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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109946882A(43)申请公布日2019.06.28(21)申请号201910341273.5(22)申请日2019.04.25(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人重庆京东方光电科技有限公司(72)发明人李玉成葛世康李旭潘飞张贺宁李志涂旭峰张竹青戴威(74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司11274代理人申健(51)Int.Cl.G02F1/13357(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图7页(54)发明名称一种背光源及其制备方法和背光模组(57)摘要本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种背光源及其制备方法和背光模组。用以将点光源转换成面光源,并同时避免从远离该电路衬底一侧入射的光线对荧光层进行再次激发而产生色偏。一种背光源,包括:电路衬底,以及设置在电路衬底上的多个发光二极管,相邻的两个发光二极管之间留有间隙,且任意相邻的两个发光二极管之间的电路衬底上设置有反光层;每个发光二极管包括出光方向朝向远离电路衬底一侧的发光晶片,以及设置在发光晶片出光侧的荧光层;背光源还包括设置在发光二极管出光侧的光线阻挡结构,用于将发光二极管发出的光反射至反光层,并经由反光层反射后射出,以及对从远离电路衬底一侧入射的光线进行阻挡,防止光线照射到荧光层上。CN109946882ACN109946882A权利要求书1/2页1.一种背光源,其特征在于,包括:电路衬底,以及设置在所述电路衬底上的多个发光二极管,相邻的两个发光二极管之间留有间隙,且任意相邻的两个发光二极管之间的电路衬底上设置有反光层;每个所述发光二极管包括出光方向朝向远离所述电路衬底一侧的发光晶片,以及设置在所述发光晶片的出光侧的荧光层;所述背光源还包括设置在所述发光二极管的出光侧的光线阻挡结构,所述光线阻挡结构用于将所述发光二极管发出的光反射至反光层,并经由所述反光层反射后由发光二极管之间的间隙射出,以及对从远离所述电路衬底一侧入射的光线进行阻挡,防止光线照射到所述荧光层上。2.根据权利要求1所述的背光源,其特征在于,所述光线阻挡结构包括多个反射部,所述反射部的个数与所述发光二极管的个数相等,且所述反射部与所述发光二极管一一对应,设置在所述发光二极管的出光侧,且所述反射部和与之对应的发光二极管之间留有间隙;每个所述反射部包括第一反射面和第二反射面,所述第一反射面靠近所述发光二极管的出光面,相对于所述第一反射面,所述第二反射面远离所述发光二极管的出光面,所述第二反射面用于对从远离所述电路衬底的一侧入射的光线进行反射,以对从远离所述电路衬底的一侧入射的光线进行阻挡。3.根据权利要求2所述的背光源,其特征在于,所述第一反射面的形状为半球形或锥形,且所述发光二极管的出光面的中心位于所述半球形或锥形的中轴线上。4.根据权利要求2所述的背光源,其特征在于,多个所述发光二极管和所述反光层上还设置有透明保护胶层,每个所述反射部通过所述透明保护胶层固定在一个所述发光二极管的出光侧。5.根据权利要求4所述的背光源,其特征在于,所述透明保护胶层的材料包括导热材料。6.根据权利要求4或5所述的背光源,其特征在于,每个所述反射部的第一反射面嵌设于所述透明保护胶层中,第二反射面为平面,且与所述透明保护胶层的上表面位于同一水平面上。7.一种背光模组,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的背光源。8.一种背光源的制备方法,其特征在于,包括:将多个发光二极管打件在电路衬底上,相邻的两个发光二极管之间留有间隙,每个所述发光二极管包括出光方向朝向远离所述电路衬底一侧的发光晶片,以及设置在所述发光晶片的出光侧的荧光层;在任意相邻的两个发光二极管之间的电路衬底上形成反光层;在所述发光二极管的出光侧形成光线阻挡结构,所述光线阻挡结构用于将每一个所述发光二极管发出的光反射至反光层,并经由所述反光层反射后由所述间隙射出,以及对从远离所述电路衬底的一侧入射的光线进行阻挡,防止光线照射到所述荧光层上。9.根据权利要求8所述的背光源的制备方法,其特征在于,通过涂布工艺在任意相邻的两个发光二极管之间的电路衬底上形成所述反光层。2CN109946882A权利要求书2/2页10.根据权利要求8或9所述的背光源的制备方法,其特征在于,将多个发光二极管打件在电路衬底上,包括:采用点晶工艺将多个发光二级管中的发光晶片打件在电路衬底上,并通过点胶工艺在每一个所述发光晶片的出光面上形成所述荧光层。11.根据权利要求10所述的背光源的制备方法,其特征在于,所述光线阻挡结构包括多个反射部,所述反射部的个数与所述发光二极管的个数相等,在所述发光二极管的出光侧形成光线阻挡结构,包括:在所述反光层和多个所述发