无胺CMP后组合物及其使用方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105869997A(43)申请公布日2016.08.17(21)申请号201610274374.1C11D7/50(2006.01)(22)申请日2011.10.21C11D11/00(2006.01)(62)分案原申请数据201180075099.62011.10.21(71)申请人安格斯公司地址美国马萨诸塞州(72)发明人杰弗里·A·巴尼斯刘俊张鹏(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司11219代理人杨青缑正煜(51)Int.Cl.H01L21/02(2006.01)C11D3/04(2006.01)C11D3/43(2006.01)C11D7/06(2006.01)权利要求书2页说明书9页(54)发明名称无胺CMP后组合物及其使用方法(57)摘要本发明涉及无胺CMP后组合物及其使用方法。具体而言，本发明涉及从其上具有化学机械抛光(CMP)后残留物和污染物的微电子器件上清洁所述残留物和污染物的清洁组合物和方法。所述清洁组合物基本不含胺和含铵化合物如季铵碱。所述组合物实现了从所述微电子器件的表面高度有效地清洁所述CMP后残留物和污染材料，而不会损害低-k介电材料或铜互连材料。CN105869997ACN105869997A权利要求书1/2页1.从其上具有化学机械抛光后(CMP后)残留物和污染物的微电子器件除去所述CMP后残留物和污染物的方法，所述方法包括使所述微电子器件与清洁组合物接触足够的时间，以从所述微电子器件至少部分地清洁所述CMP后残留物和污染物，其中所述清洁组合物包括至少一种碱性盐、至少一种有机溶剂、至少一种络合剂和水，其中所述清洁组合物基本不含胺和含铵盐。2.权利要求1的方法，其还包括在使用时或使用之前用溶剂稀释所述清洁组合物。3.权利要求1的方法，其中所述至少一种碱性盐包括选自以下的物质：氢氧化铯、氢氧化铷、氢氧化钾及其组合。4.权利要求1的方法，其中所述至少一种碱性盐包括氢氧化铯。5.权利要求1的方法，其中所述至少一种有机溶剂包括多元醇、砜或其组合。6.权利要求1的方法，其中所述至少一种有机溶剂包括选自以下的物质：乙二醇、丙二醇、新戊二醇、甘油、二乙二醇、二丙二醇、1,4-丁二醇、2,3-丁二醇、1,3-戊二醇、1,4-戊二醇、1,5-戊二醇、四亚甲基砜(环丁砜)、二甲基砜、二乙基砜、双(2-羟基乙基)砜、甲基环丁砜、乙基环丁砜及其组合。7.权利要求1的方法，其中所述至少一种络合剂包括选自以下的物质：乙二胺四乙酸(EDTA)、1,2-环己烷二胺-N,N,N',N'-四乙酸(CDTA)、甘氨酸、抗坏血酸、亚氨基二乙酸(IDA)、次氮基三乙酸、丙氨酸、精氨酸、天门冬酰胺、天门冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酸、谷氨酰胺、组氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、赖氨酸、蛋氨酸、苯丙氨酸、脯氨酸、丝氨酸、苏氨酸、色氨酸、酪氨酸、缬氨酸、五倍子酸、硼酸、乙酸、丙酮肟、丙烯酸、己二酸、甜菜碱、二甲基乙二肟、甲酸、富马酸、葡糖酸、戊二酸、甘油酸、乙醇酸、乙醛酸、间苯二甲酸、衣康酸、乳酸、马来酸、马来酸酐、苹果酸、丙二酸、扁桃酸、2,4-戊二酮、苯基乙酸、邻苯二甲酸、脯氨酸、丙酸、邻苯二酚、均苯四酸、奎尼酸、山梨糖醇、琥珀酸、酒石酸、对苯二甲酸、偏苯三酸、苯均三酸、酪氨酸、木糖醇、其盐和衍生物，及其组合。8.权利要求1的方法，其中所述清洁组合物基本不含氧化剂、含有氟化物的来源、研磨材料、碱土金属碱、交联的有机聚合物粒子及其组合。9.权利要求2的方法，其中所述清洁组合物在约10:1～约1000:1的范围内稀释。10.权利要求1的方法，其中所述清洁组合物的pH在约8～约14的范围内。11.清洁组合物，其包括CsOH、砜、膦酸、至少一种另外的络合剂和水，其中所述组合物基本不含胺和含铵盐。12.权利要求11的清洁组合物，其中所述砜包括选自以下的物质：四亚甲基砜、二甲基砜、二乙基砜、双(2-羟基乙基)砜、甲基环丁砜、乙基环丁砜及其组合。13.权利要求11的清洁组合物，其中所述膦酸包括选自以下的物质：1,5,9-三氮杂环十二烷-N,N',N"-三(亚甲基膦酸)(DOTRP)、1,4,7,10-四氮杂环十二烷-N,N',N",N″′-四(亚甲基膦酸)(DOTP)、次氮基三(亚甲基)三膦酸、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)(DETAP)、氨基三(亚甲基膦酸)、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸(HEDP)、双(六亚甲基)三胺膦酸、1,4,7-三氮杂环壬烷-N,N',N"-三(亚甲基膦酸)(NOTP)、其盐和衍生物，及其组合。14.权利要求11的清洁组合物，其中所述至少一种另外的络合剂包括选自以下的物质：乙二胺四乙酸(EDTA)、1,2-环己烷二胺-N,N,N',N'-四乙酸(CD