一种防反射膜及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103293568A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103293568103293568A(43)申请公布日2013.09.11(21)申请号201310233298.6(22)申请日2013.06.13(71)申请人中国乐凯集团有限公司地址071054河北省保定市乐凯南大街6号(72)发明人张丽惠盖树人王广伟葛毅然孙蒙蒙(74)专利代理机构石家庄冀科专利商标事务所有限公司13108代理人李羡民郭绍华(51)Int.Cl.G02B1/11(2006.01)C09D4/02(2006.01)C09D7/12(2006.01)权利要求书1页权利要求书1页说明书8页说明书8页(54)发明名称一种防反射膜及其制备方法(57)摘要一种防反射膜及其制备方法，所述防反射膜包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，所述的低折射率层由包括：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；（b）两种粒径不同的无机颗粒；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；（d）粘合剂树脂；（e）硅烷偶联剂和（f）光引发剂的涂布液涂布在膜基材的至少一面经固化而形成。本发明制备工艺简单，通过不同的梯度干燥，使低折层的孔隙率更高、折射率更低。所述防反射膜既具有良好的防反射性能又具有优异的耐刮擦性能，满足液晶显示器、等离子显示器、电致发光显示器等图像显装置防反射、耐刮擦等性能的需求。CN103293568ACN10329568ACN103293568A权利要求书1/1页1.一种防反射膜，包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，其特征在于，所述低折射率层的制备原料包括：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；（b）两种粒径不同的无机颗粒；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；（d）粘合剂树脂；（e）硅烷偶联剂和（f）光引发剂；将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面经固化而形成。2.根据权利要求1所述的防反射膜，其特征在于，所述涂布液中各组分的重量份为：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物10～30份；（b）两种粒径不同的无机颗粒10～50份；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂40～80份；（d）粘合剂树脂3～5份；（e）硅烷偶联剂5～10份；（f）光引发剂0.3～10份。3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其特征在于，所述两种粒径不同的无机颗粒包括粒径为40～100纳米的无机颗粒和粒径为5～10纳米的无机颗粒。4.根据权利要求3所述的防反射膜，其特征在于，所述40～100纳米的无机颗粒和粒径为5～10纳米的无机颗粒之间的重量比为10～40:100。5.根据权利要求4所述的防反射膜，其特征在于，所述无机颗粒由选自硅、钛、铝中的至少一种元素的氧化物构成。6.根据权利要求5所述的防反射膜，其特征在于，所述沸点在100℃以下有机溶剂和100℃以上的有机溶剂之间的重量比为10～40:90～60。7.一种如权利要求1、2、3、4、5或6所述的防反射膜的制备方法，它包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，其特征在于，所述低折射率层的制备原料包括：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；（b）两种粒径不同的无机颗粒；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；（d）粘合剂树脂；（e）硅烷偶联剂和（f）光引发剂；将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面，经梯度干燥后，再经紫外固化，得到防反射膜。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述梯度干燥是指在70～80℃和100～130℃分别干燥30～60秒和5～20分钟。2CN103293568A说明书1/8页一种防反射膜及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及一种防反射膜及其制备方法。背景技术[0002]近年来，液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器(ELD)等图像显装置已经普遍应用在电视、电脑等领域。这些显示器在户外或光线明亮的场合使用时，由于外部光线在显示器表面的反射使显示器产生了图文显示不清晰和可视性极差的问题。为解决此类问题，通常将防反射膜放置在显示器的最外层利用光学干涉原理来降低反射率，从而提高画面质量。此外，由于防反射膜是用在显示装置的最外层，还应具有很好的耐刮擦性能。[0003]防反射膜的制备可以分为干法和湿法两种。干法利用溅射、蒸镀等干法生产的防反射膜防反射效果良好，表面硬度、耐刮擦等性能优良，但因利用真空而出现生产成本高、不易大面积化等问题。[0004]利用湿法制备防