一种光伏硅片超声清洗设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112427394A(43)申请公布日2021.03.02(21)申请号202011118153.8(22)申请日2020.10.19(71)申请人苏州殷绿勒精密机械科技有限公司地址215000江苏省苏州市相城区望亭镇迎湖村中心南路3号(72)发明人何平(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)B08B13/00(2006.01)H01L31/18(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种光伏硅片超声清洗设备(57)摘要本发明公开了一种光伏硅片超声清洗设备，包括输送装置，所述输送装置包括倾斜支架、安装在倾斜支架上表面的滚筒以及设置在倾斜支架上的漏水孔，所述滚筒的上方设有清灰喷水管，所述输送装置的较低端下方设有超声波清洗池,所述超声波清洗池远离输送装置的一侧上方设有增高部，所述超声波清洗池的内部两侧均安装有超声波发生器，所述输送装置的下方设有废水池，且废水池与超声波清洗池一体成型，本发明设置了倾斜的输送装置，并且在倾斜的输送装置上方设置了清洗水管，进而可边传送边清洗，物料可自行掉入超声波清洗池的内部，整体过程自动化，清洗方便，本发明设置了废水池，废水池可储存清洗废水，避免废水堆积在其他位置。CN112427394ACN112427394A权利要求书1/1页1.一种光伏硅片超声清洗设备，包括输送装置(5)，其特征在于：所述输送装置(5)包括倾斜支架(52)、安装在倾斜支架(52)上表面的滚筒(51)以及设置在倾斜支架(52)上的漏水孔(53)，所述滚筒(51)的上方设有清灰喷水管(4)，所述输送装置(5)的较低端下方设有超声波清洗池(7),所述超声波清洗池(7)远离输送装置(5)的一侧上方设有增高部(72)。2.根据权利要求1所述的一种光伏硅片超声清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗池(7)的内部两侧均安装有超声波发生器(71)。3.根据权利要求1所述的一种光伏硅片超声清洗设备，其特征在于：所述输送装置(5)的下方设有废水池(6)，且废水池(6)与超声波清洗池(7)一体成型。4.根据权利要求1所述的一种光伏硅片超声清洗设备，其特征在于：所述输送装置(5)与超声波清洗池(7)的上方设有提料装置(2)。5.根据权利要求4所述的一种光伏硅片超声清洗设备，其特征在于：所述提料装置(2)包括转杆(21)，转杆(21)位于超声波清洗池(7)的一侧圆周外部设置有螺纹部(23)，且螺纹部(23)上螺纹连接有螺母(22)，螺母(22)的下表面安装有伸缩缸(24)。6.根据权利要求5所述的一种光伏硅片超声清洗设备，其特征在于：所述转杆(21)的两端安装有支架(1)，且支架(1)与转杆(21)之间通过轴承转动连接。7.根据权利要求5所述的一种光伏硅片超声清洗设备，其特征在于：所述伸缩缸(24)的下端固定有抓夹(25)，抓夹(25)包括安装架(251)，且安装架(251)的两侧均安装有夹取缸(252)。2CN112427394A说明书1/3页一种光伏硅片超声清洗设备技术领域[0001]本发明涉及超声波清洗技术领域，具体是一种光伏硅片超声清洗设备。背景技术[0002]光伏是太阳能光伏发电系统的简称，是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应，将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统，其中所使用的半导体器件生产中硅片须经严格清洗。目前，一般采用超声波清洗机来清洗硅片，清洗槽上开有去离子水进水口和出水口，清洗槽中保持有一定量的去离子水，并且去离子水始终处于流动状态，用水量较大。[0003]光伏硅片在进行清洗时一般采用超声波清洗装置进行清洗，但是其体积较大，一般人直接喂入清洗设备内部较为麻烦，并且清洗前没有预清洗装置。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种光伏硅片超声清洗设备，以解决现有技术中一般人直接喂入清洗设备内部较为麻烦，并且清洗前没有预清洗装置的问题。[0005]为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种光伏硅片超声清洗设备，包括输送装置，所述输送装置包括倾斜支架、安装在倾斜支架上表面的滚筒以及设置在倾斜支架上的漏水孔，所述滚筒的上方设有清灰喷水管，所述输送装置的较低端下方设有超声波清洗池,所述超声波清洗池远离输送装置的一侧上方设有增高部。[0006]优选的，所述超声波清洗池的内部两侧均安装有超声波发生器。[0007]优选的，所述输送装置的下方设有废水池，且废水池与超声波清洗池一体成型。[0008]优选的，所述输送装置与超声波清洗池的上方设有提料装置。[0009]优选的，所述提料装置包括转杆，转杆位于超声波清洗池的一侧圆周外部设置有螺纹部，且螺纹部上螺纹连接有螺母，螺母的下表面安装有伸缩缸。[0010]优选的，所述转杆的两端安