一种光学防伪元件及其制作方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CN104647934A(43)申请公布日(43)申请公布日2015.05.27(21)申请号201310594525.8B42D25/30(2014.01)(22)申请日2013.11.21G02B5/18(2006.01)(71)申请人中钞特种防伪科技有限公司地址100070北京市丰台区科学城星火路6号申请人中国印钞造币总公司(72)发明人胡春华吴远启张宝利张昊宇周赟蔡翔(74)专利代理机构北京润平知识产权代理有限公司11283代理人陈潇潇肖冰滨(51)Int.Cl.B42D25/29(2014.01)权利要求书3页说明书7页附图3页(54)发明名称一种光学防伪元件及其制作方法(57)摘要本发明公开了一种光学防伪元件及其制作方法。该制作方法包括：在支撑层上形成起伏结构层，起伏结构层包括不相邻的第一区域和第二区域、包围第一区域并且与第一区域邻接的第三区域、以及包围第二区域并且与第二区域邻接的第四区域；在起伏结构层上以均匀表面密度蒸镀金属反射层；在金属反射层上对应第一区域和第二区域分别套印正性感光胶和负性感光胶，正性感光胶的边界位于第三区域中且包围第一区域，负性感光胶的边界位于第四区域中且包围第二区域；从正性感光胶和负性感光胶的正面或背面曝光；显影；以及去除未被正性感光胶和负性感光胶保护的金属反射层。本发明能够保留第一区域和第二区域对应的金属反射层，有效提高了防伪元件的防伪能力。CN104647934ACN104647934A权利要求书1/3页1.一种光学防伪元件的制作方法，其特征在于，该制作方法包括：在支撑层上形成起伏结构层，所述起伏结构层包括不相邻的第一区域和第二区域、包围所述第一区域并且与所述第一区域邻接的第三区域、以及包围所述第二区域并且与所述第二区域邻接的第四区域，所述第一区域具有第一起伏结构，所述第二区域具有第二起伏结构，所述第三区域具有第三起伏结构，所述第四区域具有第四起伏结构，所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，所述第三起伏结构的深宽比大于所述第一起伏结构的深宽比，所述第四起伏结构的深宽比小于所述第一起伏结构的深宽比；在所述起伏结构层上以均匀表面密度蒸镀金属反射层；在所述金属反射层上对应所述第一区域和所述第二区域分别套印正性感光胶和负性感光胶，所述正性感光胶的边界位于所述第三区域中且包围所述第一区域，所述负性感光胶的边界位于所述第四区域中且包围所述第二区域；从所述正性感光胶和所述负性感光胶的正面或背面曝光；显影；以及去除未被所述正性感光胶和所述负性感光胶保护的金属反射层。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一起伏结构的深宽比小于0.2，所述第二起伏结构的深宽比大于0.5，所述第三起伏结构的深宽比与所述第一起伏结构的深宽比的差值大于0.4，所述第二起伏结构的深宽比与所述第四起伏结构的深宽比的差值大于0.4。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一起伏结构和/或所述第四起伏结构的深度位于20nm～1500nm的范围内，所述第一起伏结构和/或所述第四起伏结构的宽度位于100nm～3000nm的范围内。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二起伏结构和/或所述第三起伏结构的深度位于80nm～6000nm的范围内，所述第二起伏结构和/或所述第三起伏结构的宽度位于100nm～3000nm的范围内。5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第四区域为平坦区域。6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一起伏结构和/或所述第二起伏结构为正弦光栅结构、闪耀光栅结构、矩形光栅结构、柱面光栅结构、球面光栅结构以及平坦结构中任意一者或至少二者的组合。7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一起伏结构和/或所述第二起伏结构为一维光栅结构和二维光栅结构中任意一者或二者的组合。8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述支撑层和所述起伏结构层之间具有剥离层或粘结增强层。9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述起伏结构层由热塑性材料制备而成或由辐射固化材料制备而成。10.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述金属反射层由铝、银、铜、锡、铬、镍、以及钛中任意一者或至少两者的合金构成。11.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述正性感光胶和所述负性感光胶的涂布厚度大于100nm并且小于1um，所述正性感光胶和所述负性感光胶的干涂重大于0.1g/m2并且小于1g/m2。2CN104647934A权利要求书2/3页12.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，该制作方法还包括：在曝光前烘烤所述正性感光胶和所述负性感光胶。13.根据权利要