一种旋转式狭缝涂布模头及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106862010A(43)申请公布日2017.06.20(21)申请号201710176105.6(22)申请日2017.03.24(71)申请人苏州威格尔纳米科技有限公司地址215000江苏省苏州市工业园区平胜路18号(72)发明人冯宗宝欧阳俊波张海銮程园园章婷刘德昂曲亚东钱磊张德龙(74)专利代理机构苏州华博知识产权代理有限公司32232代理人孟宏伟(51)Int.Cl.B05C5/02(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种旋转式狭缝涂布模头及方法(57)摘要本发明公开了一种旋转式狭缝涂布模头，其包括模头，模头垂直布置，模头内设置有储液腔，储液腔分别连通进液口和出液口，进液口和出液口垂直布置，出液口沿着垂直方向将涂布液涂布于涂布对象的表面，模头还连接旋转驱动部，旋转驱动部驱动模头由垂直状态旋转为水平状态进行注液、再旋转为垂直状态并开始涂布。同时本发明还公开了一种旋转式狭缝涂布方法。本发明可以克服液体的注入所导致的储液腔上部的气体空间残留，以此提高涂布时挤压流出的药液的稳定性。CN106862010ACN106862010A权利要求书1/1页1.一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，包括模头，所述模头垂直布置，所述模头内设置有储液腔，所述储液腔分别连通进液口和出液口，所述进液口和所述出液口垂直布置，所述出液口沿着垂直方向将涂布液涂布于涂布对象的表面，所述模头还连接旋转驱动部，所述旋转驱动部驱动所述模头由垂直状态旋转为水平状态进行注液、再旋转为垂直状态并开始涂布。2.根据权利要求1所述的一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，所述储液腔沿着所述模头的长度方向向着所述模头的底部延伸。3.根据权利要求1或2所述的一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，所述储液腔的第一侧面呈弧面。4.根据权利要求3所述的一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，所述储液腔的与所述第一侧面相对的第二侧面呈平面。5.根据权利要求1所述的一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，所述模头连接模头支架，所述模头支架与所述旋转驱动部连接。6.根据权利要求1或5所述的一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，所述旋转驱动部为电机或机械臂。7.根据权利要求1所述的一种旋转式狭缝涂布模头，其特征在于，所述模头的纵截面呈倒置的梯形。8.一种旋转式狭缝涂布方法，其特征在于，包括以下步骤：1)旋转驱动部驱动模头由垂直状态旋转为水平状态；2)通过进液口向模头的储液腔内注液；3)旋转驱动部继续驱动模头由水平状态旋转为垂直状态；储液腔通过出液口开始对涂布对象的表面进行涂布。2CN106862010A说明书1/3页一种旋转式狭缝涂布模头及方法技术领域[0001]本发明涉及一种涂布模头，具体涉及一种旋转式狭缝涂布模头及方法。背景技术[0002]涂布技术作为一种成熟、简便的技术广泛被用于薄膜成型领域，从传统的造纸、纺织到精密光学膜，以及近几年快速发展的太阳能电池、锂电隔膜等，均以涂布为主要的加工生产方式。狭缝式涂布技术目前一种较为重要的涂布技术，因为狭缝式涂布可控性好，涂布精度高，因此其被广泛应用于光电功能薄膜，显示行业。[0003]目前，在利用狭缝涂布方法进行涂布的时候，药液注入模头过程中，垂直放置的涂布模头内部储液槽底部会先被填充满，随后液体的注入，会导致储液腔上部存在气体空间(也可以说成是气泡)残留，而这种残留会导致液体压力传导的舒缓，造成涂布时挤压流出的药液的不稳定性。发明内容[0004]为了解决上述技术问题，本发明提供了一种可以消除储液腔内气体空间残留的旋转式狭缝涂布模头及方法。[0005]为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：[0006]一种旋转式狭缝涂布模头，其包括模头，模头垂直布置，模头内设置有储液腔，储液腔分别连通进液口和出液口，进液口和出液口垂直布置，出液口沿着垂直方向将涂布液涂布于涂布对象的表面，模头还连接旋转驱动部，旋转驱动部驱动模头由垂直状态旋转为水平状态进行注液、再旋转为垂直状态并开始涂布。[0007]本发明所提供的一种旋转式狭缝涂布模头，改进后，使得狭缝涂布模头结构不发生变化，在模头基础上添加与模头相连的旋转驱动部，将原来模头竖直方式注液形式改变为旋转模头后进行注液，后旋转机构至垂直状态开始涂布过程，可以有效地避免对模头进行更多的结构改变，减少因结构改变加工对溶液涂布精度的影响，整个操作过程简单且高效，并且克服液体的注入所导致的储液腔上部的气体空间残留，以此提高涂布时挤压流出的药液的稳定性。[0008]在上述技术方案的基础上，本发明还可以作如下改进：[0009]作为优选的方案，上述的储液腔沿着模头的长度方向向着模头的底部延伸。[0010]采用上述优选的方案，可以便于涂