曝光装置和图像形成装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102189817A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102189817A(43)申请公布日2011.09.21(21)申请号201010590465.9(22)申请日2010.12.09(30)优先权数据2010-0629892010.03.18JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京(72)发明人米山博人西野洋平松村贵志山口义纪真下清和佐藤克洋(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人顾红霞段斌(51)Int.Cl.B41J2/45(2006.01)G03G15/00(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图7页(54)发明名称曝光装置和图像形成装置(57)摘要一种曝光装置和图像形成装置。本发明公开一种曝光装置，该曝光装置朝向构造为承载潜像的潜像承载部件发射光，形成在所述潜像承载部件上的所述潜像用于由显影装置所执行的显影处理中。所述曝光装置包括：第一发光单元，其包括沿所述潜像承载部件的主扫描方向设置的有机电致发光元件，所述第一发光单元朝向所述潜像承载部件发射光；以及第二发光单元，其沿所述主扫描方向设置，所述第二发光单元协同所述第一发光单元来校正使所述潜像承载部件曝光的光量。CN102897ACCNN110218981702189819A权利要求书1/2页1.一种曝光装置，其朝向构造为承载潜像的潜像承载部件发射光，形成在所述潜像承载部件上的所述潜像用于由显影装置所执行的显影处理中，所述曝光装置包括：第一发光单元，其包括沿所述潜像承载部件的主扫描方向设置的有机电致发光元件，所述第一发光单元朝向所述潜像承载部件发射光；以及第二发光单元，其沿所述主扫描方向设置，所述第二发光单元协同所述第一发光单元来校正使所述潜像承载部件曝光的光量。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述第二发光单元包括有机电致发光元件。3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，多个所述第一发光单元沿所述主扫描方向排列，并且所述第二发光单元的数量至少为一个，每个第二发光单元协同两个或更多个所述第一发光单元来校正使所述潜像承载部件曝光的光量。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，所述至少一个第二发光单元包括一个或更多个长方形元件，所述长方形元件设置为紧邻所述第一发光单元并且沿所述主扫描方向而排列。5.根据权利要求1或2所述的曝光装置，还包括：检测器，其检测从所述第一发光单元发出的光量，其中，当由所述检测器所检测出的光量减小时，所述第二发光单元发射光以补偿所述光量的不足。6.根据权利要求3所述的曝光装置，还包括：检测器，其检测从所述第一发光单元发出的光量，其中，当由所述检测器所检测出的光量减小时，所述第二发光单元发射光以补偿所述光量的不足。7.根据权利要求4所述的曝光装置，还包括：检测器，其检测从所述第一发光单元发出的光量，其中，当由所述检测器所检测出的光量减小时，所述第二发光单元发射光以补偿所述光量的不足。8.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，当所述第一发光单元发射光时所述第二单元发射光，从所述第二发光单元发出的光量被调节为使所述潜像承载部件的电位被限定在所述显影装置不会执行所述显影处理的范围内。9.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，当所述第一发光单元发射光时所述第二单元发射光，从所述第二发光单元发出的光量被调节为使所述潜像承载部件的电位被限定在所述显影装置不会执行所述显影处理的范围内。10.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，当所述第一发光单元发射光时所述第二单元发射光，从所述第二发光单元发出的光量被调节为使所述潜像承载部件的电位被限定在所述显影装置不会执行所述显影处理的范围内。11.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，从所述第二发光单元发出的光量基本恒定，并且由所述第一发光单元调节使所述潜像承载部件曝光的光量。12.根据权利要求9所述的曝光装置，其中，从所述第二发光单元发出的光量基本恒定，并且由所述第一发光单元调节使所述潜像承载部件曝光的光量。2CCNN110218981702189819A权利要求书2/2页13.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，从所述第二发光单元发出的光量基本恒定，并且由所述第一发光单元调节使所述潜像承载部件曝光的光量。14.一种图像形成装置，包括：潜像承载部件，其构造为承载潜像；根据权利要求1或2所述的曝光装置，所述曝光装置用光照射所述潜像承载部件以形成所述潜像；以及显影装置，其使用显影剂对所述潜像承载部件上的所述潜像进行显影。15.一种图像形成单元，包括：下述部件中的一者：构造为承载潜像的潜像承载部件，对所述潜像承载部件充电的充电装置，以及采用显影剂对所述潜像承载部件上的所述潜像进行显影的显影装置；以及根据权利要求1或2所述的曝光