清洁装置和液滴喷射装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106079901A(43)申请公布日2016.11.09(21)申请号201610031617.9(22)申请日2016.01.18(30)优先权数据2015-0930442015.04.30JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京(72)发明人松月优人户田安纪清水统佐伯崇井上雄一(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人顾红霞龙涛峰(51)Int.Cl.B41J2/165(2006.01)权利要求书2页说明书12页附图10页(54)发明名称清洁装置和液滴喷射装置(57)摘要本发明提供了一种清洁装置和液滴喷射装置，清洁装置包括：接触单元，其包括形成有开口的容器，所述容器容纳对喷射单元的形成面进行清洁的清洗液，在所述形成面上形成有喷射口，所述喷射口喷射液滴；以及超声波振子，其设置在所述容器处，并使容纳在所述容器中的所述清洗液振动，其中，在所述容器的所述开口面向所述形成面的状态下，所述接触单元使所述清洗液与所述形成面接触。CN106079901ACN106079901A权利要求书1/2页1.一种清洁装置，包括：接触单元，其包括形成有开口的容器，所述容器容纳对喷射单元的形成面进行清洁的清洗液，在所述形成面上形成有喷射口，所述喷射口喷射液滴；以及超声波振子，其设置在所述容器处，并使容纳在所述容器中的所述清洗液振动，其中，在所述容器的所述开口面向所述形成面的状态下，所述接触单元使所述清洗液与所述形成面接触。2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中，所述容器包括底板和侧板，所述侧板的一端与所述底板连接，并且所述超声波振子设置在所述底板上。3.根据权利要求1所述的清洁装置，其中，所述容器包括底板和至少一个侧板，所述至少一个侧板的一端与所述底板连接，并且所述超声波振子设置在所述至少一个侧板中的一者上。4.根据权利要求3所述的清洁装置，其中，所述至少一个侧板包括多个侧板，并且设置有所述超声波振子的所述侧板相对于所述容器的所述开口面向所述形成面的方向而倾斜，使得设置有所述超声波振子的所述侧板与面向设置有所述超声波振子的所述侧板的侧板之间的距离沿所述容器的所述开口面向所述形成面的方向而向上逐渐增大。5.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，面向设置有所述超声波振子的所述侧板的侧板相对于所述容器的所述开口面向所述形成面的方向而倾斜，使得设置有所述超声波振子的所述侧板和面向设置有所述超声波振子的所述侧板的侧板的相对表面朝向所述形成面。6.根据权利要求3至5中任一项所述的清洁装置，其中，所述喷射单元具有细长形状，所述超声波振子沿所述喷射单元的纵向振动，以在容纳于所述容器内的所述清洗液中产生驻波，并且所述清洁装置还包括移动单元，所述移动单元沿所述纵向相对于所述喷射单元移动所述容器。7.根据权利要求1至6中任一项所述的清洁装置，其中，所述接触单元包括供应单元，所述供应单元向所述容器供应所述清洗液，使得所述清洗液从所述容器与所述形成面之间的间隙溢出。8.根据权利要求1至7中任一项所述的清洁装置，还包括：振动单元，其使所述超声波振子在多个频率下振动；以及选择单元，通过所述选择单元输入所述多个频率中的所述振动单元使所述超声波振子振动的频率的选择指令。9.一种液滴喷射装置，包括：喷射单元，其从喷射口喷射液滴，并且所述喷射口形成在所述喷射单元的形成面上；以及2CN106079901A权利要求书2/2页根据权利要求1至8中任一项所述的清洁装置，其对所述形成面进行清洁。3CN106079901A说明书1/12页清洁装置和液滴喷射装置技术领域[0001]本发明涉及一种清洁装置和液滴喷射装置。背景技术[0002]JP-A-2005-28758公开了一种用于喷墨记录头的清洁装置，该清洁装置具有：超声波振动元件，其使超声波在700kHz以上的频率下振荡，并且激励清洗液振动；以及加压泵，其对清洗液进行加压，并且从喷嘴沿与喷射方向相反的方向喷射清洗液。[0003]JP-A-2009-149041公开了一种用于喷墨头的清洁装置，该清洁装置设置有内部存储清洗液的清洗槽和布置在清洗槽中的超声波振子。清洗槽具有开口，开口通过附着在喷嘴板上而围绕形成在喷嘴板上的所有喷嘴。此外，超声波振子具有振动板，振动板以一定间隔平行地面向喷嘴板的附着有开口的表面。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种这样的清洁装置：与通过擦拭形成有喷射液滴的喷射口的形成面来去除喷嘴形成面上的异物的情况相比，利用本发明的清洁装置不容易使喷射单元的形成面劣化。[0005][1]本发明的一个方面提供一种清洁装置，包括：接触单元，其包括形成有开口的容器，所述容器容纳对喷射单元的形成面进行清洁的清洗液，在所述形成面上形成