一种高耐磨擦的抗指纹剂及其制备方法和应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113527989A(43)申请公布日2021.10.22(21)申请号202110637639.0(22)申请日2021.06.08(71)申请人深圳市安普检测技术服务有限公司地址518101广东省深圳市宝安区松岗街道红星社区宝安大道8728号2楼、3楼(72)发明人程臻君(74)专利代理机构广州专理知识产权代理事务所(普通合伙)44493代理人张凤(51)Int.Cl.C09D171/02(2006.01)C09D5/08(2006.01)权利要求书1页说明书6页(54)发明名称一种高耐磨擦的抗指纹剂及其制备方法和应用(57)摘要本发明属于抗指纹试剂的技术领域，具体涉及一种高耐磨擦的抗指纹剂及其制备方法和应用。所述抗指纹剂的组分包括全氟聚合物以及含氟溶剂的结合；所述全氟聚合物由包括全氟聚醚烷醇和氯硅烷或者氯硅氧烷合成制得，包括如下步骤：将全氟聚醚烷醇溶解于有机溶剂中，再滴入溶解于有机溶剂的氯硅烷或者氯硅氧烷反应，之后减压蒸馏，得到全氟聚合物产品，将全氟聚合物与含氟溶剂混合，即得到抗指纹剂产品，其含氟链段具有多样性，具有较为优异的防玷污性能、耐摩擦性能以及疏油性能和疏水性能，且易于清洁，清洁之后不易留下痕迹，其多样性使得抗指纹剂能够满足不同的使用条件，其采用直接一步法合成的制备方法，简便快捷。CN113527989ACN113527989A权利要求书1/1页1.一种高耐磨擦的抗指纹剂，其特征在于，所述抗指纹剂的组分包括全氟聚合物以及含氟溶剂的结合；12所述全氟聚合物的结构通式为Rf‑Rp‑O‑Si‑(RqO)3，其中Rf为包括CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]m、CF3O(C2F4O)m(CF2O)n、CF3O(C3F6O)m(CF2O)n、C3F7O(CF2CF2CF2O)m的一种或以上的组合，其中，m、n为整数，0≤m，n≤100；1Rp为烷基或者苯基，p为碳链个数，p≤10；2Rq为烷基，q为碳链个数，q≤10。2.由权利要求1所述的抗指纹剂，其特征在于，所述全氟聚合物由包括全氟聚醚烷醇Rf‑122Rp‑OH和氯硅烷(Rq)aSixClb或者氯硅氧烷(RqO)aSixClb合成制得，其中x、a、b均为正整数，0＜x≤8；0≤a、b≤18。3.由权利要求1所述的抗指纹剂，其特征在于，所述含氟溶剂为包括全氟己烷、全氟庚烷、全氟辛烷、全氟环醚、六氟丙烯二聚体、六氟丙烯三聚体、甲基九氟丁醚、乙基九氟丁醚以及氢氟醚的一种或以上的组合溶剂。4.由权利要求1所述的抗指纹剂，其特征在于，按质量分数计，所述抗指纹剂中的组分全氟聚合物占0.1～10％，含氟溶剂占90～99.9％。5.一种权利要求1～4任一项所述的高耐磨擦的抗指纹剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将全氟聚醚烷醇溶解于有机溶剂中，再滴入溶解于有机溶剂的氯硅烷或者氯硅氧烷，于20～70℃下反应10～25小时，之后减压蒸馏，得到全氟聚合物产品，将全氟聚合物与含氟溶剂混合，即得到抗指纹剂产品。6.由权利要求5所述的抗指纹剂的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂包括间二三氟甲苯、全氟己烷、三氯三氟乙烷、二氯甲烷、三氯甲烷、全氟(2‑正丁基四氢呋喃)以及全氟三乙基胺的一种。7.一种权利要求1～4所述的高耐磨擦的抗指纹剂的应用，其特征在于，所述抗指纹剂适于包括金属表面及其镀层、阳极氧化膜层、光学玻璃表面及其减反层、显示屏、手机屏幕、眼镜片以及陶瓷材料的应用。2CN113527989A说明书1/6页一种高耐磨擦的抗指纹剂及其制备方法和应用技术领域[0001]本发明属于抗指纹试剂的技术领域，具体涉及一种高耐磨擦的抗指纹剂及其制备方法和应用。背景技术[0002]随着智能多媒体设备的品种多样以及其广泛的使用，一般来说，常被触摸的设备屏幕表面易于留下指纹、皮肤上的油脂、汗水和化妆品的痕迹，这不仅会影响对产品的外观感受，还会影响产品的可使用性，因此，防指纹涂层应用于智能多媒体设备起着尤为关键的作用。[0003]防指纹涂层的材料一般是由含氟的聚合物组成，含氟聚合物具有疏油和低摩擦的特性，现有技术中，如专利CN201510934701.7公开了一种硅烷改性的含氟聚合物及其制备方法和防指纹涂料，其所述含氟聚合物的含氟链段类型单一，不能够满足不同的使用条件，应用方面较为局限。应用方面较为局限。[0004]还有专利CN201610223612.6公开了一种全氟聚醚改性硅烷化合物及包含其的表面处理组合物和薄膜，需要对反应物进行端基烯丙基化再硅烷化，其制备步骤较为繁杂，不利于实际中的生产，因此，开发一种制备简便、性能优异的抗指纹涂料仍然尤为关键。发明内容[0005]针对上述问题，本发明的目的在于提供一种高耐磨擦的抗指纹剂