图形渲染方法和装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115861516A(43)申请公布日2023.03.28(21)申请号202111115206.5(22)申请日2021.09.23(71)申请人华为技术有限公司地址518129广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼(72)发明人陈彦云林华达周鹏(74)专利代理机构北京龙双利达知识产权代理有限公司11329专利代理师王君肖鹂(51)Int.Cl.G06T15/06(2011.01)G06T15/80(2011.01)权利要求书3页说明书17页附图9页(54)发明名称图形渲染方法和装置(57)摘要本申请提供了一种图形渲染方法和装置，该方法包括：确定光线与物体相交的第一顶点；确定光线的邻域，该邻域内的光照分布与光线的第一个顶点的光照分布相近；确定该邻域内光线的入射光的光照分布，其中，入射光的光照分布与该邻域内的光照分布相近；基于该入射光的光照分布，确定光线的第二顶点；基于第一顶点和第二顶点，确定光线的路径。从而使得获取的路径更为高效，节约计算成本。CN115861516ACN115861516A权利要求书1/3页1.一种图形渲染方法，其特征在于，包括：确定光线与物体相交的第一顶点；确定所述光线的邻域，所述邻域内的光照分布与所述光线的第一个顶点的光照分布相近；确定所述邻域内光线的入射光的光照分布，所述入射光的光照分布与所述邻域内的光照分布相近；基于所述入射光的光照分布，确定所述光线的第二顶点；基于所述第一顶点和所述第二顶点，确定所述光线的路径。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述入射光的光照分布，确定所述光线的第二顶点，包括：基于邻域内光线的入射光的光照分布函数和邻域内光线的入射光的权重，执行重要性重采样；通过所述重要性重采样方法，获得所述光线的第二顶点。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：获取所述第一顶点和所述第二顶点的光照参数，基于所述光照参数，确定所述第一顶点的反射率以及所述第一顶点的光照强度；基于所述第一顶点反射率和所述光照强度，确定所述第一顶点的反射光的光照强度。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一顶点反射率β1是基于下述公式确定的，其中，f1为确定所述光线的路径后，所述第一顶点向所述第二顶点采样的双向散射分布函数BSDF，p1为确定所述光线的路径后，所述第一顶点向所述第二顶点采样的概率密度函数PDF，p1s为确定所述光线的路径前，第三顶点向所述第二顶点采样的PDF，所述第三顶点为确定所述光线路径前，邻域内原来照射所述第二顶点的点，w为重要性重采样的权重。5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述第一顶点的光照强度是所述第二顶点的光照强度反射到所述第一顶点所述获得的光照强度，其中，所述第二顶点的光照强度包括：所述第二顶点通过直接光照所获得的光照强度和所述第二顶点通过间接光所获得的光照强度。6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一顶点的光照强度I是基于下述公式确定的，其中，f2d为确定所述光线的路径后，所述第二顶点向光源采样的BSDF；p2d为确定所述光线的路径后，所述第二顶点向光源采样的PDF；p2L为确定所述光线的路径前，所述第二顶点向光源采样的PDF；2CN115861516A权利要求书2/3页f2i为确定所述光线的路径后，第二顶点向间接光方向采样的BSDF；p2i为确定所述光线的路径后，第二顶点向间接光方向采样的PDF；p2s为确定所述光线的路径前，第二顶点向间接光方向采样的PDF；为所述第二顶点直接光的光照强度；为所述第二顶点的间接光的光照强度。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，如果所述第二顶点为自发光体或者光源时，所述第一顶点的光照强度还包括：所述为自发光体或光源的光照强度。8.根据权利要求3至7中任一项所述的方法，其特征在于，所述光照参数包括：所述第一顶点和所述第二顶点的入射光的方向、入射光强、采样BSDF和采样PDF。9.一种图形渲染装置，所述装置包括：渲染线程单元、重采样单元，所述渲染线程单元用于确定光线与物体相交的第一顶点；所述重采样单元用于确定所述光线的邻域，所述邻域内的光照分布与所述光线的第一个顶点的光照分布相近；所述重采样单元还用于确定所述邻域内光线的入射光的光照分布，所述入射光的光照分布与所述邻域内的光照分布相近；所述重采样单元用于基于所述入射光的光照分布，确定所述光线的第二顶点；所述渲染线程单元还用于基于所述第一顶点和所述第二顶点，确定所述光线的路径。10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述重采样单元用于基于所述入射光的光照分布，确定所述光线的第二顶点，包括：所述重采样单元具体用于基于邻域内光线的入射光的光照分布函数和邻域内光线的