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半导体制造工艺第4章氧化第4章氧化4.1引言4.2二氧化硅膜的性质4.2二氧化硅膜的性质4.2二氧化硅膜的性质4.2二氧化硅膜的性质4.2二氧化硅膜的性质4.3二氧化硅膜的用途4.3二氧化硅膜的用途4.4热氧化原理4.4热氧化原理4.4热氧化原理4.4热氧化原理4.4热氧化原理4.4热氧化原理4.5氧化设备4.5氧化设备4.5氧化设备4.5氧化设备4.5氧化设备4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.6氧化膜的质量控制4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟4.7氧化工艺模拟