真空处理装置用的辊筒.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112236545A(43)申请公布日2021.01.15(21)申请号201980036469.1(74)专利代理机构北京英特普罗知识产权代理(22)申请日2019.12.27有限公司11015代理人齐永红秦岩(30)优先权数据2019-0896572019.05.10JP(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2020.11.30(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2019/0513742019.12.27(87)PCT国际申请的公布数据WO2020/230360JA2020.11.19(71)申请人株式会社爱发科地址日本神奈川县(72)发明人斋藤修司权利要求书1页说明书6页附图5页(54)发明名称真空处理装置用的辊筒(57)摘要本发明提供一种真空处理装置用的辊筒，设置为尽量抑制在片状基材上产生其长度方向和宽度方向的温度分布。本发明的真空处理装置用的辊筒(CR)，其在使片状基材(Sw)在真空室(Vc)内运行的同时对基材表面实施规定的真空处理的真空处理装置(Dm)上，与实施真空处理的处理单元(Es)相对设置，卷绕有片状基材并可自由旋转，其特征在于，具有：轴体(1)；套在轴体外的内筒体(2)；留出间隙(Ds)地围绕内筒体的外筒面的外筒体(3)；以及分别封闭内筒体和外筒体的轴向两端的盖体(41，42)。各盖体具有多条流通路径(421，422)，沿轴向的各流通路径的剖面与盖体的剖面重叠，分别与各流通路径连通的内筒体和外筒体的间隙的剖面面积设置为可得到规定的流速的尺寸。CN112236545ACN112236545A权利要求书1/1页1.一种真空处理装置用的辊筒，其在使片状基材在真空室内运行的同时对基材表面实施规定的真空处理的真空处理装置上，与实施真空处理的处理单元相对设置，卷绕有片状基材并可自由旋转，其特征在于，具有：轴体；套在轴体外的内筒体；留出间隙地围绕内筒体外筒面的外筒体；以及分别封闭内筒体和外筒体轴向两端的盖体；各盖体具有多条流通路径，沿轴向的各流通路径的剖面与盖体的剖面重叠，分别与各流通路径连通的内筒体和外筒体的间隙的剖面面积设置为可得到规定的流速的尺寸。2.根据权利要求1所述的真空处理装置用的辊筒，其特征在于：所述各流通路径在周向上等间隔配置并在径向上延伸。3.根据权利要求1或2所述的真空处理装置用的辊筒，其特征在于：在所述盖体的外周侧部上以比所述间隙更大的深度在整个周向上形成有朝径向内侧凹陷的凹陷部，所述各流通路径和所述间隙经该凹陷部彼此连通。4.根据权利要求2或3所述的真空处理装置用的辊筒，其特征在于：在所述间隙上设置位于彼此相邻的各流通路径之间并轴向延伸的分流体。2CN112236545A说明书1/6页真空处理装置用的辊筒技术领域[0001]本发明涉及一种真空处理装置用的辊筒，其在使片状基材在真空室内运行的同时在基材表面实施规定的真空处理的真空处理装置上，与实施真空处理的处理单元相对设置，卷绕有片状基材并可自由旋转，具体而言，涉及一种在真空处理时，在可接收热量输入的环境中使用的辊筒。背景技术[0002]具有上述种类的辊筒的真空蒸镀装置例如在专利文献1中已知。其中，设置为在可形成真空气氛的真空室内，从送出辊连续送出片状基材，将该送出的基材卷绕在辊筒上，对卷绕在辊筒上的片状基材的部分，通过与之相对设置的处理单元实施规定的真空处理，用卷取辊卷曲已处理的片状基材。作为辊筒，具有：轴体；套在轴体外的内筒体；留出间隙地围绕内筒体的外筒面的外筒体；以及分别封闭内筒体和外筒体的轴向两端的盖体；辊筒的轴体经轴承而轴支撑在支撑体上，所述支撑体设置于真空室的壁面和真空室内。[0003]在对片状基材的部分实施规定的真空处理时，存在因来自处理单元的辐射热等而使辊筒和卷绕在其上的片状基材接收输入热量的情况。在上述以往例子中，在辊筒内部设置冷却水循环系统等冷却机构来冷却辊筒，通过与被冷却的辊筒的热交换使片状基材不会被加热到规定温度以上。这种情况下，可以考虑从轴向一侧的盖体向内筒体和外筒体之间的间隙中供给冷却水，从轴向另一侧的盖体排出冷却水，为此，在盖体中设置冷却水的流通路径。此处，如上所述，在构成辊筒时，如果考虑到对辊筒进行旋转驱动时的不良影响的话，优选在盖体内流动的冷却水的总量(体积)少。再有，由于设置在盖体中的流通路径是不参与和片状基材的热交换的部分，因此需要将盖体构成为不会导致辊筒大型化，此时，当流通路径的面积大时，相应地吸热或放热面积扩大会导致与片状基材的热交换率下降，因此也需要可对此进行尽量的抑制。[0004]现有技术文献[0005]专利文献[0006]【专利文献1】日本专利公开2010-163