显示装置及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107039490A(43)申请公布日2017.08.11(21)申请号201611048800.6(22)申请日2016.11.23(30)优先权数据10-2015-01705142015.12.02KR(71)申请人乐金显示有限公司地址韩国首尔(72)发明人朴元熏柳元相赵大揆宋永圭申东菜表胜恩(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人李辉刘久亮(51)Int.Cl.H01L27/32(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图12页(54)发明名称显示装置及其制造方法(57)摘要公开了一种显示装置及其制造方法。该显示装置包括：基板，该基板包括具有多个子像素的显示区域以及在该显示区域周围的边框区域；以及至少一个绝缘层，所述至少一个绝缘层位于所述基板上并且具有抑制裂纹在所述边框区域中传播的通孔。CN107039490ACN107039490A权利要求书1/2页1.一种显示装置，该显示装置包括：基板，该基板包括具有多个子像素的显示区域以及在该显示区域周围的边框区域；以及至少一个绝缘层，所述至少一个绝缘层位于所述基板上并且具有抑制裂纹在所述边框区域中传播的通孔。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述通孔被配置为阻止湿气渗透通过所述裂纹。3.根据权利要求1所述的显示装置，该显示装置还包括：位于所述至少一个绝缘层上的钝化层，该钝化层覆盖所述通孔并且包括被配置为阻止湿气从所述显示装置的边缘渗透的一个或更多个开口。4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述至少一个绝缘层包括第一缓冲层、第二缓冲层、栅极绝缘层、第一层间介质层和第二层间介质层中的至少一个。5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述通孔穿过所述第二缓冲层、所述栅极绝缘层、所述第一层间介质层和所述第二层间介质层。6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述钝化层通过所述通孔与所述第一缓冲层接触。7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述通孔包围所述显示区域。8.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述一个或更多个开口与所述通孔分开。9.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述一个或更多个开口包围所述显示区域，并且与所述通孔平行地设置。10.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述一个或更多个开口和所述通孔被交替地设置。11.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述一个或更多个开口和所述通孔从平面的角度来看具有环形状。12.一种用于制造显示装置的方法，该方法包括以下步骤：在具有显示区域和边框区域的基板上堆叠至少一个无机绝缘层；以及在所述边框区域中的所述至少一个无机绝缘层上形成被配置为抑制裂纹在所述边框区域中传播的通孔。13.根据权利要求12所述的方法，该方法还包括以下步骤：利用具有一个或更多个开口区域的钝化层来覆盖所述至少一个无机绝缘层。14.根据权利要求12所述的方法，其中，堆叠所述至少一个无机绝缘层的步骤包括以下步骤：在所述基板上形成第一缓冲层；在所述第一缓冲层上形成第二缓冲层；在位于所述第二缓冲层上的半导体层上形成栅极绝缘层；在位于所述栅极绝缘层上的第一栅极上形成第一层间介质层；以及在位于所述第一层间介质层上的第二栅极上形成第二层间介质层。15.根据权利要求14所述的方法，其中，形成所述通孔的步骤包括以下步骤：对所述第二缓冲层、所述栅极绝缘层、所述第一层间介质层和所述第二层间介质层中2CN107039490A权利要求书2/2页的至少一个进行蚀刻，以形成使所述边框区域的所述第一缓冲层暴露的所述通孔。16.根据权利要求15所述的方法，该方法还包括以下步骤：对所述显示区域的所述第二缓冲层、所述栅极绝缘层、所述第一层间介质层和所述第二层间介质层中的至少一个进行蚀刻，以形成使所述半导体层和所述第二栅极暴露的接触孔。17.根据权利要求13所述的方法，该方法还包括以下步骤：对所述钝化层进行蚀刻以在所述钝化层中形成所述一个或更多个开口区域。18.一种显示设备，该显示设备包括：基板，该基板具有显示区域和非显示区域；以及裂纹防止图案，该裂纹防止图案形成在所述非显示区域中并且包围所述显示区域，所述裂纹防止图案包括所述非显示区域处的一个或更多个绝缘层中的一个或更多个不连续部分。19.根据权利要求18所述的显示设备，其中，所述不连续部分由所述非显示区域处的所述一个或更多个绝缘层中的壁和间隙构成。20.根据权利要求19所述的显示设备，该显示设备还包括覆盖所述壁中的一个或更多个并且填充在所述间隙内的钝化层，并且所述钝化层具有与所述裂纹防止图案的所述间隙不交叠的一个或更多个开口。3CN107039490A说明书1/10页显示装置及其制造方法技术领域[0001]本公开涉及显示装置及其制造方法。更