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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112259564A(43)申请公布日2021.01.22(21)申请号202011188320.6(22)申请日2020.10.30(71)申请人武汉天马微电子有限公司地址430000湖北省武汉市东湖新技术开发区东一产业园流芳园路8号(72)发明人陈林豆(74)专利代理机构北京允天律师事务所11697代理人魏金霞(51)Int.Cl.H01L27/12(2006.01)H01L21/77(2017.01)G06F3/041(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图12页(54)发明名称一种显示面板及其制备方法、显示装置(57)摘要本申请公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置,其中,所述显示面板的衬底包括显示区和台阶区,在所述台阶区上设置有第一围坝和第二围坝,同时所述衬底上还设置有触控走线,所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域,所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域,位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度,以降低位于第一区域和第二区域的触控走线在制备过程中由于光刻胶残留的问题导致相邻触控走线粘连或接触等情况的出现概率,降低了所述触控走线在制备过程中出现短路问题的概率。CN112259564ACN112259564A权利要求书1/2页1.一种显示面板,其特征在于,包括:衬底,所述衬底包括显示区和与所述显示区相邻的台阶区;位于所述台阶区表面的第一围坝和第二围坝,所述第二围坝位于所述第一围坝远离所述显示区一侧,所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域,所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域,所述第二区域与所述第二围坝毗邻;位于所述衬底上,与所述第一围坝和所述第二围坝同侧的触控走线,位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线包括在所述衬底上依次层叠设置的第一走线和第二走线;所述第一走线的宽度小于所述第二走线的宽度,相邻所述第一走线之间的距离大于相邻所述第二走线之间的距离。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度与位于所述预设区域中的触控走线的宽度的差值小于5μm。4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度的取值范围为5~10μm。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:封装膜层、第一填充层和第二填充层;所述第一填充层位于所述第一区域,所述第二填充层位于所述第二区域;所述封装膜层至少覆盖所述第一围坝背离所述衬底一侧表面以及所述衬底的第一区域和第二区域表面。6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一填充层和第二填充层与覆盖所述第一围坝和所述第二围坝的封装膜层齐平。7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一填充层和第二填充层均为无机材料层。8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:位于所述第一区域的缓冲结构,所述缓冲结构的高度小于所述第一围坝的高度,且小于所述第二围坝的高度。9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述缓冲结构包括多个第一缓冲单元;每个所述第一缓冲单元包括单层有机膜层或两层以上层叠设置的有机膜层。10.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述缓冲结构包括第二缓冲单元和至少两个第三缓冲单元;至少两个所述第三缓冲单元间隔设置于所述第二缓冲单元表面。11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,至少一个所述第三缓冲单元和所述第二缓冲单元为同种材料的有机膜层。12.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底包括显示区和与所述显示区相邻的台阶区;形成位于所述台阶区表面的第一围坝和第二围坝,所述第二围坝位于所述第一围坝远离所述显示区一侧,所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域,所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域;2CN112259564A权利要求书2/2页形成位于所述衬底上,与所述第一围坝和所述第二围坝同侧的触控走线,位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度。13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述形成位于所述台阶区表面的第一围坝和第二围坝之后,还包括:形成封装膜层,所述封装膜层至少覆盖所述第一围坝背离所述衬底一侧表面。14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述形成所述封装膜层之后,所述形成位于所述衬底表面,与所述第一围坝和所述第二围坝同侧的触控走线之前还包括:形成位于所述第一区域的缓冲结构,所述缓冲结构的高度小于所述第一