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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115121536A(43)申请公布日2022.09.30(21)申请号202210728653.6(22)申请日2022.06.24(71)申请人广东中图半导体科技股份有限公司地址523000广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号(72)发明人赵伍林陈志勤康凯张剑桥(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332专利代理师王士强(51)Int.Cl.B08B3/08(2006.01)B08B3/04(2006.01)B08B1/02(2006.01)B08B7/00(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图3页(54)发明名称一种压印模板清洗回收方法及清洗回收装置(57)摘要本发明涉及微纳米器件制造技术领域,具体公开了一种压印模板清洗回收方法及清洗回收装置。该压印模板清洗回收方法包括如下步骤:S1、将压印模板进行先升温、后降温的热处理,以使压印模板上的残留物与压印模板产生间隙;S2、将压印模板放入到浸润液中浸泡,以溶解掉压印模板上的残留物;S3、将压印模板放置于槽体内,通过吸取机构吸取压印模板;并通过清洁机构对压印模板进行刷洗,以使压印模板与残留物分离;通过液体管路滴出清洗液,以浸润压印模板。本发明中的压印模板清洗回收方法在使用上简单方便,使得压印模板能够进行回收,以使压印模板能够重复使用,以此有利于报废成本的减少。同时,在压印模板清洗后,产品稳定性及一致性更好。CN115121536ACN115121536A权利要求书1/2页1.一种压印模板清洗回收方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、将压印模板(4)进行先升温、后降温的热处理,以使所述压印模板(4)上的残留物与所述压印模板(4)产生间隙;S2、将所述压印模板(4)放入到浸润液中浸泡,以溶解掉所述压印模板(4)上的所述残留物;S3、将所述压印模板(4)放置于槽体(1)内,通过吸取机构(2)吸取所述压印模板(4);并通过清洁机构(3)对所述压印模板(4)进行刷洗,以使所述压印模板(4)与所述残留物分离;其中,通过液体管路滴出清洗液,以浸润所述压印模板(4)。2.根据权利要求1所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,在步骤S1中,所述压印模板(4)升温后的温度范围为150~180℃,且升温过程耗时小于5min,并使所述压印模板(4)保温5~10min;所述压印模板(4)降温后的温度范围为10~15℃,且降温过程耗时8~10min。3.根据权利要求1所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,在步骤S1中,对所述压印模板(4)的先升温、后降温的热处理过程进行循环操作,且循环次数大于3次。4.根据权利要求1所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,所述压印模板(4)在所述浸润液中浸泡的时间大于15min。5.根据权利要求1所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,在步骤S3之后,还包括如下步骤:S4、将所述压印模板(4)放入到防粘液中浸泡,并对浸泡后的所述压印模板(4)进行烘烤,以使所述压印模板(4)进行防粘处理。6.根据权利要求5所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,所述压印模板(4)在所述防粘液中的浸泡时间大于20min;所述压印模板(4)在浸泡后的烘烤温度范围为60~80℃,且烘烤时间范围为50~70min。7.根据权利要求5所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,所述防粘液为含氟有机分子溶液。8.根据权利要求1所述的压印模板清洗回收方法,其特征在于,所述浸润液为苯溶液或甲苯溶液或乙醚溶液或氯仿溶液或二氯甲烷溶液或四氯化碳溶液。9.一种清洗回收装置,用于清洗回收所述压印模板(4),其特征在于,所述清洗回收装置使用于如权利要求1~8任一项所述的压印模板清洗回收方法中,所述清洗回收装置包括所述槽体(1)以及:所述吸取机构(2),所述吸取机构(2)设于所述槽体(1)内,用于吸取所述压印模板(4);所述清洁机构(3),所述清洁机构(3)间隔设于所述压印模板(4)的上方;所述清洁机构(3)包括第一支撑臂(31)、所述液体管路、第一旋转电机(32)和毛刷(33),所述第一旋转电机(32)设于所述第一支撑臂(31)上;所述第一旋转电机(32)的驱动端连接所述毛刷(33),用于驱动所述毛刷(33)旋转,以刷洗所述压印模板(4);所述液体管路的开口设于所述毛刷(33)内,用于滴出所述清洗液。10.根据权利要求9所述的清洗回收装置,其特征在于,所述吸取机构(2)包括第二支撑臂(21)、第二旋转电机(22)和真空吸盘(23),所述第二旋转电机(22)设于所述第二支撑臂(21)上;所述第二旋转电机(22)的驱动端连接所述真空吸盘(23),用于驱动所述真空吸盘2CN115121536A