一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115555340A(43)申请公布日2023.01.03(21)申请号202211318888.4(22)申请日2022.10.26(71)申请人安徽晶天新能源科技有限责任公司地址243000安徽省马鞍山市承接产业转移示范园区北京大道嘉善科技园(72)发明人刘君余江湖郑松(51)Int.Cl.B08B3/10(2006.01)B08B1/02(2006.01)F26B21/00(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图3页(54)发明名称一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置(57)摘要本发明公开了一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，该硅片加工同步直线输送装置旨在解决现在的硅片抛光加工后表面残留的抛光液与废渣混合物会影响硅片的外观和使用性能的技术问题。该硅片加工同步直线输送装置包括水箱、沿水箱长度方向设置于水箱上方的输送机构。该硅片加工同步直线输送装置采用具有多级进出水箱的输送机构，令抛光加工后的硅片可以实现在水中的二次浸泡清洁，输送机构两端可对接硅片的加工处理机构，完美适配于当下的流水线生产作业，配合可切换的硅片锁定机构，不会出现清洁死角，利用水箱中的低频共振仪令进入水体的硅片持续受到水体的撞击作用，硅片表面的杂质和废渣更容易剥离。CN115555340ACN115555340A权利要求书1/2页1.一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，该硅片加工同步直线输送装置包括水箱(1)、沿水箱(1)长度方向设置于所述水箱(1)上方的输送机构(3)；其特征在于，所述水箱(1)前后两端对称安装有低频共振仪(2)，所述低频共振仪(2)的输出元件设置于所述水箱(1)内侧，所述输送机构(3)由传动皮带形式的水平进料部(4)、水平出料部(5)、一级水平处理部(6)、二级水平处理部(7)、切换定位水平部(8)、一级下沉进水部(9)、一级上升出水部(10)、二级下沉进水部(11)和二级上升出水部(12)组成，所述水平进料部(4)设置于所述水箱(1)左端上侧，所述水平出料部(5)设置于所述水箱(1)右端上侧，所述一级水平处理部(6)和所述二级水平处理部(7)均设置于所述水箱(1)内侧，所述一级水平处理部(6)和所述二级水平处理部(7)设置于所述低频共振仪(2)的输出元件上方，所述水箱(1)中间上方设置有切换定位水平部(8)，所述水平进料部(4)与所述一级水平处理部(6)之间设置有一级下沉进水部(9)，所述一级水平处理部(6)与所述切换定位水平部(8)之间设置有一级上升出水部(10)，所述切换定位水平部(8)与所述二级水平处理部(7)之间设置有二级下沉进水部(11)，所述二级水平处理部(7)与所述水平出料部(5)之间设置有二级上升出水部(12)，所述输送机构(3)上侧设置有定位盘(13)，所述定位盘(13)上端十字对称分布有四组一号定位销(14)和四组二号定位销(15)，所述一号定位销(14)和所述二号定位销(15)呈间隔交错设置。2.根据权利要求1所述的一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，其特征在于，所述输送机构(3)左右两端安装有支撑于地面的外支架(16)，所述输送机构(3)中间安装有支撑于所述水箱(1)内侧的内支架(17)，所述外支架(16)和内支架(17)均连接于所述输送机构(3)外部的壳体结构上。3.根据权利要求1所述的一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，其特征在于，所述水箱(1)上端左右对称安装有门架(18)，所述门架(18)上端安装有驱动机构(19)，所述驱动机构(19)的动力执行元件底端安装有清洁刷(20)，所述清洁刷(20)设置于所述一级水平处理部(6)上方，另一所述清洁刷(20)设置于所述二级水平处理部(7)上方。4.根据权利要求1所述的一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，其特征在于，所述水箱(1)前后两端对称安装有立架(21)，所述立架(21)上端安装有热风机构(22)，所述热风机构(22)对称设置于所述切换定位水平部(8)前后两侧。5.根据权利要求1所述的一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，其特征在于，所述定位盘(13)下端相对于中心对称安装有两组胶头插杆(23)，所述输送机构(3)的传动皮带表面设置有若干插孔(24)，所述胶头插杆(23)设置于所述插孔(24)内侧。6.根据权利要求1所述的一种具有浸泡清洁功能的硅片加工同步直线输送装置，其特征在于，所述定位盘(13)上端辐射状开设有八组滑槽(25)，所述一号定位销(14)和所述二号定位销(15)下端均设置于相对应的所述滑槽(25)内侧，所述一号定位销(14)和所述二号定位销(15)朝向所述定位盘(13)圆心一侧设置有橡胶垫(26)。