反应腔室的清洗方法.pdf

本发明提供的反应腔室的清洗方法，其包括以下步骤：主清洗步骤，向反应腔室内通入不含氟气体，并开启激励电源，而偏压电源保持关闭状态，以快速清除沉积在反应腔室内的绝大部分反应副产物；辅助清洗步骤，继续向反应腔室内通入不含氟气体，并保持所述激励电源开启，同时开启偏压电源，以清除残留在所述反应腔室各个位置处的反应副产物；其中，所述不含氟气体为氧气和惰性气体的混合气体。本发明提供一种反应腔室的清洗方法，其不仅可以延长湿法清洗的周期，而且还可以提高清洗效率，从而可以保持腔室环境的一致性。

2023-11-22

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反应腔室的清洗方法.pdf

本发明提供一种反应腔室的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，向反应腔室内通入F基活性气体和氧气的混合气体，并开启上电极电源，以清除反应腔室内残留的非金属沉积物；S2，向反应腔室内通入金属去除气体，并开启上电极电源，以清除反应腔室内残留的金属沉积物；S3，向反应腔室内通入氧气，并开启上电极电源，以清除由步骤S1和步骤S2中通入反应腔室内的气体生成的沉积物。本发明提供的反应腔室的清洗方法，其不仅可以更有效地去除腔室环境中的各类残留物质，从而可以避免发生腔室环境被腐蚀、工艺漂移等情况，而且还可以延长腔室周

2023-11-20

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一种石英反应腔的清洗方法.pdf

本发明提供一种石英反应腔的清洗方法，包括以下步骤：以预设数量的保温石英封堵所述石英反应腔的炉口，所述保温石英的数量少于20片；以及以分段式时间管控方式对所述石英反应腔进行清洗。本发明通过减少保温石英的数量来减低清洗时石英反应腔的温度，使得该温度控制在目标温度范围内，避免了蚀刻气体与石英发生反应，从而避免了石英反应腔内的石英破损，提高了石英反应腔的寿命，降低设备成本，也降低了石英反应腔内的石英破损造成的颗粒残留物污染。

2023-06-15

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半导体工艺腔室及其清洗方法.pdf

本发明提供一种半导体工艺腔室的清洗方法，包括：控制供气组件以第一预设流量向腔体中提供第一预设气体，并控制射频组件将其电离形成等离子体；控制供气组件以第二预设流量向腔体中提供第二预设气体，将腔体内部的压力保持在第二预设压力，并控制射频组件将第二预设气体电离形成等离子体；其中，第一预设气体与第二预设气体均包含氧元素，且第一预设流量大于100sccm，第二预设流量小于等于100sccm，第二预设压力小于等于50mtorrorr。本发明在低压力下以低流速向腔体中提供含氧元素的气体，并电离形成等离子体，从而能够对喷

2023-11-05

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用于清洗工艺腔室的方法及其应用.pdf

本申请公开了一种用于清洗工艺腔室的方法及其应用，属于真空镀膜生产设备技术领域。一种用于清洗工艺腔室的方法，包括：(a)启动远程等离子体系统，清洗工艺气体被激发成等离子体，远程等离子体供应至工艺腔室；(b)当远程等离子体系统工作达到稳定状态后，再开启工艺腔室内的射频电源系统，射频电源系统对位于工艺腔室中的远程等离子体再次激发增强，在清洗时间段期间使用远程等离子体系统和射频电源系统两者共同作用清洁工艺腔室；(c)当清洗工艺腔室完毕后，先关闭工艺腔室内的射频电源系统；(d)再关闭远程等离子体系统。本申请可以缓解

2024-01-08

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