转印装置与图像形成设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106980252A(43)申请公布日2017.07.25(21)申请号201610811496.X(22)申请日2016.09.08(30)优先权数据2016-0064132016.01.15JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京都(72)发明人河尻哲尚高桥义典(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人王小东(51)Int.Cl.G03G15/16(2006.01)权利要求书1页说明书9页附图8页(54)发明名称转印装置与图像形成设备(57)摘要本发明涉及转印装置与图像形成设备，该转印装置包括：二次转印辊，该二次转印辊具有弹性层和表面层，该表面层设置为与所述弹性层的外侧紧密接触，并且所述二次转印辊旋转以将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质上；刮擦构件，该刮除构件与所述二次转印辊接触以刮除所述表面层的附着物；以及按压构件，该按压构件沿所述二次转印辊的旋转方向在与所述中间转印体的接触部的下游侧上以及所述刮擦构件的上游侧上压靠所述表面层，并且所述按压构件沿顺着所述二次转印辊的旋转的方向旋转。CN106980252ACN106980252A权利要求书1/1页1.一种转印装置，该转印装置包括：二次转印辊，该二次转印辊具有弹性层和表面层，该表面层设置为与所述弹性层的外侧紧密接触，并且所述二次转印辊旋转以将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质上；刮擦构件，该刮擦构件与所述二次转印辊接触以刮除所述表面层的附着物；以及按压构件，该按压构件沿所述二次转印辊的旋转方向在与所述中间转印体的接触部的下游侧上以及所述刮擦构件的上游侧上压靠所述表面层，并且所述按压构件沿顺着所述二次转印辊的旋转的方向旋转。2.根据权利要求1所述的转印装置，该转印装置还包括：驱动单元，该驱动单元沿顺着所述二次转印辊的所述旋转的方向驱动所述按压构件。3.根据权利要求1或2所述的转印装置，其中，金属板状抵接构件用作所述刮擦构件。4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印装置，其中，所述二次转印辊的所述表面层在与所述刮擦构件的接触位置处的最大波形高度小于或者等于色调剂的体积平均粒径的1/2。5.一种包括根据权利要求1至4中任一项所述的转印装置的图像形成设备，其中，所述中间转印体的所述表面上的所述色调剂图像的一部分借助所述二次转印辊转印到所述记录介质的包括边缘的区域上。2CN106980252A说明书1/9页转印装置与图像形成设备技术领域[0001]本发明涉及转印装置与图像形成设备。背景技术[0002]日本未审专利申请特开2010-002564号公告中公开了这样一种结构，该结构包括：刷辊，该刷辊接触中间转印带的表面旋转以移除转印残留色调剂；以及辅助清洁构件，该辅助清洁构件在中间转印带的移动方向上的刷辊的下游侧上与中间转印带的表面接触并且移除余留的转印残留色调剂。辅助清洁构件由诸如聚氨酯泡沫之类的泡沫形成。[0003]日本未审专利申请特开2005-024692号公告公开了这样一种结构，该结构包括：刮板，该刮板清洁转印体的表面；以及第一辅助构件与第二辅助构件，第一辅助构件和第二辅助构件沿转印体的旋转方向在刮板的下游侧上分别与转印体的轴向中心部和两个轴向端部的表面接触，并且擦拭这些部分。第一辅助构件与第二辅助构件均由聚氨酯泡沫垫等形成。[0004]日本未审专利申请特开2005-233991号公告公开了这样一种结构，该结构包括：刮板，该刮板移除余留在转印体上的残留物；以及在转印体的旋转方向上位于刮板的下游侧的刮擦构件，该刮擦构件辅助清洁余留在转印体上的残留物。刮擦构件由例如聚氨酯泡沫形成。[0005]转印装置包括二次转印辊，在该二次转印辊中，表面层在不与弹性层粘合的情况下紧密接触弹性层的外侧，在这样的转印装置中，当刮擦构件触及二次转印辊的表面时，有时由表面层的波痕引起所谓的薄膜覆盖(filming)，在薄膜覆盖中，色调剂组份薄薄地粘附至位于二次转印辊中的弹性层的外侧上的表面层。发明内容[0006]因此，本发明的一个目的是获得这样一种转印装置，与不设置压靠二次转印辊的位于擦除构件的上游侧上的表面层的按压构件的结构相比，所述转印装置抑制擦除构件的清洁性能的劣化。[0007]根据本发明的第一方面，提供一种转印装置，该转印装置包括：二次转印辊，该二次转印辊具有弹性层与表面层，该表面层与所述弹性层的外侧紧密接触，并且所述二次转印辊旋转以将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质上；刮擦构件，该刮除构件与所述二次转印辊接触以刮除所述表面层的附着物；以及按压构件，该按压构件在沿所述二次转印辊的旋转方向的与所述中间转印体的接触部的下游侧上以及所述刮擦构件的上游侧上压靠所述表面层，