衬底的抛光装置及其抛光的衬底.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102172885A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102172885A(43)申请公布日2011.09.07(21)申请号201110034139.4(22)申请日2011.01.31(71)申请人北京通美晶体技术有限公司地址101113北京市通州区工业开发区东二街四号(72)发明人王冰李海淼周铁军刘建志李雪峰刘文森(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002代理人王莹(51)Int.Cl.B24B39/06(2006.01)H01L21/02(2006.01)H01L29/06(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图2页(54)发明名称衬底的抛光装置及其抛光的衬底(57)摘要本发明公开了一种衬底的抛光装置，包括：中心齿圈(3)、外齿圈(4)、环形上盘(1)、环形下盘(2)、下盘抛光布(8-2)；平放在贴有下盘抛光布(8-2)的下盘(2)上表面的一个或多个圆形游星轮(5)，具有用于放置衬底(7)的一个或多个孔；以及布置在下盘抛光布(8-2)与下盘(2)之间具有预定均匀厚度的第一环形背垫(9)，所述第一环形背垫(9)的内沿半径大于所述下盘(2)的内沿半径，所述第一环形背垫(9)的外沿半径小于所述下盘(2)的外沿半径。应用本发明所述的抛光装置，通过在下盘抛光布与下盘之间增加第一环形背垫，使衬底中心和边缘的化学机械抛光作用达到平衡。本发明还公开了一种高平整度的衬底。CN102785ACCNN110217288502172887A权利要求书1/2页1.一种衬底的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括：分别由电动机驱动旋转的中心齿圈(3)和外齿圈(4)；在中心齿圈(3)带动下旋转并用于对衬底(7)施加压力(6)的环形上盘(1)；由电动机驱动旋转并用于承载衬底(7)的环形下盘(2)；粘贴到下盘(2)上表面的下盘抛光布(8-2)，用于对衬底(7)进行抛光；平放在贴有下盘抛光布(8-2)的下盘(2)上表面的一个或多个圆形游星轮(5)，所述游星轮(5)在中心齿圈(3)和外齿圈(4)的带动下旋转，具有用于放置衬底(7)的一个或多个孔；以及布置在下盘抛光布(8-2)与下盘(2)之间具有预定均匀厚度的第一环形背垫(9)，所述第一环形背垫(9)的内沿半径大于所述下盘(2)的内沿半径，所述第一环形背垫(9)的外沿半径小于所述下盘(2)的外沿半径，用于使衬底(7)中心和边缘的化学机械抛光作用达到平衡。2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置进一步包括：粘贴到上盘(1)下表面的上盘抛光布(8-1)，所述上盘抛光布(8-1)和下盘抛光布(8-2)一起用于对衬底进行抛光。3.一种衬底的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括：分别由电动机驱动旋转的中心齿圈(3)和外齿圈(4)；在中心齿圈(3)带动下旋转并用于对衬底(7)施加压力(6)的环形上盘(1)；由电动机驱动旋转并用于承载衬底(7)的环形下盘(2)；粘贴到上盘(1)下表面的上盘抛光布(8-1)和粘贴到下盘(2)上表面的下盘抛光布(8-2)，所述上盘抛光布(8-1)和下盘抛光布(8-2)一起用于对衬底进行抛光；平放在贴有下盘抛光布(8-2)的下盘(2)上表面的一个或多个圆形游星轮(5)，所述游星轮(5)在中心齿圈(3)和外齿圈(4)的带动下旋转，具有用于放置衬底(7)的一个或多个孔；以及布置在上盘抛光布(8-1)与上盘(1)之间具有预定均匀厚度的第二环形背垫，所述第二环形背垫的内沿半径大于所述上盘(1)的内沿半径，所述第二环形背垫的外沿半径小于所述上盘(1)的外沿半径，用于使衬底(7)中心和边缘的化学机械抛光作用达到平衡。4.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置进一步包括：布置在下盘抛光布(8-2)与下盘(2)之间具有预定均匀厚度的第一环形背垫(9)，所述第一环形背垫(9)的内沿半径大于所述下盘(2)的内沿半径，所述第一环形背垫(9)的外沿半径小于所述下盘(2)的外沿半径，所述第一环形背垫(9)和所述第二环形背垫一起用于使衬底(7)中心和边缘的化学机械抛光作用达到平衡。5.根据权利要求1-4中任一项所述的抛光装置，其特征在于，所述第一环形背垫(9)和/或所述第二环形背垫为聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚苯乙烯以及其他树脂制成的薄膜之一。6.根据权利要求1-4中任一项所述的抛光装置，其特征在于，所述上盘(1)施加的压力(6)为0.1-0.6公斤/平方厘米；所述下盘(2)逆时针旋转，转速为30-60转/分钟；所述中心齿圈(3)和上盘(1)顺时针旋转，转速为10-15转/分钟；所述外齿圈(4)逆时针旋2CCNN110217288502172887A权利要求书2/2页转，转速为25-30转/分钟；所述