喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102078852A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102078852A(43)申请公布日2011.06.01(21)申请号200910310740.4(22)申请日2009.12.01(71)申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人郑振兴(51)Int.Cl.B05D1/32(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法(57)摘要一种喷涂遮蔽结构，用于对工件的非喷涂面进行遮蔽，工件包括自喷涂面凹陷的凹槽，凹槽的底面为非喷涂面，喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面，第一遮蔽件可收容于凹槽并使遮蔽面朝向凹槽的底面，第二遮蔽件具有与第一遮蔽件的抵持面配合的抵顶面，抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与凹槽的底面边缘的轮廓形状相同。上述喷涂遮蔽结构通过抵持面及抵顶面形成的缝隙对涂料产生吸附作用而吸附部分涂料，这样可减少或避免涂料自凹槽与第一遮蔽件、第二遮蔽件之间缝隙而流至底面，从而提高喷涂质量。CN102785ACCNN110207885202078855A权利要求书1/1页1.一种喷涂遮蔽结构，用于对工件的非喷涂面进行遮蔽，工件包括自喷涂面凹陷的凹槽，所述凹槽的底面为非喷涂面，所述喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件，所述第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述遮蔽面朝向所述凹槽的底面，其特征在于：所述喷涂遮蔽结构还包括第二遮蔽件，所述第二遮蔽件具有与第一遮蔽件的抵持面配合的抵顶面，所述抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与所述凹槽的底面边缘的轮廓形状相同。2.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述抵持面与抵顶面为平面。3.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘垂直延伸的侧壁。4.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述第二遮蔽件自抵顶面边缘延伸的侧壁，所述侧壁与所述抵顶面的夹角小于90度。5.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘延伸的侧面及与抵顶面相对的顶面，所述顶面部分凹陷形成有收容槽。6.一种喷涂遮蔽方法，用于对工件喷涂时的非喷涂面进行遮蔽，包括以下步骤：提供一工件，工件包括自喷涂面凹陷的凹槽，凹槽具有底面，所述底面为非喷涂面；提供一喷涂遮蔽结构，所述喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，所述第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述遮蔽面朝向所述凹槽的底面，所述第二遮蔽件具有与抵持面配合的抵顶面，所述抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与所述底面边缘的轮廓形状相同；将第一遮蔽件放置于工件的凹槽，使所述遮蔽面朝向该凹槽的底面，抵持面边缘与凹槽底面的边缘平齐；将第二遮蔽件放置于第一遮蔽件上，使抵顶面与抵持面贴合，且抵顶面边缘与抵持面边缘平齐。7.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述抵持面与抵顶面为平面。8.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘垂直延伸的侧壁。9.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述第二遮蔽件自抵顶面边缘延伸的侧壁，所述侧壁与所述抵顶面的夹角小于90度。10.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘延伸的侧面及与抵顶面相对的顶面，所述顶面部分凹陷形成有收容槽。2CCNN110207885202078855A说明书1/3页喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法技术领域[0001]本发明涉及一种喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法。背景技术[0002]一般消费型电子产品如手机或计算机等外壳通常进行外表面的喷涂以达到美化外壳的装饰目的。电子产品的外壳通常会设有凹槽以安装其它组件或用于划分出不同喷漆区域。当凹槽的底部无需喷涂时，需采用对应的遮蔽件加以遮蔽，以便于喷涂。[0003]常用喷涂遮蔽方法采用与凹槽底面形状相同的遮蔽件放置于凹槽内，遮蔽件覆盖于凹槽底面以防止喷涂时将涂料喷至凹槽底面。然而，由于加工精度的限制，遮蔽件和凹槽不能完全贴合，必然存在微小的缝隙。喷涂时，当工件表面的涂层厚度较大时，单位面积的喷涂量也较大，此时会有较多涂料喷涂至遮蔽件上，而遮蔽件和凹槽侧壁之间的缝隙由于毛细现象而对涂料产生吸附力，从而将涂料沿凹槽的侧壁吸附至凹槽底面，使凹槽的底面被涂覆上涂料，降低了产品的喷涂质量。发明内容[0004]鉴于上述状况，有必要提供一种可提高喷涂质量的喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法。[0005]一种