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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112604617A(43)申请公布日2021.04.06(21)申请号202011352283.8(22)申请日2020.11.27(71)申请人曹果地址510000广东省广州市越秀区越秀南东园横路2号(72)发明人曹果(51)Int.Cl.B01J19/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图4页(54)发明名称一种搪玻璃设备的搪烧罐(57)摘要本发明公开了一种搪玻璃设备的搪烧罐,其结构包括底座、罐体、取料口,罐体焊接在底座顶部,取料口设置在罐体右端顶部,罐体设有反应腔、进料管、缓冲机构,反应腔位于罐体内部,进料管贯穿罐体顶部,缓冲机构安装在反应腔内底部,当固体物质通过进料管输送至罐体内部时,通过缓冲机构的弹块对掉落的物质缓冲后反弹,减小固体物质往下掉落与罐体内壁的玻璃碰撞力,减少出现玻璃剖裂的现象,有利于反应罐正常使用,由于物质卡在排气孔中时,导致排气孔堵塞而气流的扩散速度减慢,清除杆的清除块进入到排气孔中,通过半弧块将排气孔中的滞留的物质清除,有利于保持排气孔畅通,加快气流沿着排气孔扩散。CN112604617ACN112604617A权利要求书1/1页1.一种搪玻璃设备的搪烧罐,其结构包括底座(1)、罐体(2)、取料口(3),所述罐体(2)焊接在底座(1)顶部,所述取料口(3)设置在罐体(2)右端顶部,其特征在于:所述罐体(2)设有反应腔(21)、进料管(22)、缓冲机构(23),所述反应腔(21)位于罐体(2)内部,所述进料管(22)贯穿罐体(2)顶部,所述缓冲机构(23)安装在反应腔(21)内底部。2.根据权利要求1所述的一种搪玻璃设备的搪烧罐,其特征在于:所述缓冲机构(23)设有支撑环(a1)、轴承(a2)、转动圈(a3)、清除杆(a4),所述支撑环(a1)位于缓冲机构(23)底部,所述转动圈(a3)中部通过轴承(a2)衔接安装在支撑环(a1)顶部中心位置,所述清除杆(a4)固定在支撑环(a1)内壁。3.根据权利要求2所述的一种搪玻璃设备的搪烧罐,其特征在于:所述转动圈(a3)设有支撑杆(s1)、限位块(s2)、弹块(s3),所述支撑杆(s1)设在转动圈(a3)中部,所述限位块(s2)与支撑杆(s1)外壁连接为一体,所述弹块(s3)安装在支撑杆(s1)外壁,且与限位块(s2)活动配合。4.根据权利要求3所述的一种搪玻璃设备的搪烧罐,其特征在于:所述弹块(s3)设有伸缩块(d1)、支架(d2)、卡块(d3)、推条(d4)、气腔(d5)、排气孔(d6),所述伸缩块(d1)位于弹块(s3)底端,所述支架(d2)安装在伸缩块(d1)顶面,所述卡块(d3)衔接安装在支架(d2)顶部两端,所述推条(d4)连接在支架(d2)与卡块(d3)的侧面,所述气腔(d5)处于伸缩块(d1)和支架(d2)之间,所述排气孔(d6)贯穿支架(d2)顶部表面,且与气腔(d5)相连通。5.根据权利要求2所述的一种搪玻璃设备的搪烧罐,其特征在于:所述清除杆(a4)设有支撑架(r1)、内槽(r2)、推球(r3)、清除块(r4)、连接轴(r5)、弹条(r6),所述支撑架(r1)位于清除杆(a4)底部,所述内槽(r2)设在支撑架(r1)内部,所述推球(r3)设置在内槽(r2)内部,所述清除块(r4)通过连接轴(r5)衔接安装在支撑架(r1)顶部两端,所述弹条(r6)夹在清除块(r4)之间内侧。6.根据权利要求5所述的一种搪玻璃设备的搪烧罐,其特征在于:所述清除块(r4)设有块体(t1)、推块(t2)、半弧块(t3),所述块体(t1)位于清除块(r4)左侧,所述半弧块(t3)通过推块(t2)设置在块体(t1)右侧面。2CN112604617A说明书1/3页一种搪玻璃设备的搪烧罐技术领域[0001]本发明属于玻璃设备领域,更具体的说,尤其涉及到一种搪玻璃设备的搪烧罐。背景技术[0002]搪烧罐将含高二氧化硅的玻璃衬在金属反应罐内部,经过高温烧制后牢固粘在金属表面,由于搪烧罐具有稳定性等特点在化工加工领域的应用范围广泛,将化学反应物质通入到罐体内部进行反应;现有技术中将化学物质通入到搪烧罐反应时,由于部分的化学反应物为硬度大的固体,由于进料管垂直设在罐体顶部,当固体物质通过进料管输送至罐体内部时,固体物质往下掉落与罐体内壁的玻璃碰撞力大,易出现玻璃剖裂的现象,导致反应物中的液体沿着裂痕通过,对金属反应罐造成腐蚀。发明内容[0003]为了解决上述技术将化学物质通入到搪烧罐反应时,由于部分的化学反应物为硬度大的固体,由于进料管垂直设在罐体顶部,当固体物质通过进料管输送至罐体内部时,固体物质往下掉落与罐体内壁的玻璃碰撞力大,易出现玻璃剖裂的现象,导致反应物中的液体沿着裂痕通过,