一种阵列基板及液晶显示面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110673386A(43)申请公布日2020.01.10(21)申请号201910976048.9(22)申请日2019.10.15(71)申请人深圳市华星光电技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号(72)发明人朱清永(74)专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300代理人李汉亮(51)Int.Cl.G02F1/1335(2006.01)G02F1/1362(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种阵列基板及液晶显示面板(57)摘要本申请提供一种阵列基板及液晶显示面板，该阵列基板包括基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；彩色光阻层，设置于所述薄膜晶体管层上；透明保护层，设置于所述彩色光阻层上，所述透明保护层上设置有贯穿所述透明保护层并且与所述彩色光阻层接触的透气孔，所述透气孔对应非像素开口区设置。本申请通过在所述透明保护层上设置透气孔，使得阵列基板在高温烘烤制程中将彩色光阻层中的残留气体通过所述透气孔排除干净，从而避免在后续真空贴合的制程中残留气体析出造成产品产生气泡问题。CN110673386ACN110673386A权利要求书1/1页1.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；彩色光阻层，设置于所述薄膜晶体管层上；透明保护层，设置于所述彩色光阻层上，所述透明保护层上设置有贯穿所述透明保护层并且与所述彩色光阻层接触的透气孔，所述透气孔对应非像素开口区设置。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透气孔的开孔深度大于或等于所述透明保护层的膜厚，所述彩色光阻层通过所述透气孔与外界相通。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色光阻层包括对应子像素的彩色光阻，一像素单元包括对应三个子像素的红色光阻、绿色光阻、蓝色光阻。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，至少一所述透气孔对应所述红色光阻设置。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，一所述彩色光阻对应至少一所述透气孔。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透气孔设置于所述非像素开口区内靠近像素开口区的位置，所述透气孔的孔径为5μm～10μm。7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明保护层的材料为可熔性聚四氟乙烯。8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括电极层，所述电极层设置于所述透明保护层上，所述电极层避开所述透气孔设置。9.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求1～8任一项所述的阵列基板和彩膜基板，以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层。10.根据权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括黑色矩阵，所述透气孔对应所述黑色矩阵设置。2CN110673386A说明书1/4页一种阵列基板及液晶显示面板技术领域[0001]本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及液晶显示面板。背景技术[0002]COA(Color-filteronArray)技术是一种将彩色滤光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术，能够有效解决液晶显示装置对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示开口率。一种COA(ColorFilteronArray)产品在R/G/B色阻上覆盖一层PV保护层(SiNx)，PV层做成需经过CVD成膜、曝光显影、干刻、剥离等多道工艺。目前有一种PFA(PolymerFilmonArray)工艺，用一种透明有机材料取代PV层，但PFA为有机高分子材料，在真空贴合制程中会析出气体造成产品气泡问题，需通过加抽改善，因此存在产品工艺中抽气时间过久和低压不稳问题。[0003]因此，现有技术存在缺陷，急需改进。发明内容[0004]本申请提供一种阵列基板及液晶显示面板，能够解决显示面板在真空贴合时由于彩色光阻层中的残留气体析出造成产品气泡问题，以及产品工艺中抽气时间过久和低压不稳问题。[0005]为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：[0006]本申请提供一种阵列基板，包括：[0007]基板；[0008]薄膜晶体管层，设置于所述基板上；[0009]彩色光阻层，设置于所述薄膜晶体管层上；[0010]透明保护层，设置于所述彩色光阻层上，所述透明保护层上设置有贯穿所述透明保护层并且与所述彩色光阻层接触的透气孔，所述透气孔对应非像素开口区设置。[0011]在本申请的阵列基板中，所述透气孔的开孔深度大于或等于所述透明保护层的膜厚，所述彩色光阻层通过所述透气孔与外界相通。[0012]在本申请的阵列基板中，所述彩色光阻层包括对应子像素的彩色光阻，一像素单元包括对应三个子像素的红色光阻、绿色光阻、蓝色光