边缘曝光机及边缘曝光区域打码方法.pdf
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相关资料
边缘曝光机及边缘曝光区域打码方法.pdf
本发明提供一种边缘曝光机及边缘曝光区域打码方法。本发明的边缘曝光机,包括用于承载基板的载台、位于载台上方的边缘曝光遮光板与打码区遮光板、位于所述边缘曝光遮光板与打码区遮光板上方的曝光灯源、边缘宽度控制电动机、及驱动所述打码区遮光板移动的方向驱动电动机;在边缘曝光机进行边缘曝光时,所述方向驱动电动机根据基板上预设的打码区域的位置驱动所述打码区遮光板移动至对应所述边缘曝光遮光板的透光区域内的位置,从而在对基板上的边缘区域进行曝光时保留其中一部分不被曝光的区域用于打码,在完成边缘曝光和打码的前提下,避免了打码区
晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法.pdf
本发明提供一种晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法,该晶片边缘曝光模块连接至一半导体晶片涂布显影系统。该晶片边缘曝光模块包括一晶片旋转装置、一光学系统、一扫描机界面模块以及一控制器。该晶片旋转装置支持一晶片,以进行加工。该光学系统同时将一曝光光线指向该晶片的一各别边缘部分,以于该晶片的边缘上创造一伪图案。该扫描机界面模块通过一计算机网络传送及/或接收来自一扫描机的一伪边缘曝光信息。该控制器接收来自该扫描机界面模块的该伪边缘曝光信息,并利用该伪边缘曝光信息控制该光学系统。本发明可减少扫描机曝光时间及增加产率。
边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置.pdf
本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置,属于显示技术领域。边缘曝光装置,包括:曝光光源,用于提供曝光光线,所述曝光光线为扩散光线;设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件,能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案,能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留,保证显示装置的产品良率。
一种检测与校正晶圆边缘曝光的方法和涂胶显影机.pdf
本发明涉及一种检测与校正晶圆边缘曝光的方法和涂胶显影机。校正晶圆边缘曝光的方法包括如下步骤:在晶圆上旋涂光刻胶;使用LED光源对所述晶圆进行边缘曝光;在显影后,对所述晶圆进行检测,获取曝光后的光刻胶信息;根据获取的所述光刻胶信息校正所述边缘曝光的参数。在显影后对晶圆进行检测,获取曝光后的光刻胶信息,并根据光刻胶信息校正所述边缘曝光的参数,能够随时调整边缘曝光的工艺参数,灵活性强,能够提高对边缘残留的光刻胶的处理效果。
201710123063X边缘曝光装置、晶圆结构及其形成方法.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号CN108535963B(45)授权公告日2021.04.02(21)申请号201710123063.X(51)Int.Cl.(22)申请日2017.03.03G03F7/20(2006.01)(65)同一申请的已公布的文献号(56)对比文件申请公布号CN108535963AUS2006/0001858A1,2006.01.05US2007/0194304A1,2007.08.23(43)申请公布日2018.09.14CN1041992