一种DLC涂层工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111926301A(43)申请公布日2020.11.13(21)申请号202010803821.4(22)申请日2020.08.11(71)申请人东莞市普拉提纳米科技有限公司地址523000广东省东莞市长安镇厦岗社区江南西街9号二楼(72)发明人刘成斌黄明章(74)专利代理机构东莞市启信展华知识产权代理事务所(普通合伙)44579代理人冯蓉(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/14(2006.01)C23C16/26(2006.01)C23C16/02(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图3页(54)发明名称一种DLC涂层工艺(57)摘要本发明公开了一种DLC涂层工艺，包括步骤一，准备原料；步骤二，装置放置；步骤三，金属沉积；步骤四，气体电离；步骤五，存储放置；其中在上述步骤一中，人工检测需要的DLC涂层材料，并根据需要的DLC涂层材料购买金属靶材料；该一种DLC涂层工艺，同时具备了PVD与PECVD的功能，该工艺设备配置了PVD镀膜所需的磁控溅射靶和PECVD气体镀膜所需的放电电极，磁场线圈；该工艺设备能够在低温下实现DLC涂层工艺：同时解决了DLC打底需要磁控溅射，碳膜层需要PECVD的难题，且能够在较低温度下裂解含碳气体；该工艺设备的沉积速率快：采用线圈产生电磁场与中心辅助阳极相结合的方式，辅以高功率脉冲电源，提高含碳气体的离化率，碳层的沉积速率提高。CN111926301ACN111926301A权利要求书1/2页1.一种DLC涂层工艺，包括步骤一，准备原料；步骤二，装置放置；步骤三，金属沉积；步骤四，气体电离；步骤五，存储放置；其特征在于：其中在上述步骤一中，准备原料包括以下步骤：1)人工检测需要的DLC涂层材料，并根据需要的DLC涂层材料购买金属靶材料；2)检测购买的金属靶材料，记录数据，并将金属靶材料进行清洗烘干，随后放置在阴凉地存储；其中在上述步骤二中，装置放置包括以下步骤：1)加工炉(1)内部放置矩形靶座(6)，并在矩形靶座(6)顶部安置电磁线圈(7)，电磁线圈(7)连接外界电源；2)人工在加工炉(1)外侧连接第一进气道(9)与第二进气道(10)，第一进气道(9)围绕在矩形靶座(6)外侧，第二进气道(10)远离矩形靶座(6)，加工炉(1)底部设置有深冷恒温储存器(8)，深冷恒温储存器(8)通过管道与矩形靶座(6)连接；3)炉盖(2)设置伸缩气杆(3)，伸缩气杆(3)底部设置永磁体(4)，并将永磁体(4)放置于矩形靶座(6)顶部，即可完成装置放置；其中在上述步骤三中，金属沉积包括以下步骤：1)人工将金属靶材料放置在矩形靶座(6)内部，并将其分开排列，保证金属靶材料具有一定间隔；2)从第二进气道(10)通入氩气气体，开启辅助阳极(5)，使其通过电弧离子进行金属沉积；其中在上述步骤四中，气体电离包括以下步骤：1)人工从第一进气道(9)通入甲烷气体，开启电磁线圈(7)与辅助阳极(5)，通过用磁场和电磁场来共同控制磁控溅射靶；2)调节电磁线圈(7)可以提供磁场，约束放气产生的气体离子，将大部分的气体离子其运动范围在预设的空间内；3)控制伸缩气杆(3)，使永磁体(4)更具需求接近或远离矩形靶座(6)，气体放电即可开始电离；4)人工控制深冷恒温储存器(8)，储存装置降温到了沸点以下，靠压力差将液态气体吸入控制深冷恒温储存器(8)中，添加完毕后将温度保持在合适的温度使气体液态保持，即可得到DLC涂层；其中在上述步骤五中，人工将步骤四4)中DLC涂层收集，检测DLC涂层性质，并将其装箱存储在阴凉地。2.根据权利要求1所述的一种DLC涂层工艺，其特征在于：所述步骤一2)中检测不合格的金属靶材料收集统一处理。3.根据权利要求1所述的一种DLC涂层工艺，其特征在于：所述步骤二3)中伸缩气杆(3)顶部设置有电动气缸，且电动气缸与外界电源连接。4.根据权利要求1所述的一种DLC涂层工艺，其特征在于：所述步骤三2)中通入氩气前将加工炉(1)空气排尽。5.根据权利要求1所述的一种DLC涂层工艺，其特征在于：所述步骤四4)中温度可以自0-25℃间调控。2CN111926301A权利要求书2/2页6.根据权利要求1所述的一种DLC涂层工艺，其特征在于：所述步骤五中装箱前需要进行紫外线照射消毒。3CN111926301A说明书1/4页一种DLC涂层工艺技术领域[0001]本发明涉及DLC涂层技术领域，具体为一种DLC涂层工艺。背景技术[0002]“DLC”是英文“DIAMOND-LIKECARBON”一词的缩写，DLC是一种由碳元素构成、在性质上和钻石类似，同时又具有石墨原子组成结构的物质，类金刚石薄膜DLC是一种非晶态薄膜，