偏光片及其制备方法、显示面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111025729A(43)申请公布日2020.04.17(21)申请号201911219185.4(22)申请日2019.12.03(71)申请人深圳市华星光电半导体显示技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号(72)发明人姜贝(74)专利代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司44570代理人李新干(51)Int.Cl.G02F1/1335(2006.01)G02B5/30(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称偏光片及其制备方法、显示面板(57)摘要本发明公开了一种偏光片及其制备方法、显示面板，所述偏光片包括透明基板以及设置于所述透明基板上的金属线栅层；所述金属线栅层包括间隔设置的至少两个线栅单元，每个线栅单元包括平行设置的多条金属线；其中，所述透明基板设置有透射区域以及发光区域，所述线栅单元的分布位置与所述发光区域的位置相对应。本发明实施例中，通过用设置有金属线栅的偏光片代替传统偏光片，可以使得传统偏光片上的透射区域留空，实现仅发光区域存在线栅单元，由于透射区域留空，透射区域的出光效率得以提升，进而可以大幅度提高整个显示装置的透光率。CN111025729ACN111025729A权利要求书1/1页1.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片包括：衬底以及设置于所述衬底上的金属线栅层；所述金属线栅层包括间隔设置的至少两个线栅单元，每个所述线栅单元包括平行设置的多条金属线；其中，所述衬底设置有透射区域以及发光区域，所述线栅单元的分布位置与所述发光区域的位置相对应。2.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述偏光片还包括透明封装层，所述透明封装层填充于所述至少两个线栅单元之间和/或所述多条金属线之间。3.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，每条所述金属线的宽度为50nm～150nm，高度为50nm～200nm，相邻两条所述金属线之间的距离为50nm～150nm。4.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，每个所述线栅单元的长度为500um～5000um，宽度为600um～1500um。5.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板、彩膜基板、设置在所述阵列基板上的第一偏光片、设置在所述彩膜基板上的第二偏光片，所述第一偏光片和第二偏光片为权利要求1至4中任意一项所述的偏光片。6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述发光区域的位置与所述彩膜基板的红色、绿色、蓝色子像素区域对应，所述透射区域的位置与所述彩膜基板的白色子像素区域对应。7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括量子点彩色滤光片，所述量子点彩色滤光片设置于所述彩膜基板中。8.一种偏光片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：利用电子束曝光光刻技术制备出压印模板；在衬底表面依次形成层叠的金属层和光阻层；利用所述压印模板对所述光阻层进行压印处理，以形成光阻图案；以所述光阻图案为掩模对所述金属层进行刻蚀，形成金属线栅层，所述金属线栅层包括间隔设置的至少两个线栅单元，每个所述线栅单元包括平行设置的多条金属线；去除剩余的光阻残胶，用透明材料对所述金属线栅层进行封装；从而得到所述偏光片；其中，所述衬底设置有透射区域以及发光区域，所述线栅单元的分布位置与所述发光区域的位置相对应。9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，制备压印模板包括：在基板上旋涂光阻材料并设计出纳米压印模板图案；利用电子束曝光设备在所述基板上对所述纳米压印模板图案进行选区曝光；利用显影液溶解所述曝光区域，得到光刻胶模板；对所述光刻胶模板进行刻蚀；清洗所述光刻胶模板得到所述纳米压印模板。10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述光阻材料为热固化压印胶或紫外固化压印胶。2CN111025729A说明书1/6页偏光片及其制备方法、显示面板技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种偏光片及其制备方法、显示面板。背景技术[0002]透明显示面板(TransparentDisplay)是近几年兴起的一种显示技术，因其独特的透明显示功能吸引了人们的广泛关注。透明显示技术大大扩展了显示应用的场景和范围，例如商业大楼、商品陈列柜、自动售货机、玻璃橱窗等。对于传统的液晶显示屏(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)，可以通过以下方法实现透明显示：首先，采用透明度高的材料替代或者去除原来液晶显示屏中不透明的部分。例如，用环境光代替背光源、开发透明电极材料等；其次，将显示面板的单位像素点设计成允许光通过的透射区域以及显示图像的发光区域。[0003]透明显示面板中发光区域的工作原理与普通LCD一样。阵列基板侧的偏光片与彩色滤光片侧的偏光