触控面板的直接图案化方法及其触控面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110221718A(43)申请公布日2019.09.10(21)申请号201810175535.0(22)申请日2018.03.02(71)申请人宸鸿光电科技股份有限公司地址中国台湾台北市内湖区民权东路六段13之18号6楼(72)发明人吴珊瑀余建贤陈志民曹威娜张振杰魏学伟陈志雄(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人王玉双李岩(51)Int.Cl.G06F3/041(2006.01)权利要求书1页说明书11页附图14页(54)发明名称触控面板的直接图案化方法及其触控面板(57)摘要一种触控面板的直接图案化方法及其触控面板，直接图案化方法包括：提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区，其中一周边线路设置在该周边区，该周边线路具有一接合垫；设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区；设置一半固化的膜层于该金属纳米线层上，该膜层具有感光性；进行一黄光微影步骤，包括：将该膜层进行曝光以定义出一去除区与一保留区；以及使用显影液将位于该去除区的该膜层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极并裸露出设置于该周边区的该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路，其中该触控感应电极是由该膜层与该金属纳米线层所组成；以及将该膜层进行一固化步骤。CN110221718ACN110221718A权利要求书1/1页1.一种触控面板的直接图案化方法，其特征在于，包括：提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区，其中一周边线路设置在该周边区，该周边线路具有一接合垫；设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区；设置一半固化的膜层于该金属纳米线层上，该膜层具有感光性；进行一黄光微影步骤，包括：将该膜层进行曝光以定义出一去除区与一保留区；以及使用显影液将位于该去除区的该膜层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极并裸露出设置于该周边区的该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路，其中该触控感应电极是由该膜层与该金属纳米线层所组成；以及将该膜层进行一固化步骤。2.如权利要求1所述的触控面板的直接图案化方法，其特征在于，更包括一第二次移除步骤，以完全移除位于该去除区的该金属纳米线层。3.如权利要求2所述的触控面板的直接图案化方法，其特征在于，该第二次移除步骤包括使用有机溶液或碱性溶液搭配机械方式完全移除位于该去除区的该金属纳米线层。4.如权利要求2所述的触控面板的直接图案化方法，其特征在于，该第二次移除步骤包括采用粘胶法移除位于该去除区的该金属纳米线层。5.如权利要求1所述的触控面板的直接图案化方法，其特征在于，在所述设置一半固化的膜层于该金属纳米线层上的步骤之后更包括设置一正型感光材料层于该膜层上。6.如权利要求5所述的触控面板的直接图案化方法，其特征在于，该正型感光材料层的感光性高于该膜层。7.如权利要求5所述的触控面板的直接图案化方法，其特征在于，更包括去除该正型感光材料层。8.一种触控面板，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；一设置于该基板上的一膜层与一金属纳米线层；及一设置于该周边区上的周边线路，其中该周边线路具有一接合垫，该膜层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该膜层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该显示区的触控感应电极并裸露出该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路。9.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于，该金属纳米线层包括金属纳米线，该金属纳米线嵌设于位于该保留区的该膜层中形成导电网络，而位于该显示区的该膜层与该金属纳米线共同形成该触控感应电极。10.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于，该膜层具有感光性。11.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于，该膜层的厚度为约200nm至约400nm。12.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于，该金属纳米线层与该周边线路会在该显示区与该周边区的交界处形成搭接结构。13.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于，该触控感应电极延伸至该周边区而覆盖于该周边线路上，但并不覆盖于该接合垫上。2CN110221718A说明书1/11页触控面板的直接图案化方法及其触控面板技术领域[0001]本发明是关于一种触控面板的直接图案化方法及其触控面板。背景技术[0002]由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZ