剥除光纤涂覆层的方法及光纤.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113568103A(43)申请公布日2021.10.29(21)申请号202110906494.X(22)申请日2021.08.09(71)申请人武汉锐科光纤激光技术股份有限公司地址430000湖北省武汉市东湖开发区高新大道999号(72)发明人王进古杨闫大鹏刘晓旭张平龚勋(74)专利代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司44570代理人黄威(51)Int.Cl.G02B6/245(2006.01)G02B6/02(2006.01)权利要求书1页说明书8页附图2页(54)发明名称剥除光纤涂覆层的方法及光纤(57)摘要本发明提供了一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤，剥除光纤涂覆层的方法包括：固定光纤，光纤包括纤芯、依次围绕纤芯的包层和涂覆层，涂覆层包括沿光纤的延伸方向连接的待保留涂覆层和待去除涂覆层；在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层；在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，第二溶剂用于溶解涂覆层，第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层。通过本发明的方法能去除待去除涂覆层，并在待保留涂覆层与待去除涂覆层的交界处形成平滑的切口，能有效地改善涂覆层切口处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。CN113568103ACN113568103A权利要求书1/1页1.一种剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，包括：固定光纤，所述光纤包括纤芯、依次围绕所述纤芯的包层和涂覆层，所述涂覆层包括沿所述光纤的延伸方向连接的待保留涂覆层和待去除涂覆层；在所述待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，所述第一溶剂浸润所述待保留涂覆层；在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，所述第二溶剂用于溶解所述涂覆层，所述第一溶剂用于阻止所述第二溶剂进入到所述待保留涂覆层。2.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂之后，还包括：对所述光纤进行第一清洗处理，以去除所述光纤表面残留的所述第二溶剂；对所述光纤进行第二清洗处理，以去除所述光纤表面残留的所述第一溶剂；对所述光纤进行第三清洗处理，以去除所述光纤表面的残留物。3.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述第一溶剂包括硅油，所述第二溶剂包括丙酮。4.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述第一溶剂包括硅含氟的匹配油，所述第二溶剂包括甲苯。5.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述固定光纤，具体包括：通过夹具对所述光纤的两端进行固定，所述待去除涂覆层位于所述光纤的中部。6.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述固定光纤，具体包括：通过夹具对所述光纤的中部进行固定，所述待去除涂覆层位于所述光纤的两端中的至少一端。7.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，通过在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，使在所述待保留涂覆层与所述待去除涂覆层的交界处形成切口，所述切口的截面形状包括圆弧形。8.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述光纤包括高功率光纤。9.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂之后，还包括：干燥处理。10.一种光纤，其特征在于，由如权利要求1至9任一项所述的剥除光纤涂覆层的方法形成。2CN113568103A说明书1/8页剥除光纤涂覆层的方法及光纤技术领域[0001]本发明涉及光纤技术领域，具体涉及一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤。背景技术[0002]随着通讯技术的飞速发展，信息的传递更加频繁，这就对通讯领域提出更高要求，高效、便捷和简单化越来越深入人心，光纤自从进入应用到通讯领域，以其优越的性能得到迅速普及，这也使得光纤的需求量越来越大，光纤的剥离是其加工的一个重要环节，人们一直在研究剥离光纤的方法来适应加工需要。[0003]其中，光纤一般由纤芯、包层和涂覆层构成。在光纤加工过程中，多需要就将涂覆层剥除，然而，涂覆层切口处边界条件的变化容易导致光波泄露，这种损耗会成为光纤热效应问题的一个重要因素。现有的剥除光纤涂覆层的方法包括：光纤剥线钳剥除、刀片切除和酸蚀法，然而，光纤剥线钳剥除会造成切口处褶皱和涂覆层断裂等复杂的结构，引起涂覆层光波在切口处小空间内多次反射而且剥除残留的碎屑和灰尘很难清洁，这些颗粒变成热源从而引起切口高温；而刀片切口整齐没有褶皱，漏光面积小，温度低，但刀片剥除涂覆层的方式对操作人员的技能水平要求很高，稍有操作失误，就会损伤包层或者切口不整齐，从而包层光泄露发热或者切口发热，而且刀片切剥的效率较低，不适合大批量生产；而酸蚀法，因酸液与涂覆层因