面进行氧化;待氧化层达到5~10nm后,对镀膜炉管进行抽真空,然后使用流量为3.0~8.0slm的NH3在高频辉光条件下形成等离子体对硅片表面进行预处理,依次沉积至少两层氮化硅薄膜。本发明通过在硅片表面增加氧代层,消除硅片表面大量的表面态,同时沉积多层氮化硅薄膜,大大提高了硅电池表面的钝化效果,降低硅电池表面的反射率,提高了硅电池的转换率。