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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113329982A(43)申请公布日2021.08.31(21)申请号202080010151.9(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司(22)申请日2020.04.2472002代理人曹雯黄歆(30)优先权数据10-2019-00492502019.04.26KR(51)Int.Cl.C03C17/36(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C08J7/04(2020.01)2021.07.21(86)PCT国际申请的申请数据PCT/KR2020/0054472020.04.24(87)PCT国际申请的公布数据WO2020/218880EN2020.10.29(71)申请人法国圣-戈班玻璃公司地址法国库伯瓦(72)发明人韩镇宇张银学权利要求书2页说明书8页附图4页(54)发明名称涂覆制品及其制造方法(57)摘要根据本发明的一个示例性实施方案的涂覆制品,其包含透明基材、设置在透明基材上的多层薄膜涂层和图案化区域,其中图案化区域在透明基材的至少一部分上具有以预定图案形成的搪瓷涂层,其中多层薄膜涂层包含在远离透明基材的方向上依次设置的第一介电层、具有红外线反射功能的金属功能层和第二介电层,并且图案化区域包含从多层薄膜涂层中除去第二介电层和金属功能层后留在基材上的第一介电层以及形成于第一介电层上的搪瓷涂层。CN113329982ACN113329982A权利要求书1/2页1.一种涂覆制品,其包含透明基材、设置在所述透明基材上的多层薄膜涂层和图案化区域,所述图案化区域在所述透明基材的至少一部分上具有以预定图案形成的搪瓷涂层,其中所述多层薄膜涂层包含在远离所述透明基材的方向上依次设置的第一介电层、具有红外线反射功能的金属功能层和第二介电层,并且所述图案化区域包含从所述多层薄膜涂层中除去所述第二介电层和金属功能层后留在所述基材上的第一介电层以及形成于所述第一介电层上的搪瓷涂层。2.如权利要求1所述的涂覆制品,其中所述多层薄膜涂层包含层压在所述金属功能层的上表面和下表面中的至少一个上的阻断层,以防止所述金属功能层的氧化。3.如权利要求1所述的涂覆制品,其中所述图案化区域所包含的第一介电层防止钠离子从所述透明基材中扩散。4.如权利要求1所述的涂覆制品,其中所述第一介电层包含氮化硅。5.如权利要求1所述的涂覆制品,其中所述搪瓷涂层的表面粗糙度为0.5μm以下。6.如权利要求1所述的涂覆制品,其中所述搪瓷涂层包含至少一种选自Bi和Zn的金属。7.如权利要求1所述的涂覆制品,其中所述搪瓷涂层包含黑色颜料。8.一种涂覆制品的制造方法,其包括:印刷用于形成搪瓷涂层的组合物,从而使在上面形成有多层薄膜涂层的透明基材的至少一部分上具有预定图案;和通过对在上面形成有多层薄膜涂层和用于形成搪瓷涂层的组合物的透明基材进行热处理,形成包含搪瓷涂层的图案化区域,其中所述多层薄膜涂层在远离所述透明基材方向上包含第一介电层、具有红外线反射功能的金属功能层和第二介电层,将所述金属功能层和所述第二介电层从在上面通过所述热处理形成有图案化区域的部分中去除,并且所述第一介电层留在所述搪瓷涂层和所述透明基材之间。9.如权利要求8所述的制造方法,其中所述多层薄膜涂层还包含层压在所述金属功能层的上表面和下表面中至少一个上的阻断层,以防止所述金属功能层的氧化。10.如权利要求8所述的制造方法,其中所述热处理在500℃至720℃的温度下进行。11.如权利要求8所述的制造方法,其中所述用于形成搪瓷涂层的组合物包含对所述金属功能层具有蚀刻性能的金属氧化物。12.如权利要求8所述的制造方法,其中所述金属氧化物为选自Bi2O3和ZnO中的至少一种。2CN113329982A权利要求书2/2页13.如权利要求12所述的制造方法,其中所述金属氧化物为Bi2O3,并且在用于形成搪瓷涂层的组合物所包含的全部玻璃料中,所述Bi2O3的含量为55重量%至69重量%。14.如权利要求8所述的制造方法,其包括测量所述金属功能层的电阻以确认在所述热处理过程中金属功能层的去除,并且当所述金属功能层的电阻等于或大于100Ω/m2时停止所述热处理。15.如权利要求8所述的制造方法,进一步包括在所述热处理之前干燥和预热所述用于形成搪瓷涂层的组合物。16.如权利要求8所述的制造方法,其中所述热处理为所述透明基材的回火过程。17.一种涂覆制品,其通过权利要求9至16中任一项所述的方法制造。3CN113329982A说明书1/8页涂覆制品及其制造方法技术领域[0001]本发明涉及一种涂覆制品及其制造方法。具体来说,涉及一种包含多层薄膜涂层和搪瓷涂层的涂覆制品及其制造方法。背景技术[0002]印刷的玻璃基材有多种用途,例如,在工业