透射电镜试样及其制备方法、待测结构的失效分析方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112179927A(43)申请公布日2021.01.05(21)申请号202010981628.X(22)申请日2020.09.17(71)申请人长江存储科技有限责任公司地址430074湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号(72)发明人郭伟(74)专利代理机构北京派特恩知识产权代理有限公司11270代理人李路遥张颖玲(51)Int.Cl.G01N23/20008(2018.01)G01N23/04(2018.01)权利要求书2页说明书14页附图13页(54)发明名称透射电镜试样及其制备方法、待测结构的失效分析方法(57)摘要本申请实施例公开了一种透射电镜试样及其制备方法、待测结构的失效分析方法，其中，所述透射电镜试样的制备方法包括：在待测结构中确定测试区域；在测试区域中确定待分析结构和待去除结构，所述待分析结构沿第一方向的两端分别与所述测试区域的边缘具有第一预设距离，所述待去除结构位于所述待分析结构沿第二方向的投影区域内，所述待分析结构朝向所述第二方向的侧面与所述待去除结构接触，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角大于0°且小于180°；去除所述待去除结构，并保留在第一方向上位于所述待去除结构两侧的至少部分所述测试区域作为支撑结构，得到透射电镜试样，其中，所述支撑结构与所述待分析结构形成一体成型的至少一个U型支架。CN112179927ACN112179927A权利要求书1/2页1.一种透射电镜试样的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在待测结构中确定测试区域；在所述测试区域中确定待分析结构和待去除结构，所述待分析结构沿第一方向的两端分别与所述测试区域的边缘具有第一预设距离，所述待去除结构位于所述待分析结构沿第二方向的投影区域内，所述待分析结构朝向所述第二方向的侧面与所述待去除结构接触，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角大于0°且小于180°；去除所述待去除结构，并保留在第一方向上位于所述待去除结构两侧的至少部分所述测试区域作为支撑结构，得到透射电镜试样，其中，所述支撑结构与所述待分析结构形成一体成型的至少一个U型支架。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述去除所述待去除结构，包括：沿第三方向，去除所述待去除结构，其中，所述第三方向垂直于所述第二方向与所述第一方向所构成的平面。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述测试区域包括叠层，所述第二方向为所述叠层的堆叠方向，所述第一方向与所述第二方向垂直，所述在所述测试区域中确定待分析结构，包括：确定所述叠层中的至少一层作为目标层；将所述目标层划分为中间区域以及位于所述中间区域两侧的边缘区域，所述中间区域和所述边缘区域沿所述第一方向并列排布，将所述中间区域确定为所述待分析结构。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述测试区域还包括衬底，所述叠层堆叠于所述衬底上；所述制备方法还包括：沿第三方向去除部分衬底以在所述衬底上形成凹槽，在所述第二方向上，通过所述凹槽暴露出至少部分所述待分析结构。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在对所述待去除结构进行去除之后，采用聚焦离子束减薄工艺对所述待分析结构进行减薄处理，以使得所述待分析结构沿所述第二方向的厚度减薄至预设厚度。6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在去除所述待去除结构之前，沿所述第三方向在所述待分析结构表面沉积保护层并暴露出所述待去除结构的表面。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述待测结构包括至少两个沿所述第一方向排布的测试区域；所述在测试区域中确定待分析结构和待去除结构，包括：在每一所述测试区域中分别确定所述待分析结构和所述待去除结构，所述待分析结构沿所述第一方向的两端分别与对应的所述测试区域的边缘具有第二预设距离，所述待去除结构位于对应的所述待分析结构沿所述第二方向的投影区域内；所述待分析结构朝向所述第二方向的侧面与对应的所述待去除结构接触；去除所述待去除结构，以得到每一所述测试区域的透射电镜试样。8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述待去除结构位于所述待分析结构在第二方向上的两侧，所述去除所述待去除结构，包括：去除位于所述待分析结构两侧的待去除结构，并保留在第一方向上位于所述待去除结构两侧的至少部分所述测试区域作为支撑结构，得到透射电镜试样，其中，所述支撑结构与2CN112179927A权利要求书2/2页所述待分析结构形成一体成型且开口方向相反的两个U型支架。9.一种待测结构的失效分析方法，其特征在于，所述方法包括：通过权利要求1至8任一项所述的制备方法对所述待测结构进行处理，以制备透射电镜试样；对所述透射电镜试样的待分析结构进行