一种清洗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107262437A(43)申请公布日2017.10.20(21)申请号201710643774.X(22)申请日2017.07.31(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人董立文谷丰(74)专利代理机构北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138代理人滕一斌(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)B08B11/02(2006.01)B08B11/04(2006.01)G03F7/40(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图9页(54)发明名称一种清洗装置(57)摘要本发明公开了一种清洗装置，属于半导体工艺设备领域。该工件支撑台包括支撑平台、角度调节单元和支座，支撑平台和角度调节单元均设置在支座上，支撑平台具有用于承载待清洗工件的支撑平面，角度调节单元用于调节支撑平面的倾斜角度，通过设置角度调节单元可以调节支撑平面的倾斜角度，在清洗的过程中将工件放置在支撑平面上，由于支撑平面倾斜，因此可以使残留的光刻胶、显影液和污渍更容易被冲走，进一步提高清洗效果。CN107262437ACN107262437A权利要求书1/1页1.一种清洗装置，包括工件支撑台和喷淋组件，其特征在于，所述工件支撑台包括支撑平台、角度调节单元和支座，所述支撑平台和所述角度调节单元均设置在所述支座上，所述支撑平台具有用于承载待清洗工件的支撑平面，所述角度调节单元用于调节所述支撑平面的倾斜角度。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑平台包括平台本体和支撑臂，所述支撑臂的一端固定连接在所述平台本体的与所述支撑平面相反的一面上，所述支撑臂的另一端与所述角度调节单元连接，所述角度调节单元用于驱动所述支撑臂的另一端沿一弧线运动。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支座上设有凹形的弧面，所述支撑臂的另一端可沿所述凹形的弧面滑动地设置在所述凹形的弧面上。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述角度调节单元包括螺纹套、螺纹杆和用于驱动螺纹杆绕其轴线旋转的驱动器，所述螺纹套套装在所述螺纹杆上且与所述螺纹杆螺纹连接，所述支撑臂的另一端与所述螺纹套铰接。5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑臂包括支撑块和设置在所述支撑块上的旋转动力单元，所述旋转动力单元的输出端与所述支撑平台固定连接，所述支撑块与所述角度调节单元连接。6.根据权利要求1～4任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑平台上还设有工件夹持组件。7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述工件夹持组件包括设置在所述支撑平面上的8个限位钉，所述8个限位钉中的4个限位钉分布在一矩形的四个角上，所述8个限位钉中的另4个限位钉分布在另一矩形的四个角上，两个矩形的几何中心重合，且在所述两个矩形中，一个矩形的相交的两条边分别平行于另一个矩形的相交的两条边。8.根据权利要求1～4任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述喷淋组件包括喷嘴支架和设置在所述喷嘴支架上的喷嘴。9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述喷嘴支架包括固定支架和活动支架，所述活动支架可沿第一方向和第二方向移动地设置在固定支架上，所述喷嘴设置在所述活动支架上，其中，所述第一方向和所述第二方向相互垂直。10.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述喷嘴可转动地设置在所述喷嘴支架上，且所述喷嘴的转动轴线垂直于所述喷嘴的喷射方向。2CN107262437A说明书1/6页一种清洗装置技术领域[0001]本发明涉及半导体工艺设备领域，特别涉及一种清洗装置。背景技术[0002]在显示器件的制造过程中，经常会使用到构图工艺。而在构图工艺中，常常会使用到光刻胶。光刻胶在使用时需要进行曝光和显影，在显影过程中，有部分光刻胶会被去除，从而将掩膜上的图案转移到光刻胶上。[0003]在完成显影之后，由于会有一定量的显影液和在显影过程中被去除的光刻胶残留在工件上，因此需要对工件进行清洗，以去除残留的显影液和光刻胶。目前的清洗方法通常是将工件水平放置在清洗装置的工件支撑台上，再通过清洗装置的喷淋组件对工件进行喷淋。[0004]由于光刻胶在显影后形成的图案中，常常会包括一些孔、槽等，因此在清洗过程中残留的显影液、光刻胶和污渍容易残留到孔、槽等结构中而难以被去除干净。发明内容[0005]为了解决现有的清洗装置难以完全去除残留的显影液、光刻胶和污渍的问题，本发明实施例提供了一种清洗装置。所述技术方案如下：[0006]本发明实施例提供了一种清洗装置，包括工件支撑台和喷淋组件，所述工件支撑台包括支撑平台、角度调节单元和支座，所述支撑平台和所述角