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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114659456A(43)申请公布日2022.06.24(21)申请号202011547992.1(22)申请日2020.12.23(71)申请人中国科学院微电子研究所地址100029北京市朝阳区北土城西路3号申请人真芯(北京)半导体有限责任公司(72)发明人鲁容硕张月杨涛卢一泓田光辉(74)专利代理机构北京天达知识产权代理事务所(普通合伙)11386专利代理师程虹(51)Int.Cl.G01B11/14(2006.01)G01S17/08(2006.01)G05D3/12(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图1页(54)发明名称一种软刷辊轴间距检测装置、调整系统及方法(57)摘要本发明涉及一种软刷辊轴间距检测装置、调整系统及方法,属于半导体制造工艺技术领域,解决了现有技术中对辊轴软刷距离的调整需要通过人工完成,耗费人工,人均生产效率低;软刷辊轴间距调整不及时造成刷洗效果降低,颗粒残留;个人操作不当带来软刷辊轴间距调整不准确,软刷辊对晶圆受力异常而导致晶圆弯曲变形和破损的问题。本发明的软刷辊轴间距检测装置,包括:探测器,所述探测器与晶圆中心的连线位于晶圆径向上,探测器与晶圆中心的连线与一对软刷辊轴所在的平面的夹角为60‑90度;所述探测器对软刷辊轴间距进行测量。实现了半导体生产工艺中刷洗模块的软刷滚轴间距的自调整。CN114659456ACN114659456A权利要求书1/1页1.一种软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,包括:探测器,所述探测器与晶圆中心的连线位于晶圆径向上;所述探测器与晶圆中心的连线与软刷辊轴所在平面的夹角为60‑90度;所述探测器用于测量软刷辊轴间距。2.根据权利要求1所述软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,所述探测器为视频测量仪,所述视频测量仪通过视频成像对软刷辊轴间距进行测量。3.根据权利要求1所述软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,所述探测器为光学探测器;所述检测装置还包括光学发射器,所述光学发射器与晶圆中心的连线位于晶圆径向上,所述光学发射器与晶圆中心的连线与软刷辊轴所在的平面的夹角为60‑90度。4.根据权利要求3所述软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,所述光学探测器为红外探测器或紫外探测器;所述光学发射器为红外发射器或紫外发射器。5.根据权利要求4所述软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,所述晶圆的清洗剂中加入成像添加剂。6.根据权利要求5所述软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,所述成像添加剂为异丙醇,所述红外探测器检测的红外光波数为ν=954cm‑1和ν=818cm‑1。7.根据权利要求5所述软刷辊轴间距检测装置,其特征在于,所述成像添加剂为芳香族有机化合物,所述紫外发射器发射230‑270nm的紫外光。8.一种软刷辊轴间距调整系统,其特征在于,包括检测单元、处理单元和调整单元;所述检测单元与所述处理单元相连,所述处理单元与所述调整单元相连;所述检测单元为权利要求1至7所述的软刷辊轴间距检测装置;所述检测单元将检测信号传送至处理单元,处理单元将指令信号传送至调整单元。9.根据权利要求8所述软刷辊轴间距调整系统,其特征在于,所述处理单元包括服务器和可视化桌面操作系统;所述服务器将接收到的检测单元发送的信息通过可视化桌面操作系统进行显示,并计算得到软刷辊轴间距调整的准确目标值。10.根据权利要求8所述软刷辊轴间距调整系统,其特征在于,所述调整单元包括编码器和驱动器,所述编码器与处理单元和驱动器相连,将处理单元发出的数字信号转化为模拟信号,发送给驱动器。11.根据权利要求10所述软刷辊轴间距调整系统,其特征在于,所述驱动器与软刷相连,驱动器通过施加机械力或电磁力实现软刷辊轴间距调整。12.一种软刷辊轴间距调整方法,其特征在于,使用权利要求8至10所述的软刷辊轴间距调整系统,包括:检测单元检测软刷辊轴间距,对软刷辊轴间距进行实时监测,并将检测数据传送至处理单元;处理单元根据检测数据计算得到软刷辊轴间距调整的准确目标值;处理单元发出调整信号至调整单元;调整单元完成对软刷辊轴间距的调整。2CN114659456A说明书1/7页一种软刷辊轴间距检测装置、调整系统及方法技术领域[0001]本发明涉及半导体制造工艺技术领域,尤其涉及一种软刷辊轴间距检测装置、调整系统及方法。背景技术[0002]随着半导体工艺的逐步进步,近来半导体工艺对颗粒的要求程度非常严格,芯片图案的缩小使得以前没有问题的微小颗粒,在现在精细的半导体生产工艺中产生多种不良反应。在化学机械抛光CMP中,进行研磨抛光时产生的颗粒及污泥附着在晶圆上,若在清洁腔室的清洁环节中不能将之有效去除,可能会诱发芯片图案动作特性上的致命缺陷。特别是,以前不会导致问题的微小颗粒正在引发多种不良反应,因此