一种连续型旋流降膜熔融结晶器.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114405050A(43)申请公布日2022.04.29(21)申请号202210044553.1(22)申请日2022.01.14(71)申请人上海东庚化工技术有限公司地址201799上海市青浦区沪青平公路9565号1幢1层A区1926室(72)发明人康小玲丁永良郑伯川郑晨李明全(74)专利代理机构上海光华专利事务所(普通合伙)31219代理人石欢欢(51)Int.Cl.B01D9/02(2006.01)B01D29/03(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图6页(54)发明名称一种连续型旋流降膜熔融结晶器(57)摘要本发明属于结晶设备领域，具体公开了一种连续型旋流降膜熔融结晶器，包括物料分布管网和若干结晶管，物料分布管网包括若干分液头，结晶管的顶部连通有旋流布膜头，旋流布膜头的内壁上设有螺旋导流槽一，旋流布膜头与分液头一一对应，且旋流布膜头与对应的分液头之间留有排空通道。本发明中，旋流布膜头能够使物料以旋流的方式进入结晶管内，以便物料具有周向初速度，减缓其径向聚集态势，而且排空通道能供结晶管内空气排出，更有利于物料形成旋流，从而进一步使得物料在结晶管壁上均匀成膜，使得结晶更加均匀，提高结晶厚度的均匀性，结晶不易脱落；并且物料以旋流方式布膜到结晶管壁上，物料流速得以提高，从而有效缩短结晶时长，提高结晶效率。CN114405050ACN114405050A权利要求书1/1页1.一种连续型旋流降膜熔融结晶器，包括物料分布管网和若干结晶管，其特征在于：所述物料分布管网包括若干分液头，所述结晶管的顶部连通有旋流布膜头，所述旋流布膜头的内壁上设有螺旋导流槽一，旋流布膜头与分液头一一对应，且旋流布膜头与对应的分液头之间留有排空通道。2.根据权利要求1所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述旋流布膜头内设有通气管，通气管的顶端设有导流台，通气管的侧壁上开设有若干通气孔。3.根据权利要求2所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述旋流布膜头的内壁上设有若干螺旋导流条一，相邻两根螺旋导流条一之间形成螺旋导流槽一，所述通气管的底端与螺旋导流条一连接。4.根据权利要求2或3所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述导流台的顶面呈球面状，且导流台的凸面朝向分液头。5.根据权利要求1所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述分液头的内壁上设有螺旋导流槽二。6.根据权利要求5所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述分液头的底端位于旋流布膜头内。7.根据权利要求4所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述旋流布膜头包括旋流部和直管部，所述螺旋导流槽一设于旋流部的内壁上，所述通气管的内径为直管部内径的1/3～1/2。8.根据权利要求7所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述导流台位于旋流部高度的1/3～1/2处，导流台靠近通气管一端的直径大于通气管的外径。9.根据权利要求1所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述结晶器还包括冷热媒导流板和若干冷热媒管，所述冷热媒导流板上开设有若干供所述结晶管贯穿的导流孔冷热媒导流板上开设有供冷热媒管插入的凹槽，所述导流孔远离凹槽的一端设有用于导流的圆倒角。10.根据权利要求1所述的连续型旋流降膜熔融结晶器，其特征在于：所述结晶管的下方设有用于收集结晶的过滤网。2CN114405050A说明书1/6页一种连续型旋流降膜熔融结晶器技术领域[0001]本发明涉及结晶设备领域，特别是涉及一种连续型旋流降膜熔融结晶器。背景技术[0002]现有降膜结晶设备中，通常采用分布器将物料或冷热媒分布到结晶管内外壁上，控制物料或冷热媒流速使其在重力作用下沿结晶管的管壁呈膜状向下流动。为了保持良好的成膜效果，物料或冷热媒的流速特别缓慢，导致结晶过程耗时长，结晶效率低下。并且，由于结晶管通常为圆管，因此，物料或冷热媒在重力作用下会呈径向聚集态势，使得物料或冷热媒分布不均，即物料或冷热媒在管壁上形成的膜在周向上不连续，导致换热面积减小，换热效率降低，结晶管径向上的结晶厚度大于周向结晶厚度，且结晶管上部的结晶厚度大于结晶管下部的结晶厚度。而随着结晶厚度的不均匀性，进一步影响了传热效果，增加结晶或熔融过程所需时长，消耗更多能量，不利于节能减排。[0003]此外，由于结晶管上结晶厚度不均，结晶受到物料从上往下的冲击作用以及结晶自身重力作用，因此，结晶易从管壁脱落，结晶重新熔化在物料中，增加结晶时长和能量损耗。并且，当脱落的结晶较大时，可能会造成结晶管拥堵，容易使得结晶包裹杂质，同时拥堵的结晶管进行发汗操作时无法排除发汗液，影响最终产品纯度。[0004]综上所述，现有降膜熔融结晶器在化工连续生产过程中，由于结晶厚度的