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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110938502A(43)申请公布日2020.03.31(21)申请号201911252229.3(22)申请日2019.12.09(71)申请人荆州市天翼精细化工开发有限公司地址434000湖北省荆州市荆州开发区洪塘路62号(72)发明人徐礼文王琳丁虫虫(74)专利代理机构广州海心联合专利代理事务所(普通合伙)44295代理人马赟斋(51)Int.Cl.C11D7/26(2006.01)C11D7/34(2006.01)C11D7/50(2006.01)C11D7/60(2006.01)权利要求书1页说明书3页(54)发明名称一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂及其制备方法(57)摘要本发明涉及基板清洗剂及其制备方法,具体公开了一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂及其制备方法,旨在解决现有的基板残留的各种材料、灰尘等清洗比较困难的问题。所述清洗剂包括以下质量百分数的原料:N-乙基吗啉类化合物5~30%、挥发性乙二醇醚类化合物1~20%和水60~80%。所述制备方法为按配方量将N-乙基吗啉类化合物、挥发性乙二醇醚类化合物和水按比例搅拌溶解,用有机酸pH调节剂调节为中性即可。本发明制备出了一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂,能够完全地洗除基板上的各种有机材料、金属氧化物、灰尘等。CN110938502ACN110938502A权利要求书1/1页1.一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂,其特征在于,包括以下质量百分数的原料:N-乙基吗啉类化合物5~30%、挥发性乙二醇醚类化合物1~20%和水60~80%。2.根据权利要求1所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂,其特征在于,包括以下质量百分数的原料:N-乙基吗啉类化合物15~25%、挥发性乙二醇醚类化合物10~15%和水60~70%。3.根据权利要求1或2所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂,其特征在于,所述N-乙基吗啉类化合物为N-乙基吗啉、N-(2-氨基乙基)吗啉、N-(2-羟乙基)吗啉和4-[2-(二甲基氨基)乙基]吗啉中的一种或几种的混合物。4.根据权利要求3所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂,其特征在于,所述挥发性乙二醇醚类化合物为乙二醇甲醚、乙二醇二甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲乙醚、乙二醇丙醚、乙二醇二丙醚、乙二醇甲丙醚、乙二醇乙丙醚、乙二醇丁醚、乙二醇二丁醚、乙二醇甲丁醚、乙二醇乙丁醚和乙二醇丙丁醚中一种或几种的混合物。5.根据权利要求4所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂,其特征在于,配方中还可以添加少量的对基板上各种有机材料、金属氧化物、灰尘等有清洗作用的其它材料和有机溶剂。6.权利要求1所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂的制备方法,其特征在于,按配方量将N-乙基吗啉类化合物、挥发性乙二醇醚类化合物和水按比例搅拌溶解,用有机酸pH调节剂调节为中性即可。7.权利要求6所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂的制备方法,其特征在于,所述有机酸pH调节剂为柠檬酸、乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠盐、水杨酸、乳酸、醋酸、丙酸、丁酸、异丁酸、草酸、丙二酸、丁二酸和己二酸中的一种或几种混合物。8.权利要求1所述的一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂的制备,其特征在于,应该在洁净空间进行。2CN110938502A说明书1/3页一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及基板清洗剂及其制备方法,具体地说,涉及一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂及其制备方法。背景技术[0002]光变颜料,即光学干涉变色颜料,由多种不同折射率的薄膜叠加而成,从不同角度观察会呈现不同的颜色。其基本原理是基于光学薄膜多光束干涉和随角异色效应,由不同折射率的介质材料或透明金属氧化物,采用物理气相沉积的方法,精确控制各膜层的厚度、配比和顺序,依次淀积在同一载体(基板)上而形成。在入射角度改变的条件下,透射或反射光束由于膜堆序列等效光程随角度变化,导致反射或透过的光谱偏移,从而使得光学薄膜呈现出不同的颜色。[0003]光变颜料作为新材料有着很大的开发潜力,目前已先后开发出高彩度光变颜料、同色异谱型光变颜料和全介质光变颜料等多种产品,被广泛应用于汽车、家电、美妆以及货币、有价证券、证件票据、防伪标志等尖端防伪领域。[0004]光变颜料是通过真空镀膜技术将不同的材料一层一层地沉积在镀膜基板上,然后剥离、粉碎而成,对基板的要求极其严格,而使用一次后的基板会沾染上上一次剥离后残留的各种材料、灰尘等,清洗比较困难,普通的清洗剂和洗涤材料很难将其洗涤干净,而酸性腐蚀性洗涤剂又会破坏基板表面,因此寻找一个溶解能力强、残留少的清洗剂是光变材料生产厂家的重要任务。发明内容[0005]本发明的目