偏光膜的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101852879A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CNCN101852879101852879A(43)申请公布日2010.10.06(21)申请号201010141470.1(22)申请日2010.03.26(30)优先权数据2009-0820142009.03.30JP(71)申请人住友化学株式会社地址日本东京都(72)发明人纲谷圭二难波明生(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人赵曦金世煜(51)Int.Cl.G02B5/30(2006.01)G02B1/10(2006.01)权利要求书1页说明书11页(54)发明名称偏光膜的制造方法(57)摘要本发明为一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率为0.7～0.98，或者，将洗净处理前的膜宽设为A、将洗净处理后的膜宽设为B时，使一次洗净处理前后的A/B为0.97～1.03。根据本发明能够提供具有无颜色偏差、无异物缺陷、无打痕等良好外观的偏光膜的制造方法。CN1085279ACN101852879ACCNN110185287901852880A权利要求书1/1页1.一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率X/Y为0.7～0.98。2.根据权利要求1所述的方法，其中，至少进行2次洗净处理。3.根据权利要求2所述的方法，其中，将最初的洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Yp、将最后的洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为Xp时，使全洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率Xp/Yp为0.7～0.98。4.一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜宽设为A、将洗净处理后的膜宽设为B时，使一次洗净处理前后的A/B为0.97～1.03。5.根据权利要求4所述的方法，其中，至少进行2次洗净处理。6.根据权利要求5所述的方法，其中，将最初的洗净处理前的膜宽设为Ap、将处理后的膜宽设为Bp时，使全洗净处理前后的Ap/Bp为0.97～1.03。7.根据权利要求4或5所述的方法，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率X/Y为0.7～0.98。8.根据权利要求7所述的方法，其中，至少进行2次所述洗净处理，将最初的洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Yp、将最后的洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为Xp时，使全洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率Xp/Yp为0.7～0.98。9.根据权利要求1～8中任一项所述的方法，其中，洗净处理中的洗净温度为30℃以下。10.一种偏光板的制造方法，在用权利要求1～9中任一项所述的方法得到的偏光膜的至少单面上贴合保护膜。2CCNN110185287901852880A说明书1/11页偏光膜的制造方法技术领域[0001]本发明涉及一种外观良好的偏光膜的制造方法。背景技术[0002]一直以来，采用使二色性色素吸附到聚乙烯醇系膜上并发生取向而得到的膜作为偏光膜。也就是说，众所周知有将碘作为二色性色素的碘系偏光膜、将二色性染料作为二色性色素的染料系偏光膜等。通常，这些偏光膜在其至少一面、优选两面上通过由聚乙烯醇系树脂的水溶液等构成的胶粘剂贴合三乙酰纤维素等保护膜，制成偏光板。[0003]作为偏光膜的制造方法，众所周知有如下的方法：使用轧辊、导向辊，用所述二色性色素对聚乙烯醇系膜进行染色并将其延伸，随后为了使碘固着在膜上对聚乙烯醇系膜进行硼酸处理，进行水洗等洗净处理，然后干燥。[0004]但是，在上述制造方法中，在所述洗净处理中存在以下降低外观的问题：在膜上发生起皱、或因硼酸处理引起的硼酸化合物在膜表面析出而发生异物缺陷、在所得的偏光膜上发生颜色偏差、异物缺陷、打痕等。[0005]例如，在JP-3979688-B2中记载有，作为光学性能、尺寸稳定性良好的偏光膜的制造方法，膜中的硼原子含量为规定值。根据该文献的记载，利用水洗处理能够调整偏光膜中的硼原子含量。[0006]但是，在JP-3979688-B2中没有记载洗净处理前后的膜中的硼化合物的具体含量，现状是即使使用JP-3979688-