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真空沉积设备和用于涂覆基底的方法.pdf
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用于涂覆基底的真空沉积设备和方法.pdf
本发明涉及用于在包括真空室的真空沉积设备内部在移动的基底上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法；在基底的两侧上涂覆有至少一种金属的经涂覆的基底；以及真空沉积设备。
2023-12-03
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真空沉积设备和用于涂覆基底的方法.pdf
本发明涉及真空沉积设备，其用于在移动的基底上连续地沉积由金属或金属合金形成的涂层，并且包括：‑中央壳体，所述中央壳体包括蒸气喷射涂布机，所述中央壳体的内壁适合于被加热至高于金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度，‑蒸气捕集器，所述蒸气捕集器位于中央壳体的基底出口处，蒸气捕集器的内壁适合于保持在低于金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度下，‑通道，所述通道将中央壳体连接至蒸气捕集器，包括至少从中央壳体的内壁延伸至蒸气捕集器的内壁的至少一个热连接器。
2023-12-03
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真空沉积设备和用于涂覆基底的方法.pdf
本发明涉及真空沉积设备，所述真空沉积设备用于在移动的基底上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层，所述设备包括真空室和用于使基底沿给定路径移动通过真空室的装置，其中真空室还包括：‑中央壳体，所述中央壳体包括蒸气喷射涂覆机以及位于中央壳体的两个相对侧上的基底入口和基底出口，中央壳体的内壁适合于被加热至高于金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度；‑蒸气捕集器，所述蒸气捕集器位于中央壳体的基底出口处呈外部壳体的形式，蒸气捕集器的内壁适合于保持在低于金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度下。
2023-12-03
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本发明题为用于涂覆具有开孔的基底的方法。本发明公开了一种用于具有至少一个开孔的部件的涂覆方法，该方法包括：提供部件，该部件具有形成于其表面中的至少一个开孔；在该表面的一部分上增材制造中空构件以限定每个开孔上方的空间，该表面的该部分与该开孔相邻，该中空构件具有与开孔中的至少一个开孔的周边几何形状互补的内周边几何形状；在该部件的该表面之上并围绕中空构件涂敷至少一种涂料以形成具有被涂敷涂层厚度的被涂敷涂层；以及移除该中空构件的至少一部分以使该中空构件的顶部部分与该被涂敷涂层共面，以暴露穿过该被涂敷涂层的该空间；
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具有氮化钼层体系的基底和用于制造层体系的涂覆方法.pdf
因此,本发明涉及具有被设计为表面涂层的多层的层体系(2)的基底(1),所述层体系具有包含无定形碳的外覆盖层(3)。根据本发明,在基底(1)和覆盖层(3)之间提供至少一个第一Mo<base:Sub>a</base:Sub>N<base:Sub>x</base:Sub>支撑层(4),所述支撑层(4)具有参考Mo含量a计在25原子%≤x≤55原子%的范围内的氮含量x,其中x+a=100原子%。此外,本发明涉及用于制造基底(1)的涂覆方法。
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