记录介质和图像形成设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107239016A(43)申请公布日2017.10.10(21)申请号201610815562.0(22)申请日2016.09.09(30)优先权数据2016-0634552016.03.28JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京都(72)发明人西野翼竹井刚原田胜巳(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人王小东(51)Int.Cl.G03G15/00(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图4页(54)发明名称记录介质和图像形成设备(57)摘要本发明涉及记录介质和图像形成设备。记录介质包括：第一基材，该第一基材被发送到图像形成设备内以形成图像并且具有第一粘合层；第二基材，该第二基材具有将被粘结至所述第一粘合层的第二粘合层；以及至少一个存储构件，该至少一个存储构件布置在所述第一粘合层和所述第二粘合层之间，其中一缝包围至少所述存储构件并且具有从所述第一基材到所述第二粘合层的深度，并且其中所述存储构件在被所述缝包围的区域中设置在将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧。CN107239016ACN107239016A权利要求书1/2页1.一种记录介质，该记录介质包括：第一基材，该第一基材被发送到图像形成设备内以形成图像并且具有第一粘合层；第二基材，该第二基材具有将被结合至所述第一粘合层的第二粘合层；以及至少一个存储构件，该至少一个存储构件布置在所述第一粘合层和所述第二粘合层之间，其中一缝包围至少所述存储构件并且具有从所述第一基材到所述第二粘合层的深度；并且其中所述存储构件在被所述缝包围的区域中设置在将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧。2.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述存储构件与将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧上的所述缝之间的距离比设置在所述图像形成设备中的输送路径上的第一供送构件与位于所述输送路径的下游侧并相邻于所述第一供送构件的第二供送构件之间的距离短。3.根据权利要求2所述的记录介质，其中所述第一供送构件和所述第二供送构件之间的所述输送路径具有弯曲形状；并且其中形成所述缝的那一侧布置在所述输送路径的弯曲外侧，从而当所述记录介质经过所述第一供送构件和所述第二供送构件之间的所述输送路径时，所述记录介质沿着将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧的所述缝弯曲。4.根据权利要求2或3所述的记录介质，其中所述第二基材包括所述第二粘合层以及释放构件，所述第二粘合层以可拆卸的方式施加至所述释放构件；并且其中当所述记录介质经过所述第一供送构件和所述第二供送构件之间的所述输送路径时，所述第二粘合层和所述释放构件在所述存储构件那一侧在所述缝中从彼此释放。5.根据权利要求1至4中任一项所述的记录介质，其中所述第一基材包括：所述第一粘合层；含有树脂材料的基材层；以及涂覆层，该涂覆层至少设置在将在所述基材层上形成图像的那一侧上。6.根据权利要求1至5中任一项所述的记录介质，其中在被所述缝包围的区域的外侧设置有空白；并且其中位于将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧的空白比首先发送到所述图像形成设备内的那一侧的空白宽。7.根据权利要求1至6中任一项所述的记录介质，其中在首先发送到所述图像形成设备内的那一侧设置有标记。8.一种图像形成设备，该图像形成设备包括：图像形成设备本体；输送记录介质的输送路径；所述记录介质包括：第一基材，该第一基材被发送到所述图像形成设备本体内以形成图像并且具有第一粘合层；第二基材，该第二基材具有将被结合至所述第一粘合层的第二粘合层；以及至少一个2CN107239016A权利要求书2/2页存储构件，该至少一个存储构件布置在所述第一粘合层和所述第二粘合层之间，其中一缝包围至少所述存储构件并且具有从所述第一基材到所述第二粘合层的深度，所述存储构件在被所述缝包围的区域中设置在将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧，设置在所述输送路径上的第一供送构件；以及在所述输送路径的下游侧与所述第一供送构件相邻地设置的第二供送构件，其中所述第一供送构件和所述第二供送构件之间的距离比所述记录介质的将被较晚地发送到所述图像形成设备内的那一侧的所述缝和所述存储构件之间的距离长。3CN107239016A说明书1/8页记录介质和图像形成设备技术领域[0001]本发明涉及一种记录介质和图像形成设备。背景技术[0002]例如，作为涉及在具有电路装置诸如RFID(射频识别)的纸之类的记录介质上形成图像的图像形成设备的发明，专利文献1公开了一种图像形成设备，该图像形成设备包括：输送单元，该输送单元输送具有RFID芯片的记录介质；RFID传感器，该RFID传感器固定地放置在图像形成设备上以与待输送的记录介质在宽度方向上的