一种全角度ETV测量装置及测量方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114518062A(43)申请公布日2022.05.20(21)申请号202210181381.2(22)申请日2022.02.25(71)申请人中锗科技有限公司地址211299江苏省南京市溧水开发区中兴东路9号(72)发明人陶成梅峰柯尊斌(74)专利代理机构南京中律知识产权代理事务所(普通合伙)32341专利代理师李建芳(51)Int.Cl.G01B5/06(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称一种全角度ETV测量装置及测量方法(57)摘要本发明公开了一种全角度ETV测量装置及测量方法，全角度ETV测量装置，包括支撑台、转轴、第一测量靠块、第二测量靠块、支柱、安装架和测量表；支撑台表面设有滑道，滑道的横截面为留有缺口的圆形；转轴垂直安装在支撑台上、且与滑道圆心设置；第一测量靠块和第二测量靠块上均有直线状的测量边，测量边的一端均可旋转地连接在转轴上，两个测量边之间的夹角可在0～180°之间任意调整；第一测量靠块和第二测量靠块通过定位件与滑道滑动配合、且均可与滑道相对固定；支柱垂直安装在支撑台上；安装架安装在支柱上，测量表安装在安装架上。上述装置测量角万能可调，可以测量所有直径的圆片，且针对不同直径均可调整至合适的角度，提高了准确性，降低了误差。CN114518062ACN114518062A权利要求书1/1页1.一种全角度ETV测量装置，其特征在于：包括支撑台、转轴、第一测量靠块、第二测量靠块、支柱、安装架和测量表；支撑台表面为水平结构，支撑台表面设有滑道，滑道不高出支撑台表面，滑道的横截面为留有缺口的圆形；转轴垂直安装在支撑台上，转轴的轴心与滑道的圆心重合；第一测量靠块和第二测量靠块上均有直线状的测量边，第一测量靠块测量边的一端和第二测量靠块测量边的一端均可旋转地连接在转轴上，第一测量靠块的测量边和第二测量靠块的测量边之间的夹角可在0～180°之间任意调整；第一测量靠块和第二测量靠块上均有定位件，第一测量靠块上的定位件和第二测量靠块上的定位件均与滑道滑动配合、且均可与滑道相对固定；支柱垂直安装在支撑台上，滑道上缺口两端的连线与支柱轴心和转轴轴心之间的连线相互垂直；安装架安装在支柱上，测量表安装在安装架上。2.如权利要求1所述的全角度ETV测量装置，其特征在于：第一测量靠块和第二测量靠块为形状相同、大小相等、且相对设置的直角三角形状，第一测量靠块的斜边和第二测量靠块的斜边相向设置、且为测量边。3.如权利要求1或2所述的全角度ETV测量装置，其特征在于：滑道为滑槽，滑槽贯通支撑台的厚度方向；定位件为定位螺栓，定位螺栓的底部可从滑槽底部穿出、并用螺母固定。4.如权利要求3所述的全角度ETV测量装置，其特征在于：第一测量靠块和第二测量靠块上设有位置相对的螺纹通孔，定位螺栓螺纹配合在对应的螺纹通孔内侧，定位螺栓伸入滑槽内、且可在滑槽内任意滑动，定位螺栓的底部可从滑槽底部穿出、并用螺母固定。5.如权利要求4所述的全角度ETV测量装置，其特征在于：滑道正对的支撑台底部留有操作凹槽。6.如权利要求1或2所述的全角度ETV测量装置，其特征在于：缺口的长度小于与滑道同直径圆的1/3周长。7.如权利要求1或2所述的全角度ETV测量装置，其特征在于：支撑台、转轴、第一测量靠块和第二测量靠块均采用不锈钢材料；支柱为高度可调结构，安装架为长度可调结构。8.一种圆片ETV的测量方法，利用权利要求1‑7任意一项所述的全角度ETV测量装置测量，其特征在于：包括如下步骤：1)将待测圆片置于第一测量靠块的测量边和第二测量靠块的测量边之间，调整第一测量靠块的测量边和第二测量靠块的测量边之间的夹角至与待测圆片的直径相适应，第一测量靠块和第二测量靠块旋转时，定位件始终与滑道滑动配合；2)将第一测量靠块和第二测量靠块上的定位件均与滑道相对固定，旋转待测圆片，并利用测量表测量，待测圆片在旋转过程中，始终同时靠合在第一测量靠块的测量边和第二测量靠块的测量边上。9.如权利要求8所述的圆片ETV的测量方法，其特征在于：步骤1)中，同一个测量角一次测量数量大于100片后，将测量角调整±1～±5°，其中，测量角指第一测量靠块的测量边和第二测量靠块的测量边之间的夹角。2CN114518062A说明书1/4页一种全角度ETV测量装置及测量方法技术领域[0001]本发明涉及一种全角度ETV测量装置及测量方法，属于锗硅等红外透镜、窗口圆片加工中的ETV检测技术领域。背景技术[0002]随着热成像技术应用的兴起，半导体材料被广泛应用，其中最常使用的锗、硅材料被大量生产。随着科技的进步，国内外客户对红外锗硅透镜以及窗口圆片的ETV加工精度要求越来越高。ETV测量为测量圆片边缘同一间隔的厚度差。现有ET