一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105761874A(43)申请公布日2016.07.13(21)申请号201610258521.6(22)申请日2016.04.22(71)申请人北京理工大学地址100081北京市海淀区中关村南大街5号(72)发明人陈朗伍俊英杨坤刘丹阳皮铮迪(74)专利代理机构北京理工大学专利中心11120代理人仇蕾安李爱英(51)Int.Cl.H01F7/02(2006.01)G01P3/50(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图4页(54)发明名称一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置(57)摘要本发明涉及一种均匀磁场装置，特别涉及一种用于速度测量的均匀磁场装置。一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置，其技术方案是：两块所述连接磁轭(3)设置在所述疏导磁轭(4)的两端形成U型结构，组成磁轭；两组所述极靴(5)分别设置在两块所述疏导磁轭(4)的中心位置；两组所述磁轭上下相对设置，每侧的两个所述连接磁轭(3)分别与所述钕铁硼永磁体组(1)的上下表面连接；所述钕铁硼永磁体(1)的N极指向同一方向；两个所述极靴(5)之间留有空隙，空隙区域内形成稳定的均匀磁场；本发明有足够大的气息空间以利于炸药及炸药爆轰产物粒子速度计的安装，且结构简单，均匀磁场区域满足炸药爆轰产物粒子速度测量的要求。CN105761874ACN105761874A权利要求书1/1页1.一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置，其特征在于：它包括：钕铁硼永磁体组(1)、连接磁轭(3)、疏导磁轭(4)以及极靴(5)；两块所述连接磁轭(3)设置在所述疏导磁轭(4)的两端形成U型结构，组成磁轭；两组所述磁轭上下相对设置，每侧的两个所述连接磁轭(3)分别与所述钕铁硼永磁体组(1)的上下表面连接；两组所述极靴(5)分别设置在两块所述疏导磁轭(4)相对面的中心位置；所述钕铁硼永磁体(1)的N极指向同一方向；两个所述极靴(5)之间的空隙区域内形成稳定的均匀磁场。2.如权利要求1所述的一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置，其特征在于：上下两个所述极靴(5)之间的距离小于所述钕铁硼永磁体组(1)长度的3倍。3.如权利要求1所述的一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置，其特征在于：所述钕铁硼永磁体组(1)的上下表面分别通过调整块(2)与所述连接磁轭(3)连接。4.如权利要求1或2所述的一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置，其特征在于：所述连接磁轭(3)、所述疏导磁轭(4)采用软磁材料。2CN105761874A说明书1/2页一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置技术领域[0001]本发明涉及一种均匀磁场装置，特别涉及一种用于速度测量的均匀磁场装置。背景技术[0002]电磁法是一种利用电磁速度传感器直接测量炸药爆轰过程中产物粒子速度的方法。均匀磁场装置是粒子速度测量的关键组件，目前，在炸药爆轰粒子速度测量中常用的均匀磁场装置主要有电磁铁和亥姆霍兹线圈，电磁铁和亥姆霍兹线圈利用电磁原理产生均匀磁场，场强可控，但是体积较大，质量重，并且需要配套的电源控制装置，结构复杂，不便于外场实验使用。发明内容[0003]本发明的目的是：为了克服现有的均匀磁场装置中电磁铁和亥姆霍兹线圈结构庞大且复杂的不足,本发明提供一种采用钕铁硼永磁材料来形成能产生均匀磁场的装置，在很大程度上简化测量系统结构，减少实验流程，提高实验效率。[0004]本发明的技术方案是：一种用于炸药爆轰产物粒子速度测量的均匀磁场装置，它包括：钕铁硼永磁体组、连接磁轭、疏导磁轭以及极靴；[0005]两块所述连接磁轭设置在所述疏导磁轭的两端形成U型结构，组成磁轭；两组所述极靴分别设置在两块所述疏导磁轭的中心位置；[0006]两组所述磁轭上下相对设置，每侧的两个所述连接磁轭分别与所述钕铁硼永磁体组的上下表面连接；所述钕铁硼永磁体的N极指向同一方向；两个极靴之间留有空隙，空隙区域内形成稳定的均匀磁场；上下两个所述极靴之间的距离小于所述钕铁硼永磁体组长度的3倍。[0007]有益效果:本发明采用了两组钕铁硼永磁体与磁轭和极靴结合的磁路结构，有足够大的气息空间以利于炸药及炸药爆轰产物粒子速度计的安装，且结构简单，均匀磁场区域满足炸药爆轰产物粒子速度测量的要求。附图说明[0008]图1是本发明均匀磁场装置的剖面构造图；[0009]图2是本发明均匀磁场装置的轴测图；[0010]图3是本发明均匀磁场装置的俯视图；[0011]图4是本发明均匀磁场装置的磁感线分布图；[0012]图5是本发明均匀磁场装置的磁感应强度沿磁隙中心分布图。[0013]图中：1-钕铁硼永磁体组，2-调整块，3-连接磁轭，4-疏导磁轭，5-极靴。具体实施方式[0