带电构件、带电装置、处理盒及图像形成装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111722496A(43)申请公布日2020.09.29(21)申请号201910837819.6(22)申请日2019.09.05(30)优先权数据2019-0529812019.03.20JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京港区赤坂9丁目7番3号(72)发明人衣田康彦泊省吾小林纮子成田幸介(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司11205代理人罗英臧建明(51)Int.Cl.G03G15/02(2006.01)权利要求书1页说明书17页附图3页(54)发明名称带电构件、带电装置、处理盒及图像形成装置(57)摘要本发明提供一种抑制图像条纹的产生并且电子照相感光体的表面的磨损受到抑制的带电构件、带电装置、处理盒及图像形成装置。带电构件(208A)，具有导电性基材(30)、设于所述导电性基材(30)上的弹性层(31)及设于所述弹性层(31)上的表面层(32)，并且所述表面层(32)的表面中，轴方向上的凹凸间距离Sm相对于十点平均粗糙度Rz的比、及突出峰部高度Spk为15≦Sm/Rz≦35且Spk≦5μm。CN111722496ACN111722496A权利要求书1/1页1.一种带电构件，包括：导电性基材；弹性层，设于所述导电性基材上；以及表面层，设于所述弹性层上，并且所述表面层的表面中，轴方向上的凹凸间距离Sm相对于十点平均粗糙度Rz的比、及突出峰部高度Spk为15≦Sm/Rz≦35且Spk≦5μm。2.根据权利要求1所述的带电构件，其中所述Sm相对于所述Rz的比为20≦Sm/Rz≦30。3.根据权利要求1或2所述的带电构件，其中所述突出峰部高度Spk为Spk≦4μm。4.根据权利要求3所述的带电构件，其中所述突出峰部高度Spk为Spk≦3.5μm。5.根据权利要求1至4中任一项所述的带电构件，其中，将周方向上的凹凸间距离Sm相对于十点平均粗糙度Rz的比Sm/Rz设为A，将所述轴方向上的所述Sm相对于所述Rz的比Sm/Rz设为B时，所述A相对于所述B的比为0.8≦A/B≦1.2。6.根据权利要求5所述的带电构件，其中所述A/B为0.9≦A/B≦1.1。7.根据权利要求1至6中任一项所述的带电构件，其中所述轴方向上的所述Sm相对于所述Spk的比为25≦Sm/Spk≦75。8.根据权利要求1至7中任一项所述的带电构件，其中所述弹性层的表面层侧的表面中，轴方向上的十点平均粗糙度Rz2为3≦Rz2≦10。9.根据权利要求1至8中任一项所述的带电构件，其中所述表面层含有凹凸形成用粒子。10.根据权利要求9所述的带电构件，其中所述凹凸形成用粒子为聚酰胺粒子。11.根据权利要求9或10所述的带电构件，其中所述表面层含有相对于粘结树脂100质量份而为5质量份以上且30质量份以下的体积平均粒径5μm以上且20μm以下的凹凸形成用粒子作为所述凹凸形成用粒子。12.一种带电装置，具有如权利要求1至11中任一项所述的带电构件，通过接触带电方式使电子照相感光体带电。13.一种处理盒，包括：电子照相感光体；以及带电装置，具有如权利要求1至11中任一项所述的带电构件，通过接触带电方式使所述电子照相感光体带电，并且所述处理盒可拆卸地安装在图像形成装置中。14.一种图像形成装置，包括：电子照相感光体；带电装置，具有如权利要求1至11中任一项所述的带电构件，通过接触带电方式使所述电子照相感光体带电；潜像形成装置，在带电的所述电子照相感光体的表面形成潜像；显影装置，通过包含色粉的显影剂将在所述电子照相感光体的表面形成的潜像予以显影而在所述电子照相感光体的表面形成色粉像；以及转印装置，将在所述电子照相感光体的表面形成的色粉像转印至记录介质。2CN111722496A说明书1/17页带电构件、带电装置、处理盒及图像形成装置技术领域[0001]本发明涉及一种带电构件、带电装置、处理盒(processcartridge)及图像形成装置。背景技术[0002]作为电子照片方式的图像形成装置所具有的带电构件，已知在导电性基材上至少配置有弹性层的带电构件，具体而言例如已知如下。[0003]在专利文献1中公开了：“一种带电辊，在芯棒的外周至少具有一层导电性橡胶弹性层，其中，所述带电辊的表面状态在设所述带电辊的轴方向的十点平均粗糙度为Rz1、所述带电辊的周方向的十点平均粗糙度为Rz2、所述带电辊的轴方向的凹凸的平均间隔为Sm1、所述带电辊的周方向的凹凸的平均间隔为Sm2时，满足下述式，并且所述带电辊的微小硬度为48°～60°；1.00<Rz1/Rz2≦2.000<Sm1/Sm2≦1.00Rz1>11μm”。[0004]现有技术文献[0005]专利文献[0006]专利文献1：日本专利特开