有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号CN106373980B(45)授权公告日2022.02.08(21)申请号201610584830.2(51)Int.Cl.(22)申请日2016.07.22H01L27/32(2006.01)H01L51/50(2006.01)(65)同一申请的已公布的文献号H01L51/56(2006.01)申请公布号CN106373980A(56)对比文件(43)申请公布日2017.02.01CN103247763A,2013.08.14(30)优先权数据CN102141862A,2011.08.0310-2015-01038772015.07.22KRCN102760844A,2012.10.31(73)专利权人三星显示有限公司US2014267984A1,2014.09.18地址韩国京畿道CN102769109A,2012.11.07US8637346B1,2014.01.28(72)发明人权宁吉TW200905402A,2009.02.01(74)专利代理机构北京德琦知识产权代理有限TW200905402A,2009.02.01公司11018审查员贾翠乐代理人严芬康泉权利要求书2页说明书14页附图13页(54)发明名称有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法(57)摘要公开了一种有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法。该制造有机发光显示装置的方法，包括：在基板上形成包含含氟聚合物的剥离层；在剥离层上形成光刻胶，并通过除去其一部分图案化光刻胶；使用第一溶剂在除去了光刻胶的区域中蚀刻剥离层，使得剥离层的一部分保留在基板上；在保留在基板上的剥离层上方和在剥离层上保留有光刻胶的区域上方形成蚀刻停止层；以及使用第二溶剂除去在剥离层上保留有光刻胶的区域下方的剥离层。CN106373980BCN106373980B权利要求书1/2页1.一种制造有机发光显示装置的方法，该方法包括：在基板上形成包括含氟聚合物的剥离层；在所述剥离层上形成光刻胶，并通过除去所述光刻胶的一部分来图案化所述光刻胶；使用第一溶剂在除去了所述光刻胶的区域中蚀刻所述剥离层，使得所述剥离层的在除去了所述光刻胶的区域中的一部分保留在所述基板上；在保留在所述基板上的所述剥离层上方和在所述剥离层上保留有所述光刻胶的区域上方形成蚀刻停止层；以及使用第二溶剂除去在所述剥离层上保留有所述光刻胶的所述区域下方的所述剥离层。2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：在所述基板上形成第一电极，使得在所述蚀刻之后所述剥离层的一部分保留在所述第一电极上，在保留在所述第一电极上的所述剥离层上方和在所述剥离层上保留有所述光刻胶的所述区域上方形成包括发光层的有机功能层作为所述蚀刻停止层，以及在所述有机功能层上形成第二电极。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一个功能层。4.根据权利要求2所述的方法，其中形成所述有机功能层是使用沉积来进行的。5.根据权利要求2所述的方法，其中保留在所述第一电极上的所述剥离层的厚度等于或大于0.5纳米并且等于或小于5纳米。6.根据权利要求2所述的方法，其中在除去了所述光刻胶的所述区域中蚀刻所述剥离层之后，保留在所述第一电极上的所述剥离层的厚度通过干法蚀刻来调节。7.根据权利要求2所述的方法，其中保留在所述第一电极上的所述剥离层被直接形成在所述第一电极的表面上。8.根据权利要求2所述的方法，进一步包括：在所述第一电极与保留在所述第一电极上的所述剥离层之间形成空穴传输层，其中保留在所述第一电极上的所述剥离层接触所述空穴传输层的表面。9.根据权利要求2所述的方法，进一步包括：形成围绕所述第一电极的边缘的像素限定层，其中保留在所述第一电极上的所述剥离层的一部分接触所述像素限定层的表面。10.根据权利要求2所述的方法，其中在形成所述第二电极之前，该方法进一步包括：在形成所述有机功能层时形成辅助阴极。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述含氟聚合物具有在重量百分比的范围内的氟含量。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一溶剂包括氟。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二溶剂包括氟。14.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：在所述基板上形成第一电极，并形成覆盖所述第一电极的端部的像素限定层，使得在所述蚀刻和所述除去之后所述剥离层的一部分保留在所述像素限定层上；形成包括发光层的有机功能层；以及在所述有机功能层上形成第二电极。2CN106373980B权利要求书2/2页15.根据权利要求14所述的方法，其中形成所述有机功能层是使用喷墨工艺来进行的。16.一种制造有机发光显示装置的方法，该方法包括：在基板上形成多个第一电极，并进行第一