擦拭装置及排出装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108621581A(43)申请公布日2018.10.09(21)申请号201711282907.1(22)申请日2017.12.07(30)优先权数据2017-0546472017.03.21JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京都(72)发明人真锅力原和幸平塚昌史片冈雅树(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人王小东(51)Int.Cl.B41J2/165(2006.01)权利要求书2页说明书11页附图15页(54)发明名称擦拭装置及排出装置(57)摘要本发明提供擦拭装置及排出装置。该擦拭装置包括：接触构件，此接触构件具有顶端部与基端部，所述顶端部构造成用来接触喷嘴表面；支撑构件，此支撑构件沿所述喷嘴表面朝一侧相对移动，并且支撑所述接触构件的所述基端部，使得所述接触构件能朝所述一侧以及与所述一侧相反的另一侧摇摆；以及复位构件，此复位构件设置在所述支撑构件处，并且通过借助所述复位构件的复位力沿朝所述一侧的摇摆方向推动或者牵拉所述接触构件而将所述接触构件的所述顶端部按压至所述喷嘴表面。CN108621581ACN108621581A权利要求书1/2页1.一种擦拭装置，该擦拭装置包括：接触构件，此接触构件具有顶端部与基端部，所述顶端部构造成用来接触喷嘴表面；支撑构件，此支撑构件沿所述喷嘴表面朝一侧相对移动，并且支撑所述接触构件的所述基端部,使得所述接触构件能朝所述一侧以及与所述一侧相反的相反侧摇摆；以及复位构件，此复位构件设置在所述支撑构件处，并且通过借助所述复位构件的复位力沿朝所述一侧的摇摆方向推动或者牵拉所述接触构件而将所述接触构件的所述顶端部按压至所述喷嘴表面。2.根据权利要求1所述的擦拭装置，该擦拭装置进一步包括：限制部分，此限制部分通过限制所述接触构件朝所述相反侧的摇摆移动超出预定范围,使所述接触构件以弯曲方式变形从而使得所述顶端部朝所述相反侧弯曲，并且使所述顶端部借助所述接触构件的弹力被按压至所述喷嘴表面；以及调节机构，此调节机构调节所述接触构件的所述顶端部与所述喷嘴表面沿与所述喷嘴表面相交的方向重叠的重叠量。3.根据权利要求1或者2所述的擦拭装置，其中，所述复位构件是轴向方向沿所述喷嘴表面布置的螺旋弹簧。4.根据权利要求1或者2所述的擦拭装置，其中，所述复位构件是轴向方向布置成与所述喷嘴表面相交的螺旋弹簧。5.一种擦拭装置，该擦拭装置包括：接触构件，此接触构件具有顶端部与基端部，所述顶端部构造成接触喷嘴表面；支撑构件，此支撑构件沿所述喷嘴表面朝一侧相对移动，并且支撑所述接触构件的所述基端部，使得所述接触构件能沿朝所述喷嘴表面的接触方向以及离开所述喷嘴表面的分离方向移动；复位构件，此复位构件设置在所述支撑构件处，并且通过借助所述复位构件的复位力沿所述接触方向推动或者牵拉所述接触构件而将所述接触构件的所述顶端部按压至所述喷嘴表面；限制部分，此限制部分通过限制所述接触构件在所述分离方向上的移动超出预定范围，使所述接触构件弹性变形，并且使所述顶端部借助所述接触构件的弹力被按压至所述喷嘴表面；以及调节机构，此调节机构调节所述接触构件的所述顶端部与所述喷嘴表面沿与所述喷嘴表面相交的方向重叠的重叠量。6.一种排出装置，该排出装置包括：排出部分，此排出部分包括喷嘴表面，此喷嘴表面具有排出液体的喷嘴；以及根据权利要求1至5中任一项所述的擦拭装置，在此擦拭装置中，所述接触构件接触所述喷嘴表面并且借助所述支撑构件朝所述一侧的相对移动而擦拭所述喷嘴表面。7.根据权利要求6所述的排出装置，其中，所述擦拭装置是根据权利要求2所述的擦拭装置，并且其中，所述排出装置具有包括第一模式与第二模式的两种模式，在所述第一模式中，所述接触构件在所述预定范围内朝所述相反侧摇摆，并且所述接触构件的所述顶端部借助所述复位构件的复位力被按压至所述喷嘴表面；并且在所述第二模式中，所述接触构件朝所2CN108621581A权利要求书2/2页述相反侧超出预定范围的摇摆移动被所述限制部分限制，并且所述接触构件的所述顶端部借助所述接触构件的弹力被按压至所述喷嘴表面。3CN108621581A说明书1/11页擦拭装置及排出装置技术领域[0001]本发明涉及擦拭装置以及排出装置。背景技术[0002]日本未审专利申请特开平10-278285号公报公开了用于喷墨记录头的清洁机构。此清洁机构使擦拭构件接触具有喷墨记录头的喷嘴的表面并且移除粘附至此表面的粘附物质。清洁机构能够选择擦拭构件以第一压力接触具有喷嘴的表面的状态以及擦拭构件以低于第一压力的第二压力接触所述表面的状态。[0003]就构造而言，诸如擦拭构件之类的接触构件布置在记录头旁边使得接触构件的顶端部在与喷嘴表面相交的