电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106556978A(43)申请公布日2017.04.05(21)申请号201610127376.8(22)申请日2016.03.07(30)优先权数据2015-1885802015.09.25JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京都(72)发明人平方昌记胜原秀弥木越阳一岩永刚鸟越诚之今井孝史佐野龙辉(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人李辉黄纶伟(51)Int.Cl.G03G5/147(2006.01)权利要求书1页说明书26页附图5页(54)发明名称电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置(57)摘要本发明公开了一种电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置，该电子照相感光元件包括导电基底；有机感光层，其设置在所述导电基底上并且包括一构成表面的层，所述层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量％以上的二氧化硅颗粒；以及无机保护层，其设置在所述有机感光层上并且具有5nm以下的表面粗糙度Ra。CN106556978ACN106556978A权利要求书1/1页1.一种电子照相感光元件，其特征在于，包括：导电基底；有机感光层，其设置在所述导电基底上并且包括一构成表面的层，所述层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量％以上的二氧化硅颗粒；以及无机保护层，其设置在所述有机感光层上并且具有5nm以下的表面粗糙度Ra。2.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述无机保护层的表面粗糙度Ra为4.5nm以下。3.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述无机保护层的表面粗糙度Ra为4.0nm以下。4.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述无机保护层的表面粗糙度Ra为3.5nm以下。5.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述有机感光层包括依次堆叠在所述导电基底上的电荷产生层和电荷输送层，所述电荷输送层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量％以上的二氧化硅颗粒。6.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述二氧化硅颗粒的含有量为45重量％以上。7.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述二氧化硅颗粒的含有量为50重量％以上。8.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述二氧化硅颗粒的含有量为70重量％以下。9.根据权利要求1所述的电子照相感光元件，其中，所述二氧化硅颗粒的体积平均粒径为20nm以上且200nm以下。10.一种处理盒，可装卸地连接到图像形成装置上，其特征在于，包括：根据权利要求1至9中任一项所述的电子照相感光元件。11.一种图像形成装置，其特征在于，包括：根据权利要求1至9中任一项所述的电子照相感光元件；充电单元，其对所述电子照相感光元件进行充电；潜像形成单元，其在处于充电状态的所述电子照相感光元件的表面形成潜像；显影单元，其利用调色剂将所述电子照相感光元件的所述表面上的所述潜像显影以形成调色剂图像；清洁单元，其去除所述电子照相感光元件的所述表面残留的调色剂；以及转印单元，其将所述电子照相感光元件的所述表面上的所述调色剂图像转印到记录介质上。2CN106556978A说明书1/26页电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置技术领域[0001]本发明涉及一种电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置。背景技术[0002]电子照相术是一种广泛且普遍用于复印机、打印机等的技术。近年来，出现了一种在电子照相图像形成装置中使用的电子照相感光元件(下文可简称为“感光元件”)的感光层表面设置表面层(保护层)的技术。[0003]例如，作为感光元件的表面层已知的有硬质无机薄膜(例如，参考日本专利文献特开2007-310300、2008-268410和2010-181820号公报)。[0004]还已知一种感光元件，其至少包括导电基底上的有机感光层，其中构成最外表面层的一层含有树脂以及二氧化硅颗粒(例如，参考日本专利文献特开07-261417和2008-176056号公报)。发明内容[0005]本发明的目的在于，提供一种包括无机保护层的电子照相感光元件，其中与当所述无机保护层的表面粗糙度Ra超过5nm时相比，抑制了清洁刮板的变形的发生。[0006]本发明的目的可通过以下特征达到。[0007]根据本发明的第一方面，提供一种电子照相感光元件，其包括导电基底；有机感光层，其设置在所述导电基底上并且包括一构成表面的层，所述层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量％以上的二氧化硅颗粒；以及无机保护层，其设置在所述有机感光层上并且具有5nm以下的表面粗糙度Ra。[0008]根据本发明的第二方面，所述无机保护层的表面粗糙度Ra为4.5nm以下。[0009]根据本发明的第三