一种抗菌无纺布及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111826949A(43)申请公布日2020.10.27(21)申请号202010738994.2C23C14/58(2006.01)(22)申请日2020.07.28D06M101/34(2006.01)D06M101/32(2006.01)(71)申请人深圳市菩安科技有限公司D06M101/28(2006.01)地址518000广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区白石路3609号深圳湾科技生态园二区9栋101层1-A座3009A(72)发明人蒋婵(74)专利代理机构深圳市智胜联合知识产权代理有限公司44368代理人齐文剑(51)Int.Cl.D06M11/83(2006.01)C23C14/35(2006.01)C23C14/04(2006.01)C23C14/20(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图2页(54)发明名称一种抗菌无纺布及其制备方法(57)摘要本发明实施例提供了一种抗菌无纺布及其制备方法，包括：对无纺布基材进行预处理；以金属为靶材，并采用带有规则排列孔结构的掩膜对预处理后的基材进行磁控溅射处理，在基材表面形成规则排列的金属微点阵列；对基材表面的金属微点阵列进行蚀刻和/或剥离，形成圆锥形凸起微点阵列。非化学反应体系可减少化学交联剂或引发剂残留可能带来的健康危害；用金属微点阵列代替金属纳米粒子，可极大提高使用时的安全性，还可降低使用后垃圾清理过程中对环境可能造成的危害；可减少样品制备过程中对金属、尤其是贵金属的使用；以物理作用机理抗菌、抗病毒，可降低抗生素、抗菌制剂类药物的使用可能会造成的耐药性，降低超级细菌出现的概率。CN111826949ACN111826949A权利要求书1/1页1.一种抗菌无纺布的制备方法，其特征在于，包括：对无纺布基材进行预处理；以金属为靶材，并采用带有规则排列孔结构的掩膜对所述预处理后的基材进行磁控溅射处理，在所述基材表面形成规则排列的金属微点阵列；对所述基材表面的金属微点阵列进行蚀刻和/或剥离，形成圆锥形凸起微点阵列。2.根据权利要求1所述的抗菌无纺布的制备方法，其特征在于，所述以金属为靶材，并采用带有规则排列孔结构的掩膜对所述预处理后的基材进行磁控溅射处理，在所述基材表面形成规则排列的金属微点阵列的步骤，包括：将磁控溅射处理过程中的气压抽真空至0.1-1.0Pa，并对所述靶材加载4-8A的脉冲电流，处理占空比设置为20％-80％；所述处理时间设置为5-30分钟。3.根据权利要求1所述的抗菌无纺布的制备方法，其特征在于，所述对所述基材表面的金属微点阵列进行蚀刻和/或剥离，形成圆锥形凸起微点阵列的步骤，包括：缓慢通入预设气体至所述金属微点阵列表面，维持真空室内气压在0.1-1.0Pa，靶台上加载的脉冲偏压电压为5-15kV，频率为200-400Hz，进行气体离子蚀刻和/或剥离，处理时间为10-30分钟；所述预设气体包括氩气、氧气、氮气中任意一种或多种组合。4.一种抗菌无纺布，其特征在于，包括：非织面料的基材，所述基材表面设置有规则排列的金属微点阵列。5.根据权利要求4所述的抗菌无纺布，其特征在于，所述基材的材料包括尼龙、涤纶和腈纶中的一种或多种组合。6.根据权利要求4所述的抗菌无纺布，其特征在于，所述金属微点阵列中的金属设置为银，或铜，或锌。7.根据权利要求4所述的抗菌无纺布，其特征在于，所述微点阵列由至少三个微结构组成，所述微结构为圆柱体或圆锥体。8.根据权利要求7所述的抗菌无纺布，其特征在于，所述微结构为圆柱体，所述圆柱体的直径为100-400μm，孔间隙为200-800μm，高度为150～1000nm。9.根据权利要求7所述的抗菌无纺布，其特征在于，所述微结构为圆锥体，所述圆锥体的直径为200μm，椎顶直径为100-400nm，孔间隙为400μm，高度为150-1000nm。10.根据权利要求7所述的抗菌无纺布，其特征在于，所述圆锥体的直径为200μm，椎顶直径为200nm，孔间隙为400μm。2CN111826949A说明书1/6页一种抗菌无纺布及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及新材料技术领域，特别是涉及一种抗菌无纺布和一种抗菌无纺布的制备方法。背景技术[0002]无纺布，又称不织布，是由定向或随机排列的纤维组成，因具有类似布的外观而被称为布。其主要成分有聚丙烯、聚氨酯等，在工业、农业、日化和医疗行业都有广泛的应用。尤其是在医疗、卫生行业，大量无纺布被用于制造防护服、手术衣、口罩、消毒布包、擦拭布、面巾以及一次性卫生用布等。随着细菌和病菌的日益猖獗，消费者对无纺布提出的功能要求不仅限于包装和覆盖，在某些特殊场所，如医院、诊所、病患集中区域，希望无纺布具有抗菌甚至抗病毒的功能，从而为