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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109010245A(43)申请公布日2018.12.18(21)申请号201811065865.0A61K8/64(2006.01)(22)申请日2018.09.13A61K8/63(2006.01)A61K8/60(2006.01)(71)申请人广东丸美生物技术股份有限公司A61K8/34(2006.01)地址510000广东省广州市高新技术产业A61K8/365(2006.01)开发区科学城伴河路92号2号楼A61P17/02(2006.01)(72)发明人吴剑萍孙云起孙怀庆裴运林A61P17/10(2006.01)聂艳峰胡露A61Q17/00(2006.01)(74)专利代理机构广州胜沃园专利代理有限公A61Q19/00(2006.01)司44416代理人徐晶(51)Int.Cl.A61K8/99(2017.01)A61K8/9789(2017.01)A61K8/92(2006.01)A61K8/73(2006.01)权利要求书1页说明书11页(54)发明名称祛痘制剂(57)摘要本发明属于化妆品技术领域,具体涉及一种祛痘制剂,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。本发明制剂具有快速、显著的祛痘作用、祛除疤痕的作用、显著去除中性粒细胞中活性氧的作用、抑菌作用、增强细胞活力以及促进TIMP-1因子分泌的作用,更难得的是,对病程1年内遗留的疤痕具有很好的修复作用。CN109010245ACN109010245A权利要求书1/1页1.一种祛痘制剂,其特征在于,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。2.一种祛疤痕制剂,其特征在于,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。3.如权利要求2所述的祛疤痕制剂,其特征在于,所述疤痕包括浅表性疤痕和凹陷性疤痕。4.一种组织基质金属蛋白酶抑制因子-1生成促进剂,其特征在于,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。5.一种抑菌制剂,其特征在于,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。6.如权利要求5所述的抑菌制剂,其特征在于,所述菌包括痤疮丙酸杆菌、表皮葡萄球菌、糠皮孢子菌和金黄色葡萄球菌。7.一种祛除人体中性粒细胞系统中的活性氧制剂,其特征在于,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。8.一种增强人表皮角化细胞活力的制剂,其特征在于,包括以下重量份数的组分:植物控油因子1~3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5~2份、痤疮克星3~10份、积雪草苷0.2~1份、甘草酸二钾0.05~0.2份和密罗木叶/茎提取物1~6份。9.如权利要求1~8任一所述的制剂,其特征在于,所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度为50~70%。10.一种祛痘膜,其特征在于,由以下重量份数的组分制成:如权利要求1所述的祛痘制剂20~35份、多元醇1-20份、亲水性成膜高分子材料0.01-25份、增稠剂0.01-5份、pH调节剂0.01-2份、螯合剂0.01-1份、促渗剂0.01-5份、防腐剂0.01-5份和去离子水40~60份。2CN109010245A说明书1/11页祛痘制剂技术领域[0001]本发明属于化妆品技术领域,具体涉及祛痘制剂。背景技术[0002]雄性荷尔蒙、精神压力、睡眠不足、辛辣食物及油腻食品等因素影响,激活皮脂腺,皮脂过度分泌,角质层失序造成毛囊孔的的堵塞,经痤疮丙酸杆菌过度生长,使得炎症物质聚集,从而造成肌肤上出现痘痘,使得面部局部肌肤出现红肿,数量多时严重影响人的外在形象,从而影响人的心理和社交活动。[0003]目前已出现了多种具有强效祛痘功能的组合物,如中国专利申请CN105796378A公开了一种祛痘组合物,该组合物含有大黄素、壬二酸、视黄醇棕榈酸酯,具有见效快、无毒副作用的优点;中国专利申请CN106726870A公开了一种一种以天